[0001] 本申请涉及一种掩模、制造掩模的方法、光照射器件、发射光的方法，以及制造取向有序的光配向层的方法。

[0002] 用于在特定方向上排列液晶分子的液晶的配向层可用于多个领域。作为配向层，存在光配向层，其表面通过光照处理以排列相邻的液晶分子。常规地，该光配向层可以通过用光(如线性偏振光)照射光敏材料层以便使该光敏材料取向有序来制造。

[0003] 例如，专利文献1和2公开了用于形成光配向层的器件。

[0004] 为了更有效地形成光配向层，必须用具有均匀照度的准直光或近准直光照射待照射的目标。形成具有均匀照度的准直光或近准直光的技术可以广泛应用于多个领域，包括形成光配向层的方法和用于光刻法的曝光。

[0005] 相关技术文献

[0006] 专利文献

[0007] [专利文献1]韩国专利公开号2006-0053117

[0008] [专利文献2]韩国专利公开号2009-0112546发明内容

[0009] 技术问题

[0010] 本申请提供一种掩模、制造掩模的方法、光照射器件、发射光的方法，以及制造取向有序的光配向层的方法。

[0011] 技术方案

[0012] 一种示例性掩模可以包括透明支承结构和在该透明支承结构的一个表面上的金属层。在所述金属层中可以形成至少一个能够引导光到待照射对象的开口。图1显示了包括透明支承结构101和金属层102(通过该金属层形成开口1021)的掩模的一个示例性实施方案的示意图。

[0013] 透明支承结构可以是例如使用由开口引导的光能够通过的材料制备的结构。该结构可以是刚性的，因此可以保持其上形成的金属层的形状。由此形成该结构的透明材料可以是但不特别限于透明陶瓷如氧化锆、氧化铝、二氧化钛或石英。

[0014] 所述金属层可以在透明支承结构的至少一个表面上形成，以及至少一个能够引导光朝向待照射对象的表面的开口。本文中所用术语“能够引导光至待照射对象表面的开口”指的是形成的开口，使得照射在掩模的透明结构相邻一侧上或照射在掩模的透明结构相邻一侧的相对一侧上的光可以穿过开口由该掩模的另一侧发射，并随后入射到待照射对象的表面上。

[0015] 穿过开口并入射在待照射对象的表面上的光可以是准直光或近准直光。本文中所用的术语“准直光或近准直光”指的是一种光，通过这种光能够防止或最小化以下现象——其中当来自掩模的光入射在待照射对象的表面上时，光扩散或光的方向改变至本不应该被所述光照射的位置被该光照射的程度。例如，本文中所用的术语“准直光或近准直光”指的是当光由掩模发射时其发散角为大约±10度、±5度或±3.5度的光。术语“发散角”指的是在掩模表面的法线与开口引导的光传播的方向之间形成的角。

[0016] 开口引导的光可以是例如线性偏振光。在待照射对象是光配向层的情况下，可以使用线性偏振光，以便通过使该光配向层的光敏材料取向有序来实现配向性质。

[0017] 金属层开口的尺寸如厚度、宽度或宽厚比可以根据引导的光照射在其上的待照射对象的表面与掩模之间的距离来选择。例如，可以选择开口的厚度、宽度或宽厚比，以满足与掩模和待照射对象的表面之间距离的特定函数关系。

[0018] 图2和3显示了示例性实施方案的示意图，显示了具有开口42的金属层40。在图2中，金属层40具有在相同方向上延伸并彼此平行的多个开口42。尽管在图中并未显示，所述掩模的金属层可以仅具有一个开口，并可以以各种方式设计而不限于图2和3中显示的开口布置。金属层40中开口42的数量和布置可以根据待照射对象的类型适宜地控制，但不特别限于此。例如，当待照射对象50是光致抗蚀剂时，金属层40中开口42的数量和布置可以根据待曝光的部件的数量或形状来选择，或者当待照射对象50是光配向层时，金属层40中开口的数量和布置可以考虑要具有配向性质的部件的数量或形状来选择。

