1.一种可以低温进行操作的锁模激光器系统，所述激光器系统包括：
光源；
退火频率转换晶体；
外壳，其在低温标准操作期间维持所述晶体的退火状况；
第一光束塑形光学器件，其经配置以从所述光源接收光束且将所述光束聚焦到位于所述晶体中或所述晶体接近处的光束腰处的椭圆形横截面；及
谐波分离块，其将来自所述晶体的输出分成在空间上分离的不同频率的光束。
2.根据权利要求1所述的锁模激光器系统，其中所述晶体具有约等于以下每一者的较小者的长度：沿非走离方向的瑞利距离的两倍；及长度，其等于沿走离方向的光束腰半径的两倍除以以弧度为单位的走离角。
3.根据权利要求2所述的锁模激光器系统，其中所述晶体为产生约266纳米的谐波的硼酸铯锂CLBO晶体且所述长度为至少12.5毫米。
4.根据权利要求1所述的锁模激光器系统，其进一步包含经配置以将所要频率光束的椭圆形横截面转换成所要纵横比的第二光束塑形光学器件。
5.根据权利要求1所述的锁模激光器系统，其中所述晶体中的所述椭圆形横截面具有
2:1到6:1之间的纵横比。
6.根据权利要求1所述的锁模激光器系统，其中所述第一光束塑形光学器件包含棱镜、圆柱形弯曲元件、径向对称弯曲元件及衍射元件中的至少一者。
7.根据权利要求1所述的锁模激光器系统，其中所述谐波分离块包含棱镜。
8.根据权利要求7所述的锁模激光器系统，其中所述棱镜为佩林-勃洛卡棱镜。
9.根据权利要求1所述的锁模激光器系统，其中所述晶体为非线性光学晶体。
10.根据权利要求1所述的锁模激光器系统，其中所述晶体为硼酸铯锂CLBO晶体、硼酸铯CBO晶体、β-硼酸钡BBO晶体、三硼酸锂LBO晶体、铌酸锂晶体以及磷酸二氢钾KDP晶体。
11.根据权利要求1所述的锁模激光器系统，其进一步包含用于产生所述光源的光学频率谐波的第二退火频率转换晶体。
12.一种以低温操作激光器系统的方法，所述方法包括：
将来自光源的光束聚焦到位于退火频率转换晶体中或所述晶体接近处的光束腰处的椭圆形横截面中；及
从所述晶体的输出将所要频率光束与任何非所要频率光束分离。
13.根据权利要求12所述的方法，其进一步包含在低温标准操作期间维持所述晶体的退火状况。
14.根据权利要求12所述的方法，其进一步包含将所述椭圆形横截面转换成圆形横截面。
15.一种用于检测测试表面上的污染物及缺陷的光学系统，所述光学系统包括：
激光器系统，其用于产生激光束；
光学器件，其沿路径将所述激光束导引到所述测试表面上且在所述测试表面上产生照射光点；
检测器，其检测光；及
椭球镜表面，所述镜表面及检测器具有围绕垂直于所述测试表面的线对称轴，所述镜表面界定定位于所述测试表面接近处以从所述测试表面接收穿过的散射光的输入小孔及射出小孔，所述镜表面实质上围绕所述对称轴而旋转对称，使得所述镜表面围绕所述对称轴旋转对称地将穿过所述输入小孔的光反射及聚焦到所述检测器，所述射出小孔位于所述输入小孔的相对处，
其中，所述激光器系统包括：
光源；
退火频率转换晶体，其具有约等于以下每一者的较小者的长度：沿非走离方向 的瑞利距离的两倍；及长度，其等于沿走离方向的光束腰半径的两倍除以以弧度为单位的走离角；
外壳，其在低温标准操作期间维持所述晶体的退火状况；
第一光束塑形光学器件，其经配置以从所述光源接收光束且将所述光束聚焦到所述晶体中或所述晶体接近处的光束腰处的椭圆形横截面；及
谐波分离块，其从所述晶体接收输出且从所述输出产生所述激光束及至少一个非所要频率光束。
16.根据权利要求15所述的光学系统，其中所述晶体为产生约266纳米的谐波的硼酸铯锂CLBO晶体且所述晶体长度为至少12.5毫米。
17.根据权利要求15所述的光学系统，所述激光器系统进一步包含经配置以将所要频率光束的椭圆形横截面转换成圆形横截面的第二光束塑形光学器件。
18.根据权利要求15所述的光学系统，其中所述晶体中的所述椭圆形横截面具有2:1到
6:1之间的纵横比。
19.根据权利要求15所述的光学系统，其中所述第一光束塑形光学器件包含若干棱镜。
20.根据权利要求15所述的光学系统，其中所述谐波分离块包含棱镜。
21.根据权利要求20所述的光学系统，其中所述棱镜为佩林-勃洛卡棱镜。
22.根据权利要求15所述的光学系统，其中所述晶体为吸湿性频率转换晶体。
23.根据权利要求15所述的光学系统，其中所述晶体为硼酸铯锂CLBO晶体以及硼酸铯CBO晶体。
24.一种用于检测样本的异常的光学系统，所述光学系统包括：
激光器系统，其用于产生第一及第二光束，所述激光器系统包括：
光源；
