1.一种辐射源，所述辐射源包括：
喷嘴，所述喷嘴被配置用于沿着液滴路径将燃料液滴束流朝向等离子体形成位置引导；
所述辐射源被配置用于接收具有高斯强度分布、具有预定波长和沿预定轨迹传播的高斯辐射束，所述辐射源被进一步配置用于将辐射束聚焦到等离子体形成位置处的燃料液滴上；
相位板结构，所述相位板结构包括第一相位板和第二相位板，所述相位板结构具有第一区和第二区，所述区被布置成使得通过第一区的具有预定波长的辐射和通过第二区的具有预定波长的辐射沿着具有不同光程的各个光路传播；
其中，在通过第一区的辐射和通过第二区的辐射在等离子体形成位置处碰撞燃料液滴之一时，通过第一区的辐射和通过第二区的辐射之间的光程差是所述预定波长的一半的奇数倍，且
其中所述第一相位板和第二相位板中的每个至少包括第一区域和第二区域，其中通过第一区域的具有预定波长的辐射和通过第二区域的具有所述预定波长的辐射沿着各自的光路传播，在辐射束的轨迹上相对于相位板下游的位置处，通过第一区域的辐射和通过第二区域的辐射之间的光程差是所述预定波长的一半的奇数倍，且第一区的尺寸由第一相位板和第二相位板的位置确定。
2.根据权利要求1所述的辐射源，其中通过第一区的辐射和通过第二区的辐射是所述高斯辐射束的不同部分。
3.根据权利要求2所述的辐射源，其中通过第一区的辐射至少包括所述强度分布的顶部。
4.根据权利要求2或3所述的辐射源，其中通过第二区的辐射位于相距所述强度分布的顶部有一距离的位置处。
5.根据权利要求1至3中任一项所述的辐射源，其中所述第一相位板和第二相位板确定通过第一区的辐射与通过第二区的辐射之间的光程差。
6.根据权利要求5所述的辐射源，其中所述第一相位板和第二相位板能够沿着横向于所述辐射束的方向相对于所述辐射束移动，使得第一区的大小和/或位置和/或第二区的大小和/或位置是能够调整的。
7.根据权利要求1至3中任一项所述的辐射源，其中所述预定波长是在9μm与11μm之间。
8.根据权利要求1至3中任一项所述的辐射源，其中所述预定波长是在900nm与1100nm之间。
9.一种辐射系统，所述辐射系统被构造和布置成产生极紫外辐射，所述辐射系统包括前述任一项权利要求所述的辐射源和激光源。
10.根据权利要求9所述的辐射系统，其中，所述激光源是CO2激光源或钇铝石榴石激光源。
11.根据权利要求9或10所述的辐射系统，其中所述辐射系统被构造和布置成提供预脉冲，以在等离子体形成位置处撞击燃料液滴，并且提供后续的主脉冲，以在所述燃料液滴已经被所述预脉冲撞击之后，在等离子体形成位置处撞击所述燃料液滴，从而产生能够产生极紫外辐射的等离子体。
12.根据权利要求11所述的辐射系统，其中所述辐射系统被配置成使得在使用时所述激光源产生预脉冲和后续的主脉冲。
13.根据权利要求11所述的辐射系统，其中所述辐射系统被配置成使得在使用时所述激光源产生预脉冲，并且其中所述辐射系统包括另一激光源，所述辐射系统被配置成使得在使用时所述另一激光源产生所述主脉冲。
14.一种光刻设备，包括权利要求1至8中任一项所述的辐射源。