[0019] 可以根据待照射对象50的表面与掩模之间的距离来控制开口42的尺寸如厚度(t)、宽度(w)或宽厚比(w/t)。这里，掩模与待照射对象的表面之间的距离指的是，例如在金属层的表面与待照射对象的表面之间的距离。也就是说，即使当掩模的透明支承结构面对待照射对象时，该距离也可以定义为金属层的表面与待照射对象的表面之间的距离。开口42的厚度(t)指的是由掩模的一个表面照射的光穿过金属层40的开口42的最短路径的长度，例如指的是垂直连接金属层40的一个表面与其相对表面的直线的长度。开口42的宽度(w)指的是垂直连接开口42两侧的直线的长度。根据距待照射对象的表面的距离控制的开口尺寸可以是例如开口42的厚度(t)。可以控制开口42的尺寸以改善光的直度。

[0020] 图3显示了在图2的I-I方向上切割的金属层40的表面的示例性实施方案的示意图，提供该图以说明根据距待照射对象50的表面的距离来控制金属层40中开口42的尺寸。

[0021] 在图3中，记号“L2”是指在通过开口42引导的光中发散角为零度的光，记号“L1”指的是在通过开口42引导的光中发散角为θ度的光。如在图3中，发散角(θ)指的是在垂直于金属层40平面的法线与开口42引导的光传播的方向之间形成的角度。

[0022] 可以配置金属层40中的开口42以使得可以产生准直光或近准直光，由此只有应当被光照射的对象50的一个区域——如只有图3中由记号“S”表示的区域——被光照射。例如，即使在存在高发散角的光的情况下，可以根据对象50的表面与掩模之间的距离(例如图3中的记号“a”)来控制开口42的尺寸，以使得光不会入射在除区域S之外的区域上，例如不会入射在由图中记号“b”表示的距离(下文中称为“离去距离”)所限定的区域上，或使得离去距离最小化或不存在。

[0023] 例如，参照图2，可以选择开口的尺寸，以使得对象50与掩模之间的距离(a)，以及开口42的厚度(t)和宽度(w)满足下面的等式1。

[0024] [等式1]

[0025] b＝(a/t)×w

[0026] 在图3中，可以根据使用掩模时的情况控制离去距离的范围。例如，当掩模图案具有大的宽度时，可能需要长的离去距离，当需要具有均匀图案的掩模时，可能需要最小化的离去距离。

[0027] 所述离去距离可能小于开口42的宽度(w)的1/5或更小，由此可以设计开口的尺寸以使得开口的厚度(t)和掩模与对象50的表面之间的距离(a)满足等式2。

[0028] [等式2]

[0029] 5a≤t

[0030] 参照图3，可以将开口42的厚度(t)控制为对象50的表面与掩模之间距离(a)的大约5倍、6倍、7倍、8倍、9倍、10倍或更高倍数。可以根据所需离去区域的程度控制开口42的厚度的上限，但是没有特殊限制。当厚度提高时，可以改善光的直度，也就是说，发散角可能降低，但是入射在对象50上的光的照度可能降低。因此，可以将该厚度(t)控制为距离(a)的30倍、20倍或15倍或更小倍数。

[0031] 金属层中的开口可以具有各种形状，只要其成形为能够引导入射光。例如，如图3中所示，开口42可以具有彼此面对面平行形成的内壁。在这种情况下，取决于金属层40的厚度，开口42可以具有正方形或矩形横截面。如果必要的话，可以形成开口以使得入射光的入射侧，例如朝向透明薄膜的一侧可以比光的射出侧，例如与朝向透明薄膜的一侧相对的一侧更宽，因此面积由光的入射侧向光的射出侧变窄。在上文中，该面积可以规则或不规则地变得越来越窄。如果必要的话，可以形成开口，以使得其宽度依厚度方向规则或不规则地降低并随后升高，或升高并随后降低。

[0032] 所述金属层可以是在透明支承结构上的金属沉积层或金属薄膜层。此类金属层可以通过在支承结构上沉积金属或粘附金属薄膜来形成。形成该金属层的材料没有特殊限制。例如，该金属层可以是包括能够阻挡、传输或反射光的金属的层。此类金属可以是金、银、铬、铝、铜、钛、镍、钼或钨。

