1.一种消除光刻工艺过程中显影残留的方法，其特征在于，直立旋转残留有光刻胶的基板，通过清洗液冲洗所述基板来去除所述基板上残留的光刻胶。
2.根据权利要求1所述的消除光刻工艺过程中显影残留的方法，其特征在于，所述直立旋转残留有光刻胶的基板的步骤包括：
垂直布置残留有光刻胶的所述基板，再使所述基板进入显影冲洗单元，然后再直立旋转所述基板。
3.根据权利要求2所述的消除光刻工艺过程中显影残留的方法，其特征在于，所述垂直布置残留有光刻胶的所述基板，再使所述基板进入显影冲洗单元的步骤包括：
在卡盘上垂直固定残留有光刻胶的所述基板，通过所述卡盘带动所述基板进入所述显影冲洗单元。
4.根据权利要求2所述的消除光刻工艺过程中显影残留的方法，其特征在于，所述直立旋转所述基板的步骤包括：
通过电机带动所述基板进行直立匀速旋转。
5.根据权利要求2所述的消除光刻工艺过程中显影残留的方法，其特征在于，所述通过清洗液冲洗所述基板来去除所述基板上残留的光刻胶的步骤之后，还包括：
在所述显影冲洗单元内移出所述基板。
6.根据权利要求1所述的消除光刻工艺过程中显影残留的方法，其特征在于，所述通过清洗液冲洗所述基板来去除所述基板上残留的光刻胶的步骤包括：
所述清洗液在所述基板的斜上方对所述基板进行喷淋冲洗，来去除所述基板上残留的光刻胶。
7.根据权利要求6所述的消除光刻工艺过程中显影残留的方法，其特征在于，所述清洗液在所述基板的斜上方对所述基板进行喷淋冲洗的步骤中，冲洗喷嘴倾斜布置于所述基板的斜上方，所述清洗液自所述冲洗喷嘴喷出而喷淋在所述基板上。
8.根据权利要求1至7中任一项所述的消除光刻工艺过程中显影残留的方法，其特征在于，所述清洗液为去离子水。
9.根据权利要求1至7中任一项所述的消除光刻工艺过程中显影残留的方法，其特征在于，所述基板为玻璃基板。
10.一种显示面板的制作方法，其特征在于，包括有如权利要求1至9中任一项所述的消除光刻工艺过程中显影残留的方法。