1.一种热调节单元，用于热调节光刻设备中的衬底，所述热调节单元包括：
热调节元件，所述热调节元件包括第一层、第二层以及定位在第一层和第二层之间的热传递部件，所述第一层在使用时面对所述衬底并且包括具有100W/mK或更大的热导率的材料；和
加强构件，所述加强构件比所述热调节元件硬，并且配置成支撑所述热调节元件、以便减小其机械变形，
其中所述热调节元件与所述加强构件是热隔离的；
其中所述热调节元件包括穿过其中的多个出口和/或入口，所述多个出口和/或入口分布在整个所述热调节元件上，以提供通过衬底下侧的一部分的气流作为气体轴承，以便在所述热调节元件上至少部分地支撑所述衬底。
2.根据权利要求1所述的热调节单元，其中所述热调节元件与周围环境热隔离。
3.根据权利要求1所述的热调节单元，其中所述热传递部件包括用于热传递流体在其中流过的通道。
4.根据权利要求3所述的热调节单元，其中所述热传递流体是热调节流体。
5.根据权利要求3所述的热调节单元，其中所述热传递流体是相变热传递系统的相变流体。
6.根据权利要求3所述的热调节单元，其中所述通道是热管的一部分。
7.根据权利要求3-6中任一项所述的热调节单元，其中所述热调节单元包括另一通道，所述通道和所述另一通道配置成被并行地供以热传递流体。
8.根据权利要求1-6中任一项所述的热调节单元，其中所述第一层由选自铝、陶瓷、镁、SiSiC和热解石墨中的至少一种材料形成。
9.根据权利要求1-6中任一项所述的热调节单元，其中所述第一层由具有低于大约
3.0Jcm-3K-1的热容量的材料形成。
10.根据权利要求1-6中任一项所述的热调节单元，其中所述第一层具有5mm或更小的厚度。
11.根据权利要求1-6中任一项所述的热调节单元，其中所述第二层由选自铝、陶瓷、镁、气凝胶、玻璃陶瓷和不锈钢中的至少一种材料形成。
12.根据权利要求1-6中任一项所述的热调节单元，其中所述第二层由具有低于大约
3.0Jcm-3K-1的热容量的材料形成。
13.根据权利要求1-6中任一项所述的热调节单元，其中所述第二层由具有低于大约
2.0Jcm-3K-1的热容量的材料形成。
14.根据权利要求1-6中任一项所述的热调节单元，其中所述第二层具有5mm或更小的厚度。
15.根据权利要求1-6中任一项所述的热调节单元，其中所述第一层和第二层由不同的材料形成。
16.根据权利要求1-6中任一项所述的热调节单元，其中所述第一层的材料具有比所述第二层的材料低的热容量和/或高的热导率。
17.根据权利要求1-6中任一项所述的热调节单元，其中所述第二层配置成将所述热调节元件支撑在所述加强构件上。
18.根据权利要求1-6中任一项所述的热调节单元，还包括衬底位置操纵器，所述衬底位置操纵器配置成改变所述衬底相对于所述热调节元件的相对位置和/或取向。
19.根据权利要求18所述的热调节单元，其中所述衬底定位操纵器的一部分延伸通过所述热调节元件。
20.根据权利要求1-6中任一项所述的热调节单元，还包括支撑结构，所述支撑结构用以将所述热调节元件支撑在加强构件上并且在多个离散位置接触所述热调节元件。
21.根据权利要求20所述的热调节单元，其中所述多个离散位置中的至少一个远离所述热调节元件的边缘。
22.根据权利要求20所述的热调节单元，还包括多个片簧，用以将所述热调节元件支撑在所述加强构件上。
23.根据权利要求1-6中任一项所述的热调节单元，还包括气体轴承，所述气体轴承配置成将所述热调节元件支撑在所述加强构件上。
24.根据权利要求1-6中任一项所述的热调节单元，还包括与所述热调节元件相关联的加热器。
25.根据权利要求24所述的热调节单元，其中所述加热器是薄膜加热器，所述薄膜加热器在所述热调节元件的面对所述衬底的外表面上。
26.一种光刻设备，包括根据权利要求1-25中任一项所述的热调节元件。
27.一种使用光刻设备的器件制造方法，所述方法包括：
通过将衬底放置在热调节元件上来热调节所述衬底，所述热调节元件包括第一层、第二层以及定位在第一层和第二层之间的热传递部件，所述第一层面对所述衬底并且包括具有100W/mK或更大的热导率的材料，所述热调节元件包括穿过其中的多个出口和/或入口，所述多个出口和/或入口分布在整个所述热调节元件上，以提供通过衬底下侧的一部分的气流作为气体轴承，以便在所述热调节元件上至少部分地支撑所述衬底，并且所述热调节元件通过加强构件被支撑，以减小所述热调节元件的机械变形；和
将图案化的束投影到所述衬底上，
其中所述热调节元件与所述加强构件热隔离。