[0033] 对待被掩模的开口引导的光照射的对象的类型没有特殊限制。在待照射的对象的类型方面，可以包括需要用具有均匀照度的准直光或近准直光照射的所有类型的对象。例如，待照射对象可以是待曝光的光致抗蚀剂，或待光配向的光配向层。

[0034] 该掩模可以保持为弯曲形状。例如，当通过开口引导的光入射于其上的表面保持为弯曲形状时，要求该掩模也保持具有弯曲表面。

[0035] 弯曲形状的对象可以是在所谓卷对卷法过程中光入射于其上的对象。本文中所用的术语“卷对卷法”可以涵盖任何包括通过辊如引导辊、输送辊或卷绕辊连续移动待照射对象并用光照射该对象的方法。在卷对卷法中，可以在所述对象围绕所述辊卷绕的状态下用光照射待照射对象。如果用光照射卷绕在所述辊上的对象，光可以在该对象被有效固定的状态下入射在该对象上。

[0036] 图4显示了在卷对卷法过程中用穿过掩模40的光照射待照射对象50的方法的一个示例性实施方案的示意图。如图4中所示，待照射对象50可以围绕辊60卷绕以形成弯曲的表面，并可以用光照射。可以根据距离待照射对象50的距离(a)，这里还可能考虑该表面的曲率半径来控制掩模40的开口42的厚度(t)。当掩模40包括多个开口42时，开口42的厚度可以控制为相同，或控制为彼此不同。例如，当光入射在如图4中的弯曲表面上时，掩模40与待照射对象50之间的距离(a)可以随开口42的位置而不同，在这种情况下，各开口42的厚度可以不同地控制，但是不限于此。

[0037] 保持掩模为弯曲形状的方法没有特殊限制。例如，弯曲掩模可以通过以下方法制造：将透明支承结构的表面成形为弯曲表面，并随后在该弯曲表面上形成金属层以具有依循该透明支承结构的弯曲表面的弯曲表面。图5显示了掩模的一个示例性实施方案的示意图，所述掩模包括其一个表面是弯曲表面的透明支承结构501以及在该结构501的弯曲表面上成形为具有弯曲形状的金属层102。

[0038] 保持为弯曲形状的掩模的形状，例如该掩模的曲率半径，没有特殊限制，但是选择该形状以便用光适宜地照射待照射对象。例如，该掩模的曲率半径可以控制为与保持弯曲形状的待照射对象的曲率半径一致。例如，当掩模保持为弯曲表面时，该掩模的透明支承结构的弯曲表面可以具有大约10至500毫米的曲率半径。

[0039] 在一个实施方案中，该掩模可以通过以下方法制造：在透明支承结构的表面上形成金属层，并在该金属层中形成至少一个开口。

[0040] 在透明支承结构上形成金属层的方法没有特殊限制。例如，该金属层可以通过溅射或物理或化学沉积在该透明支承结构上形成，或者可以通过在透明支承结构上层压金属薄膜来形成。上面形成的金属层的厚度没有特殊限制，并可以考虑所需开口厚度来控制。

[0041] 在形成所述金属层之后，所述开口可以通过处理该金属层来形成。可以通过处理该透明支承结构上的金属层来形成开口，或者在粘附金属膜的情况下，可以在将所述膜粘附到支承结构上之前或之后通过处理该膜来进行开口的形成。开口可以通过使用例如丝网印刷、防染印刷、光刻法或激光照射来形成。

[0042] 在制造所述掩模的过程中，在其上形成金属层的支承结构表面可以是弯曲表面，并且可以根据该弯曲表面将金属层成形为弯曲形状，并由此可以制备弯曲形状的掩模。

[0043] 本申请还涉及包括所述掩模的器件，例如光照射器件。一种示例性器件可以包括掩模、以及待照射对象置于其上的设备。

[0044] 在上文中，可以安装所述掩模以使得该掩模与将要放置于设备上的对象的表面之间的距离为大约50毫米以下。该距离可以为例如大于0毫米，或0.001毫米以上、0.01毫米以上、0.1毫米以上、或1毫米以上。该距离可以为40毫米以下、30毫米以下、20毫米以下、或10毫米以下。所述对象的表面与掩模之间的距离可以通过选择上述上限与下限的至少一种以不同组合设计。

