1.一种方法，所述方法包括：
测量光刻图案形成装置的图案的特征的三维形貌；和
根据测量结果计算由图案的三维形貌所导致的波前相位信息。
2.根据权利要求1所述的方法，还包括根据测量结果计算由图案的三维形貌所导致的波前强度信息。
3.根据权利要求1所述的方法，其中测量三维形貌包括测量选自由下列特征构成的组的特征：临界尺寸、节距、侧壁角、吸收体高度、折射率、消光系数、吸收体叠层顺序及其组合。
4.根据权利要求1所述的方法，还包括：
使用光刻图案形成装置的图案的特征的所测量的三维形貌来确定对于图案形成装置所用在的光刻系统的可调节参数的一组调整量。
5.根据权利要求4所述的方法，还包括使用图案形成装置和所调整的光刻系统来将图案成像到设置在衬底上的辐射敏感材料上。
6.根据权利要求1所述的方法，其中光刻图案形成装置的图案的特征的所测量的三维形貌用于模拟光刻系统的波前相位信息。
7.根据权利要求1所述的方法，其中所述测量步骤包括以散射仪和/或扫描电子显微镜或原子力显微镜和/或光学量测工具进行测量。
8.根据权利要求1所述的方法，其中所述测量步骤包括以散射仪进行测量，且所述计算步骤包括选自以下方法构成的组中的方法：对三维形貌进行建模、将所测量光谱与光谱库进行比较以及迭代搜索。
9.根据权利要求1所述的方法，其中计算波前相位信息是基于与光刻设备的照射轮廓相关联的衍射图案的。
10.根据权利要求1所述的方法，其中波前相位信息包括对于图案的多个临界尺寸的波前相位信息、和/或对于图案的侧壁角和/或照射辐射的多个入射角的波前相位信息、和/或对于图案的多个节距的波前相位信息、和/或对于多个光瞳位置或衍射级的波前相位信息。
11.根据权利要求1所述的方法，还包括使用光刻图案形成装置来调整与光刻过程相关联的参数来获得图案的成像的对比度的改进。
12.根据权利要求11所述的方法，其中所述参数是图案形成装置的图案的形貌的参数或图案形成装置的照射的参数。
13.根据权利要求1所述的方法，包括调节图案形成装置的折射率、图案形成装置的消光系数、图案形成装置的吸收体的侧壁角、图案形成装置的吸收体的高度或厚度或者从其中选择的任意组合，以最小化相位变化。
14.一种非易失性计算机程序产品，包括配置成使处理器执行根据权利要求1所述的方法的机器可读指令。
15.一种制造器件的方法，其中使用光刻过程将器件图案施加至一系列的衬底，所述方法包括使用根据权利要求1的方法来确定光刻系统的可调节参数和将该器件图案曝光到衬底上。