一种缓存装置及设有该缓存装置的涂胶显影机 |
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| 申请号 | CN201620433712.7 | 申请日 | 2016-05-11 | 公开(公告)号 | CN205608389U | 公开(公告)日 | 2016-09-28 |
| 申请人 | 重庆京东方光电科技有限公司; 京东方科技集团股份有限公司; | 发明人 | 汪直超; 宋翔宇; 关永兵; 刘丙强; 曹坤; | ||||
| 摘要 | 本实用新型涉及集成 电路 生产设备技术领域，尤其涉及一种缓存装置及设有该缓存装置的涂胶显影机。缓存装置包括 框架 和设于所述框架内沿其高度方向依次设置的多层 支撑 板，所述支撑板用于放置待曝光的 基板 ，所述框架上相应地设有多层支撑部件，每层所述支撑板均滑动地安装于所述支撑部件上。本实用新型提供的缓存装置缩短了维护保养的时间，提高了工作效率以及设备的稼动率。 | ||||||
| 权利要求 | 1.一种缓存装置，包括框架和设于所述框架内沿其高度方向依次设置的多层支撑板，所述支撑板用于放置待曝光的基板，其特征在于:所述框架上相应地设有多层支撑部件，每层所述支撑板均滑动地安装于所述支撑部件上。 |
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| 说明书全文 | 一种缓存装置及设有该缓存装置的涂胶显影机技术领域[0001]本实用新型涉及集成电路生产设备技术领域，尤其涉及一种缓存装置及设有该缓存装置的涂胶显影机。 背景技术[0002] 在TFT-LCD行业涂胶显影制程工艺中，由于曝光设备的造价非常高，因此在曝光设备前设置缓存装置放置基板来避免曝光设备的闲置，缓存装置的两侧都需要机械手进行来进行取放基板，缓存装置长时间使用会存在异物，异物附着在基板上会影响后续基板的曝光，为避免缓存装置对基板的曝光造成影响，需要定期维护保养缓存装置。目前缓存装置的设计均是采用将多层固定支架全部采用螺丝固定在4个竖直的立柱上，每层固定支架上方设有多个支撑柱，基板放置在支撑柱上，这样在进行设备保养维护时就必须花费大量时间来进行拆装，需要浪费大量的人力，并且造成曝光设备的长时间闲置。实用新型内容 [0003](一)要解决的技术问题 [0004]本实用新型要解决的技术问题是解决现有技术中缓存装置维护保养不方便的技术问题。 [0005] (二)技术方案 [0006]为了解决上述技术问题，本实用新型提供了一种缓存装置，包括框架和设于所述框架内沿其高度方向依次设置的多层支撑板，所述支撑板用于放置待曝光的基板，所述框架上相应地设有多层支撑部件，每层所述支撑板均滑动地安装于所述支撑部件上。 [0007]根据本实用新型，所述框架上拿取所述基板的一侧设有锁定机构，用于固定所述支撑板。 [0008]根据本实用新型，所述框架上与设有锁定机构的一侧相对的一侧设有限位挡板。 [0010]根据本实用新型，所述锁定机构包括通过合页固定于所述框架上的前挡板。[0011 ]根据本实用新型，所述支撑板两侧的下方均设有滑轮。 [0012]根据本实用新型，所述支撑部件为设置于所述框架上与所述支撑板滑动方向平行的两侧边的第一滑槽，所述滑轮与所述滑槽相配合。 [0013]根据本实用新型，所述支撑板上与其滑动方向相平行的两侧边设有滑轨，所述支撑部件为设置于与所述支撑板滑动方向平行的两侧边的与所述滑轨相配合的第二滑槽。 [0014]根据本实用新型，所述支撑板的上方设有多个支撑柱。 [0015]本实用新型还提供了一种涂胶显影机，包括上述的缓存装置。 [0016](三)有益效果 [0017]本实用新型的上述技术方案与现有技术相比具有如下优点:本实用新型提供的缓存装置设有支撑部件，支撑板可滑动的安装于支撑部件上，需要进行维护保养时，直接将支撑板从支撑部件上抽下即可，相较于现有技术中所有的支撑板均是固定在框架上，缓存装置的拆卸与安装操作简单，缩短了缓存装置维护保养所需要的时间，避免了维护保养耗费时间长导致曝光设备的长时间闲置，提高了工作效率。附图说明 [0018]图1是本实用新型实施例一提供的缓存装置的三维结构示意图； [0019]图2是本实用新型实施例一提供的缓存装置的主剖视图； [0020]图3是本实用新型实施例二提供的缓存装置的主剖视图；[0021 ]图4是本实用新型实施例三提供的缓存装置的主剖视图。 [0022]图中:1:框架;2:支撑板;3:支撑部件;31:第一滑槽;32:滑轮;33:第二滑槽;34:滑轨;4:前挡板;5:限位挡板;6:支撑柱。 具体实施方式[0023]为使本实用新型实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本实用新型的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。 [0024] 实施例一 [0025]如图1所示，本实用新型实施例提供的一种缓存装置，包括框架I和设于框架I内的沿其高度方向依次设置的多层支撑板2，支撑板2用于放置待曝光的基板，框架I上相应地设有多层支撑部件3，每层支撑板2均滑动地安装于支撑部件上。在缓存装置需要进行维护保养时，直接将支撑板2从支撑部件3上抽下即可，相较于现有技术中所有的支撑板2均是固定在框架I上，缓存装置的拆卸与安装操作简单，缩短了缓存装置维护保养所需要的时间，避免了维护保养耗费时间长导致曝光设备的长时间闲置，提高了工作效率。具体地，经过实验，以具有19层支撑板2的缓存装置为例，维护时间可以从4小时缩短到1.5小时以内，由于进行单层维护，维护效果更好，有助于提升产品的良率。 [0026]进一步地，本实施例中框架I上拿取基板的一侧设有锁定机构，用于固定支撑板2。在采用机械手拿取基板时基板容易带动支撑板2产生一定的滑动，使得支撑板2移出框架I夕卜，在框架I上拿取基板的一侧设有锁定机构可以限制支撑板的运动，避免支撑板在拿取基板时移出框架I外。 [0027]进一步地，本实施例中框架I上与设有锁定机构的一侧相对的一侧设有限位挡板5。设置限位挡板5可以在安装支撑板2时限定支撑板2的放置位置。 [0028]进一步地，本实施例中锁定机构包括设于框架I上的第一螺纹孔、设于支撑板2上的第二螺纹孔以及与第一螺纹孔和第二螺纹孔相配合的螺栓。采用螺栓将支撑板2与框架I固定在一起，固定方式简单可靠。进一步地，如图1所示，本实施例中锁定机构也可以包括通过合页固定于框架上的前挡板4。在需要维护保养时，将前挡板4打开即可抽出支撑板2，当缓存装置工作时，前挡板4位于拿取基板的一侧，起到固定支撑板2的作用。 [0029]进一步地，本实施例中支撑板2的上方设有多个支撑柱6。使用时将基板放置于支撑柱6的上方，便于基板的取放。 [0030] 实施例二 [0031]本实施例二与实施例一相同的技术内容不重复描述，实施例一公开的内容也属于本实施例二公开的内容，本实施例二是对具体特征支撑板2可滑动地安装于支撑部件3的进一步优化:本实施例中支撑板2两侧的下方均设有滑轮32。支撑板2的下方设有滑轮32即可在支撑板2上滑动，降低了操作人员的劳动强度。进一步地，本实施例中的支撑部件3为设置于框架I上与支撑板2滑动方向平行的两侧边的第一滑槽31，滑轮34与第一滑槽31相配合。采用第一滑槽31作为支撑部件3，既起到了支撑支撑板2的作用，也起到了限制滑轮32沿第一滑槽31的延伸方向运动的作用，使得支撑板2在框架I内的滑动更加可靠。 [0032] 实施例三 [0033]本实施例三与实施例一相同的技术内容不重复描述，实施例一公开的内容也属于本实施例三公开的内容，本实施例三是对具体特征支撑板2可滑动地安装于支撑部件3的进一步优化:本实施例中支撑板2上与其滑动方向相平行的两侧边设有滑轨34，支撑部件3为设置于与支撑板2滑动方向平行的两侧边的与滑轨34相配合的第二滑槽33。本实施例中采用滑轨34与第二滑槽33的配合实现支撑板2的稳定抽取与安装。 [0034]实施例四 [0035]本实用新型实施例四提供了一种涂胶显影机，包括上述的缓存装置。采用上述的缓存装置提高了操作人员的工作效率，进而提升了涂胶显影机整个设备的稼动率。 [0036]最后应说明的是:以上实施例仅用以说明本实用新型的技术方案，而非对其限制；尽管参照前述实施例对本实用新型进行了详细的说明，本领域的普通技术人员应当理解:其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换;而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本实用新型各实施例技术方案的精神和范围。 |
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