[0045] 如上所述，该器件中的掩模中开口厚度可以是所述对象表面与掩模之间的距离的大约5倍、6倍、7倍、8倍、9倍、10倍或更大倍数。所述开口的厚度可以是距该对象表面的距离的大约30倍、25倍或20倍或更小倍数。

[0046] 待照射对象置于其上的设备的类型没有特殊限制，由此可以包括设计为在光照射过程中稳定保持对象的所有类型的设备。

[0047] 待照射对象置于其上的设备可以是能够以该对象表面保持为弯曲形状的状态放置该对象的设备。此类设备可以是所谓卷对卷法过程中使用的辊，但是不限于此。当待照射对象置于其上的设备是能够放置该对象以使其表面保持为弯曲形状的设备时，该掩模也可以保持为弯曲形状。在这种情况下，该掩模的弯曲表面可以对应于待照射对象置于其上的设备的弯曲表面。例如，当具有如图5中所示形状的掩模用在包括设备60(如图4中所示待照射对象置于该设备上)和如图4中所示的掩模40的器件中时，弯曲掩模的凹面可以对应于设备60。也就是说，在具有如图5中所示形状的掩模中，金属层102可以安置为朝向设备60。

[0048] 可以将弯曲掩模的曲率半径控制在与所述设备保持的对象的曲率半径一致的水平上。例如，当该对象的表面的曲率半径为大约10至500毫米时，弯曲掩模的曲率半径可以控制为大约10至500毫米。

[0049] 所述器件可以进一步包括能够用光照射掩模的光源。作为光源，能够朝向掩模发光的任何一种光源都可以根据目的使用，而没有特殊限制。例如，为了使用引导至掩模开口的光进行光配向层的配向或光致抗蚀剂的曝光，作为能够发射紫外(UV)线的光源，可以使用高压汞UV灯、金属卤化物灯或镓UV灯。

[0050] 该光源可以包括一个或多个光照射装置。如果包括两个或多个光照射装置，这些装置的数量或布置没有特殊限制。如果光源包括两个或多个光照射装置，这些装置可以排列成至少两列，并且位于所述至少两列的任一列上的光照射装置和位于与前一列相邻的另一列上的光照射装置可以彼此交替或重叠。

[0051] 光照射装置彼此重叠指的是以下情况：其中连接任一列上的光照射装置的中心与相邻前一列的另一列中的光照装置中心的线在不与垂直于各列的方向平行的方向上形成(以预定角度倾斜的方向)，并且光照射装置的照射区域在垂直于各列的方向上部分重叠。

[0052] 图6显示了如上所述的光照射装置的布置的一种示例性实施方案的示意图。在图6中，两个或多个光照射装置10被布置为两列，即，A列和B列。在图6中的光照射装置中，如果一个表示为指第一光照射装置的101，一个表示为指第二光照射装置的102，连接第一和第二光照射装置中心的线P并非平行于与A和B列的方向垂直形成的线C而形成。此外，由第一光照射装置形成的照射区域和由第二光照射装置形成的照射区域在垂直于A和B列的方向的Q范围内重叠。

[0053] 根据上述布置，可以均匀地保持由光源发射的光的量。任一光照射装置与另一光照射装置的重叠程度，例如图6的Q的长度没有特殊限制。例如，该重叠程度可以是该光照射装置的直径(例如，图6中的记号“L”)的大约1/3至2/3。

[0054] 所述器件可以进一步包括至少一个聚光板以控制由光源发射的光的量。在所述器件中可以包括聚光板以便在由光源发射的光入射到该聚光板上并被收集后将收集的光发射到掩模上。作为聚光板，可以使用任何能收集光源发射的光的相关领域常规使用的聚光板。聚光板可以是柱状透镜层。

