1.成像光学系统（7），包括多个镜（M1至M8；M1至M6），其将物平面（5）中的物场（4）成像到像平面（9）中的像场（8），镜（M6、M7、M8；M4、M5、M6）的至少一个包括供成像光（15）经过的通孔（21），
在所述物平面（5）和所述像平面（9）之间存在至少一个中间像平面（20，23；27），其特征在于，最接近像平面（9）的中间像平面（23；27）在物场（4）和像场（8）之间的光路中空间上设置于所述光路中的最后镜（M8；M6）和像平面（9）之间。
2.如权利要求1所述的成像光学系统，其特征在于，所述第四最后镜（M5；M3）为凸镜。
3.如权利要求1或2所述的成像光学系统，其特征在于，所述第四最后镜（M5；M3）位于所述光学成像系统（7）的光轴（19）上。
4.如权利要求1所述的成像光学系统，其特征在于，所述第四最后镜（M3）设置于所述光学成像系统（7）的光瞳平面（26）的区域中。
5.如权利要求1所述的成像光学系统（7），其特征在于所述成像光学系统（7）包括至少六个镜或至少八个镜（M1至M8；M1至M6），在物场（4）和像场（8）之间的光路中第四最后镜（M5；M3）和所述光路中的最后镜（M8；M6）之间的距离为物场（4）和像场（8）之间的距离的至少10％。
6.如权利要求1所述的成像光学系统（7），其特征在于，距所述像平面（9）的中间像平面（23；27）的距离至多是所述光路中的最后镜（M8；M6）距所述像平面（9）的距离的0.95倍。
7.如权利要求1所述的成像光学系统（7），其特征在于数值孔径至少0.4、优选至少
0.5、甚至更优选至少0.6、甚至更优选至少0.9。
8.如权利要求1所述的成像光学系统（7），其特征在于，所述成像光学系统（7）为包括精确的八个镜（M1至M8）的成像反射光学系统，所述八个镜（M1至M8）将物平面（5）中的物场（4）成像到像平面（9）中的像场（8），
其特征在于所述成像反射光学系统具有0.9的数值孔径。
9.如权利要求1所述的成像光学系统，其特征在于波前误差的最大均方根（rms）小于
10nm，优选小于5nm，甚至更优选小于2nm，甚至更优选小于1nm，甚至更优选小于0.5nm。
10.如权利要求1所述的成像光学系统，其特征在于最大变形小于10nm，优选小于5nm，甚至更优选小于2nm，甚至更优选小于1nm，甚至更优选小于0.5nm。
11.如权利要求1所述的成像光学系统，其特征在于光瞳遮拦小于20％，优选小于
15％，甚至更优选小于10％。
12.如权利要求1所述的成像光学系统，其特征在于所述像平面（9）设置平行于所述物平面（5）。
13.如权利要求1所述的成像光学系统，其特征在于所述像平面（8）大于1mm2，并且优选为具有1mm和13mm的边长的矩形或弧形像场（8）。
14.如权利要求1所述的成像光学系统，其特征在于缩小成像比例为8。
15.如权利要求1所述的成像光学系统，其特征在于奇数个(M6至M8；M4至M6)镜具有供成像光（15）经过的通孔（21）。
16.如权利要求1所述的成像光学系统，其特征在于至少一个中间像平面（20）在成像光学系统（7）的光瞳平面（25）的附近折叠，尤其与该光瞳平面一致。
17.如权利要求1所述的成像光学系统，其特征在于主光线（16）发散地延伸到从物场（4）到第一镜（M1）的光路中的相邻场点。
18.如权利要求1所述的成像光学系统，其特征在于所述成像光学系统包括精确的六个镜（M1至M6）和精确的两个中间像平面（20、23）。
19.微光刻的投射曝光设备
包括根据权利要求1至18的任一的成像光学系统（7），
包括照明和成像光（3）的光源（2），优选产生所述照明光（3）的光源（2）形成有10和
30mm之间的波长，
包括将照明光（3）引导到上述成像光学系统（7）的物面的照明光学系统（6）。
20.产生微结构的部件的方法，包括以下的步骤：
提供掩模母版（10）和晶片（11），
使用根据权利要求19的投射曝光设备，将掩模母版（10）上的结构投射到晶片（11）的光敏层上，
在晶片（11）上产生微结构。
21.根据权利要求20的方法产生的微结构部件。