退火频率转换晶体，其具有约等于以下每一者的较小者的长度：沿非走离方向 的瑞利距离的两倍；及长度，其等于沿走离方向的光束腰半径的两倍除以以弧度为单位的走离角；
外壳，其在低温标准操作期间维持所述晶体的退火状况；
第一光束塑形光学器件，其经配置以从所述光源接收光束且将所述光束聚焦到所述晶体中或所述晶体接近处的光束腰处的椭圆形横截面；及
谐波分离块，其从所述晶体接收输出且从所述输出产生所述第一及第二光束及至少一个非所要频率光束；
第一光学器件，其沿第一路径将所述第一光束导引到所述样本的表面上的第一光点上；
第二光学器件，其沿第二路径将所述第二光束导引到所述样本的表面的第二光点上，所述第一及第二路径与所述样本的所述表面成不同入射角；
第一检测器；
集光光学器件，其包含弯曲镜表面，所述弯曲镜表面接收来自所述样本表面上的所述第一或所述第二光点及源于所述第一或第二光束的散射辐射且将所述散射辐射聚焦到所述第一检测器，所述第一检测器响应于由所述弯曲镜表面聚焦到其上的所述辐射而提供单一输出值；及
仪器，其导致所述第一及第二光束与所述样本之间的相对运动使得在所述样本的所述表面扫描所述光点。
25.根据权利要求24所述的光学系统，其中所述晶体为产生约266纳米的谐波的硼酸铯锂CLBO晶体且所述长度为至少12.5毫米。
26.一种表面检验设备，其包括：
激光器系统，其用于产生辐射光束，所述激光器系统包括：
光源；
退火频率转换晶体，其具有约为或等于基于光束腰半径及走离角的长度的长度；
外壳，其在低温标准操作期间维持所述晶体的退火状况；
第一光束塑形光学器件，其经配置以从所述光源接收光束且将所述光束聚焦到位于所述晶体中或所述晶体接近处的光束腰处的椭圆形横截面；及
谐波分离块，其从所述晶体接收输出且从所述输出产生所述辐射光束及至少一 个非所要频率光束；
照射系统，其经配置以按相对于表面的非法向入射角聚焦所述辐射光束以在所述表面上，实质上在所述聚焦光束的入射平面内，形成照射线，其中由所述聚焦光束及穿过所述聚焦光束且与所述表面正交的方向界定所述入射平面；
集光系统，其经配置以使所述照射线成像，其中所述集光系统包括：成像透镜，其用于收集从包括所述照射线的所述表面的区散射的光；聚焦透镜，其用于聚焦所述收集的光；及装置，其包括光敏元件阵列，其中所述光敏元件阵列的每一光敏元件经配置以检测所述照射线的放大图像的对应部分。
27.根据权利要求26所述的表面检验设备，其中所述晶体为产生约266纳米的谐波的硼酸铯锂CLBO晶体且所述长度为至少12.5毫米。
28.一种脉冲倍增器，其包括：
激光器系统，其用于产生输入激光器脉冲，所述激光器系统包括：
光源；
退火频率转换晶体，其具有约等于以下每一者的较小者的长度：沿非走离方向的瑞利距离的两倍；及长度，其等于沿走离方向的光束腰半径的两倍除以以弧度为单位的走离角；
外壳，其在低温标准操作期间维持所述晶体的退火状况；
第一光束塑形光学器件，其经配置以从所述光源接收光束且将所述光束聚焦到所述晶体中或所述晶体接近处的光束腰处的椭圆形横截面；及
谐波分离块，其从所述晶体接收输出且从所述输出产生所述输入激光器脉冲及至少一个非所要频率光束；
偏振光束分裂器，其接收所述输入激光器脉冲；
波板，其用于从所述偏振光束分裂器接收光且产生第一组脉冲及第二组脉冲，所述第一组脉冲具有不同于所述第二组脉冲的偏振；及
一组镜，其用于产生包含所述偏振光束分裂器及所述波板的环形腔，其中所述偏振光束分裂器将所述第一组脉冲透射为所述脉冲倍增器的输出且将所述第二组脉冲反射到所述环形腔中。
29.根据权利要求28所述的脉冲倍增器，其中所述晶体为产生约266纳米的谐波的硼酸铯锂CLBO晶体且所述长度为至少12.5毫米。
30.一种用于检测样本表面上的污染物及缺陷的系统，所述系统包括：
激光器系统，其用于产生激光束，所述激光器系统包括：
光源；
退火频率转换晶体，其具有约等于以下每一者的较小者的长度：沿非走离方向的瑞利距离的两倍；及长度，其等于沿走离方向的光束腰半径的两倍除以以弧度为单位的走离角；
外壳，其在低温标准操作期间维持所述晶体的退火状况；
塑形光学器件，其经配置以从所述光源接收所述激光束且将所述激光束聚焦到所述晶体接近处的光束腰处的椭圆形横截面；
光学器件，其沿路径将所述激光束导引到所述样本表面上且在所述样本表面上产生照射光点；
光学器件，其用于收集由所述样本表面散射的照射光；及
检测器，其用于检测散射光。
31.根据权利要求30所述的系统，其中所述晶体为产生约266纳米的谐波的硼酸铯锂CLBO晶体且所述长度为至少12.5毫米。