[0055] 所述器件可以进一步包括偏振板。例如，该偏振板可用于由光源发射的光生成线性偏振光。在所述器件中可以包括偏振板以使得由光源发射的光经由该偏振板入射而被照射到掩模上。此外，当所述器件包括聚光板时，该偏振板可以存在于能够将光源发射的光收集到聚光板上并随后入射到该偏振板的位置处。

[0056] 作为偏振板，可以没有特殊限制地使用能够将由光源发射的光生成线性偏振光的任何偏振板。此类偏振板可以是玻璃板或线栅偏振板，其安置在布儒斯特角处。

[0057] 图7显示了光照射器件1的一个示例性实施方案的示意图。图7的器件1包括顺序安置的光源10、聚光板20、偏振板30、掩模40和对象50置于其上的设备60。在图7的器件1中，由光源10发射的光可以入射在聚光板20上，由此被会聚，随后再次入射在偏振板30上。入射在偏振板30上的光可以被偏振以成为线性偏振光，再次入射在掩模40上，通过开口引导，并随后入射在待照射对象5的表面上。

[0058] 本申请还涉及光照射方法。一种示例性方法可以通过使用如上所述的光照射器件进行。该方法可以包括将待照射对象放置在该对象可以置于其上的设备上，并经由掩模用光照射该对象。

[0059] 在该操作中，入射在掩模上的光可以通过掩模的开口引导并随后入射在待照射对象上。在该操作中，如上所述，掩模的开口的尺寸或形状可以根据距待照射对象的距离或待照射对象的形状来控制。

[0060] 在一个实施方案中，待照射对象可以是光配向层。在这种情况下，光照射方法可以是形成配向的或取向有序的光配向层的方法。例如，该光配向层可以放置在设备上，随后经由该掩模用线性偏振光照射，并因此可以通过沿预定方向有序化光配向层中的光敏材料来制备具有配向性质的光配向层。

[0061] 可以应用于所述方法的光配向层的种类没有特殊限制。作为在相应领域中包含光敏残基的化合物，已知可用于形成光配向层的各种类型的光配向化合物，并且所有所述已知材料均可用于形成光配向层。作为光配向化合物，例如通过反式-顺式光异构化配向的化合物；通过断链和诸如光氧化的光破坏作用有序化的化合物；通过光交联如[2+2]环加成、[4+4]环加成或光二聚合或光聚合反应有序化的化合物；通过光-弗利斯氏重排有序化的化合物，或通过开环/闭环有序化的化合物。作为通过反式-顺式光异构化有序化的化合物，可以使用例如偶氮化合物，如磺酸化重氮染料或偶氮聚合物或芪；作为通过光破坏作用有序化的化合物，可以使用环丁烷-1,2,3,4-四羧酸二酐、芳族聚硅烷或聚酯、聚苯乙烯或聚酰亚胺。此外，作为通过光交联或光聚合有序化的化合物，可以使用肉桂酸酯化合物、香豆素化合物、肉桂酰胺化合物、四氢酞酰亚胺化合物、马来酰亚胺化合物、二苯甲酮化合物或二苯乙炔化合物或具有查尔酮残基作为光敏残基的化合物(下文中称为查尔酮化合物)、或具有蒽基残基的化合物(下文中称为蒽基化合物)；作为通过光-弗利斯氏重排有序化的化合物，可以使用芳族化合物，如苯甲酸酯化合物、苯甲酰胺化合物、甲基丙烯酰胺基芳基甲基丙烯酸酯化合物；作为通过开环/闭环有序化的化合物，可以使用通过[4+2]π-电子体系的开环/闭环有序化的化合物如螺吡喃化合物，但是本申请不限于此。例如，所述光配向层可以使用所述化合物在合适的支承基底上形成，此类光配向层可以通过能够放置待照射对象的设备(例如辊)输运并由此用于所述方法。

