一种曝光机载物平台装置 |
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| 申请号 | CN201710747993.2 | 申请日 | 2017-08-28 | 公开(公告)号 | CN107505814A | 公开(公告)日 | 2017-12-22 |
| 申请人 | 深圳市华星光电技术有限公司; | 发明人 | 袁夏梁; | ||||
| 摘要 | 本 发明 涉及LCD产生制造技术领域，公开了一种曝光机载物平台装置，包括设置在载物平台上的若干个 吸附 单元，每个吸附单元包括 真空 挡墙 围成的真空区域，所述真空挡墙的一侧或两侧为斜面，与所述载物平台连接，所述若干个真空挡墙的高度相同。在本发明中，通过以坡度放缓的真空挡墙设计，搭配细小的凸点均匀分布于载物平台上，减轻甚至消除了Stage Mura。 | ||||||
| 权利要求 | 1.一种曝光机载物平台装置，包括设置在载物平台上的若干个吸附单元，其特征在于，每个吸附单元包括真空挡墙围成的真空区域，所述真空挡墙的一侧或两侧为斜面，与所述载物平台连接，所述若干个真空挡墙的高度相同。 |
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| 说明书全文 | 一种曝光机载物平台装置技术领域[0001] 本发明涉及LCD产生制造技术领域，特别是涉及一种曝光机载物平台装置。 背景技术[0002] 在LCD生产过程中，曝光机是关键的制程设备之一。在曝光的制程中，玻璃基板是以真空吸附的方式固定在曝光机载物台上的；为了固定玻璃基板及保证玻璃基板在载物台上的平整性，通常载物台的真空吸附会分为多个区域逐步进行。而这些真空区域，在曝光过程中常常形成“色不均”的现象(业内称“Stage Mura”)，造成产品不良。 [0003] 所谓的Mura，是指在同一光源且相同底色的画面下，因视觉感受到不同程度之颜色差异称形成的。LCD的显示原理是，由一薄膜电晶体来控制液晶旋转的角度，再经由光源透过不同角度排列的液晶所穿透之光源透过彩色滤光片显示出不同的颜色组合。因为视觉上对于感受到的光源有不同的频率响应而感觉到颜色的差异，形成了所谓的Mura。 [0004] 经实际调查发现，Stage Mura的根本成因，是平台上的真空区域真空挡墙与其旁边的平台区域有较大落差，曝光时部分透过玻璃基板在平台表面形成反射，对基板二次曝光，真空挡墙与其旁边的平台区域的较大落差导致反射光线强弱不均，造成不一样的曝光效果，经过五道(一般彩色滤光片制程)曝光过程后，这种不一样的曝光效果得到叠加，而形成了Stage Mura。 [0005] 此外，由于液晶的厚度不均、垫体的高度不均、液晶上受到的压力大小、偏光材料异常等，也会造成Mura的现象。 [0006] 针对上述“Stage Mura”产生的现象，现有技术中的曝光机通过在支撑针上涂覆散射涂层来达到减小Mura的产生。中国专利“基板曝光平台及曝光机”(公开号CN105182692A)公开了在曝光平台的支撑针的表面上涂覆有具有散射作用的散射涂层，使支撑针侧面上的反射光更为扩散光，降低光线的正反射量，从而改善曝光过程中基板上容易形成的Mura问题。 [0007] 但是，该专利只是改善了支撑针表面上的Mura产生的强度，并没有解决曝光平台上产生Mura的现象，另外，由于支撑针的高度不齐以及LCD的变形产生的Mura，该专利并没有解决。 发明内容[0008] 本发明的目的是提供一种曝光机载物平台装置，包括设置在载物平台上的若干个吸附单元，其特征是，每个吸附单元包括真空挡墙围成的真空区域，所述真空挡墙的一侧或两侧为斜面，与所述载物平台连接，所述若干个真空挡墙的高度相同。 [0009] 在本发明一实施方式中，所述载物平台上还均布设置多个小凸点，所述小凸点的高度与所述真空挡墙的高度相同。 [0010] 在本发明一实施方式中，所述小凸点的侧边为斜面。 [0011] 在本发明一实施方式中，所述真空区域内还设置一个或多个子真空区域，所述子真空区域由子真空挡墙围成，所述子真空挡墙的一侧或两侧为斜面，所述子真空挡墙的高度与真空挡墙的高度相同。 [0012] 在本发明一实施方式中，所述斜面与载物平台的夹角小于15°。 [0014] 在本发明一实施方式中，所述真空挡墙的顶部宽度小于3mm，底部的宽度大于20mm。 [0015] 在本发明一实施方式中，所述小凸点的截面为正方形，顶部的正方形边长小于1.5mm。 [0016] 在本发明一实施方式中，所述小凸点的截面为圆形，顶部的圆形直径小于1.5mm。 [0017] 在本发明一实施方式中，所述真空区域和子真空区域均为正方形。 [0018] 在本发明中，通过以坡度放缓的真空挡墙设计，搭配细小的凸点均匀分布于载物平台上，减轻甚至消除了Stage Mura。 [0019] 载物平台的氧化铝陶瓷或合金材料，以及表面涂布黑色低反光物质，使UV光线反射得更少。 [0021] 图1是本发明的载物平台及基上吸附单元结构示意图； [0022] 图2是附图1中的I-I剖视图； [0023] 图3是本发明中玻璃基板经UV光照射的示意图； [0024] 图4是现有技术中玻璃基板经UV光照射的示意图。 具体实施方式[0025] 以下结合实施例对本发明做详细的说明，实施例旨在解释而非限定本发明的技术方案。实施例一 [0026] 在本实施例中提供一种曝光机载物平台装置，参见附图1，曝光机载物平台装置的载物平台1上的若干个吸附单元2，每个吸附单元2包括真空挡墙3围成的真空区域4，在每个真空区域4内，还可设置一个或多个子真空区域5，子真空区域5由子真空挡墙6围成，子真空区域5的可以是并列的也可以是套设的，每个子真空区域5的子真空挡墙6的高度相同，并与真空区域4的真空挡墙3高度相同。 [0027] 参见附图2、3，真空区域4和子真空区域5的上方用于固定玻璃基板8的，每个真空挡墙3的一侧或两侧为斜面7，当真空挡墙3的一侧为斜面7时，向载物平台1倾斜，也就是远离真空区域4的一侧为斜面7，两侧同时为斜面7时，分别向真空区域4和远离真空区域4的载物平台1倾斜。当真空区域4内设有子真空区域5时，子真空挡墙6的侧边也可同样形成斜面7，子真空挡墙6的斜面7并不是必需的，可根据子真空挡墙6的宽度进行选择。 [0028] 斜面7与载物平台1的夹角越小越好，根据真空挡墙3的高度和真空区域4的大小，选择夹角小于15°为宜。在一个较佳实施方式中，真空挡墙3的顶部宽度为3mm，底部的宽度为20mm，其夹角经计算为6.7°，达到一个较好的消除Mura的效果。真空挡墙3的高度一般为1mm左右。 [0029] 子真空挡墙6的斜面7的设置与真空挡墙3相同。真空挡墙3与子真空挡墙6围成的真空区域4和子真空区域5，形状可以是正方形，圆形，并不影响斜面7的设置。在载物平台1、斜面7上涂布黑色低反光物质，使从玻璃基板8上过来的UV光线尽可能少的被反射，从而减少Mura的形成。此外，也可以在载物平台1和斜面7上涂布光散射涂层，使反射光产生散射，减少了反射光反射至玻璃基板8的光量，也可以减少Mura的形成。载物平台1和斜面7的材料可选择由氧化铝陶瓷或合金构成，黑色低反光物质和散热涂层更方便地与陶瓷和合金烧结。 [0030] 参见附图3、4，附图4中现有技术的真空挡墙3由于与载物平台1之间的差异性很大，图中的A区和B区对UV光线的反射，使得Mura的形成更明显。附图3中的本专利的真空挡墙3由于斜面7的设置，斜面7与载物平台1之间的差异就想对较小，图中的A区和B区对UV光线反射差异少，从而减少了Mura的形成。 [0031] 实施例二 [0032] 除了UV光曝光反射产生Mura之外，Mura形成的另一个原因是玻璃基板8的平面度偏差，使得UV光并不是直射入玻璃基板8的。 [0033] 参见附图2，在载物平台1上均布设置多个小凸点9。小凸点9的高度保证与真空挡墙3的高度相同，当玻璃基板8在真空区域4被吸附时，非真空区域4的小凸点9对玻璃基板8产生支撑，防止玻璃基板8变形。 [0034] 对于长方体柱形小凸点9，尺寸长宽为：1.5mm*1.5mm，但并不限定于此，可根据工艺需要进行调整；对于圆柱形小凸点9，直径为1.5mm。 [0035] 小凸点9同样在侧边形成斜面，斜面的形式与真空挡墙3、子真空挡墙6一样，小凸点9上也同样涂布黑色低反光物质和散热涂层。小凸点9与载物平台1可以是一体成型或焊接固定。小凸点9在载物平台1上的数量根据载物平台1大小设定，呈现规则横竖排列。 |
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