[0062] 在所述方法中，光经由掩模照射于其上的光配向层可以是初级配向的光配向层。初级配向的光配向层可以通过，在光经由掩模入射在其上之前，在特定方向上用线性偏振紫外线照射该光配向层的整个表面来制备。通过用偏振方向与用于制备初级光配向层的光不同的光照射初级配向的光配向层，用该光照射对应于掩模开口的区域，由此仅仅在该区域中的光敏材料重新有序化，从而制备其中材料有序化方向被图案化的光配向层。

[0063] 为了制备所述光配向层，例如，如果线性偏振UV射线一次或多次入射在该层上，该层的配向方向可以由最终照射的光的方向来决定。因此，如果初级配向通过在预定方向上用线性偏振紫外线照射光配向层的整个表面来进行，随后，偏振方向不同于初级配向的紫外线的光经由掩模入射在该层上，配向方向可以仅在对应于掩模开口的区域中改变以不同于初级配向的方向。因此，可以在光配向层上形成图案或包括至少具有第一配向方向的第一配向区域和具有不同于第一配向方向的第二配向方向的第二配向区域的至少两种类型的配向区域。

[0064] 在一个实施方案中，初级配向的线性偏振紫外线的偏振轴可以垂直于经由掩模入射在该层上的紫外线的偏振轴。本文中所用的术语“垂直”指的是基本上垂直。通过控制初级和次级配向中光的偏振轴形成的光配向层可以用于例如配置为实现立体图像的滤光器中。

[0065] 例如，可以通过在如上所述形成的光配向层上形成液晶层来制造滤光器。形成液晶层的方法没有特殊限制，所述液晶层可以通过以下方法形成：涂布并取向可以通过光配向层上的光交联或聚合的液晶化合物，并用光照射该液晶化合物层以便交联或聚合。在上述操作全程中，液晶化合物层可以根据光配向层的配向方向配向和固定，由此制造包括至少两个具有不同配向方向的区域的液晶膜。

[0066] 涂布在光配向层上的液晶化合物的种类没有特殊限制，可以根据滤光器的用途适宜地选择。例如，当滤光器是用于实现三维图像的滤光器时，所述液晶化合物可以是能够根据在下方的配向层的配向图案配向并因光交联或光聚合而形成表现出λ/4延迟特性的液晶聚合物层的液晶化合物。术语“λ/4延迟特性”指的是能够将相位延迟入射光波长的1/4倍的特性。当使用此类液晶化合物时，可以制造能够将入射光分为左旋偏振光和右旋偏振光的滤光器。

[0067] 涂布液晶化合物并配向(即根据在下方的配向层的配向图案有序化该化合物或交联或聚合该配向化合物)的方法没有特殊限制。例如，可以以下列方式进行配向——使得液晶层保持在其中所述化合物根据液晶化合物种类表现出液晶性的合适温度下。此外，可以根据液晶化合物的种类，通过用具有引发适宜交联或聚合的强度的光照射液晶层来进行所述交联或聚合。

[0068] 有益效果

[0069] 通过所述掩模，准直光或近准直光可以以均匀的照度照射在待照射对象上。此外，通过所述掩模，光可以有效地照射，即使在待照射对象具有弯曲表面的状态下。附图说明

[0070] 图1显示了所述掩模的一个示例性实施方案的示意图。

[0071] 图2和3显示了在开口尺寸与掩模和待照射对象之间的距离之间的关系的示例性实施方案的示意图。

[0072] 图4显示了光照射器件的一个示例性实施方案的示意图。

[0073] 图5显示了弯曲形状的掩模的一个示例性实施方案的示意图。

[0074] 图6显示了光照射装置的布置的一个示例性实施方案的示意图。

[0075] 图7显示了光照射器件的一个示例性实施方案的示意图。

[0076] 图8至10显示了在实施例与对比例中光配向层的状态。

[0077] 附图标记

[0078] 101，501：透明支承结构

[0079] 40，102：金属层

[0080] 42，1021：开口

[0081] 50：待照射对象

[0082] t：开口厚度

[0083] w：开口宽度

[0084] L1，L2：光

[0085] a：掩模与待照射对象之间的距离

[0086] b：离去距离

[0087] S：照射位置

[0088] 60：待照射对象置于其上的设备

[0089] 10，101，102：光照射装置

[0090] 1：包括所述掩模的器件

[0091] 下面，将参照实施例更详细地描述上面的内容，但是所述掩模等的范围不限于下列实施例。

[0092] 实施例1

[0093] 掩模的制造

[0094] 通过处理作为透明支承结构的石英板的一个表面来形成曲率半径为大约200毫米的弯曲表面。随后，通过溅射在形成的弯曲表面上沉积铬，由此形成厚度为大约200纳米的金属层。随后，通过激光蚀刻处理该金属层以形成图2中所示形状的开口，该开口具有大约540微米的宽度(w)、大约100毫米的厚度(t)，开口之间的间隙为大约540微米，由此以如图5所示的形状制造掩模。

[0095] 滤光器的制造

[0096] 使用如上所述制造的掩模配置图5和7中的器件。具体而言，将UV灯用作光源，常规准直透镜用作聚光板，线栅偏振片用作偏振板。设计该器件以使得由光源发射的光被聚光板会聚，并在穿过偏振板后可以入射在掩模上。作为待照射对象置于其上的设备，使用具有弯曲表面的辊，安装掩模以使得掩模的弯曲表面对应于该辊。在上文中，掩模与待照射对象置于其上的辊之间的距离为大约200微米。辊的曲率半径和掩模的曲率半径大致匹配以确保在辊表面和掩模的整个表面上的大致相同的距离。随后，通过下列方法制造光配向层和滤光器。在80微米厚的三乙酰基纤维素(TAC)基底上形成包含聚肉桂酸酯的用于形成光配向层的涂布溶液层以具有1000埃的干厚度。该层通过以下方法形成：通过辊涂法在TAC基底上涂布该涂布溶液，在80℃下干燥涂布的结果2分钟，从中除去溶剂。这里，涂布溶液通过以下方法制备：将具有式1的肉桂酸酯基团的聚降冰片烯(重均分子量(Mw)＝150,000)和丙烯酸单体的混合物与光引发剂(Igacure907)混合，并将混合结果溶解在环己酮溶剂中以具有2重量％的聚降冰片烯固含量(聚降冰片烯:丙烯酸单体:光引发剂＝2:1:0.25(重量比))。
2
在无掩模的情况下用线性偏振紫外线(300mW/cm)照射该层的整个表面来进行初级配向。
随后，用具有与初级配向中的线性偏振UV射线的偏振轴垂直的偏振轴的线性偏振紫外线(300mW/cm2)通过该掩模照射光配向层，由此进行次级配向。在次级配向后，在配向层上形成具有λ/4波长特性的延迟层。特别地，通过在光配向层上涂布液晶化合物(LC242TM，BASF)以具有大约1微米的干厚度，根据在下方的光配向层的配向对该化合物进行配向，并照射UV射线(300mW/cm2)大约10秒以交联和聚合，来根据在下方的光配向层的配向制造包括在不同于慢轴方向上的区域的滤光器。

[0097] 图8中显示了通过该方法配向的光配向层状态的放大图像。参照图8可以证实，通过该方法形成了具有有效配向图案的光配向层。

[0098] [式1]

[0099]

[0100] 实施例2

[0101] 掩模的制造

[0102] 通过激光蚀刻处理膜以具有图2中所示形状，由此制造厚度为大约50微米的金属(铜)膜，并形成具有大约540微米的宽度(w)、大约100毫米的厚度和大约540微米的开口间间隙的开口。随后，将如上所述制得的金属膜粘附到石英板(该石英板被处理以在其一个表面上形成具有大约200毫米的曲率半径的弯曲表面)的弯曲表面上，由此制造如图5中所示相同的掩模。

[0103] 滤光器的制造

[0104] 通过与实施例1中所述相同的方法制造滤光器，除了使用上面制造的掩模以外。图9中显示了通过上面的方法配向的光配向层的放大图像。

[0105] 实施例3

[0106] 通过与实施例1中所述相同的方法制造滤光器，除了在次级配向中将掩模与光配向层之间的间隙控制为大约500微米以外。图10中显示了通过上面的方法配向的光配向层的放大图像。