Mounting stand for mounting the semiconductor manufacturing apparatus

申请号 JP2003573684 申请日 2003-02-27 公开(公告)号 JP2005519467A 公开(公告)日 2005-06-30
申请人 トリコン テクノロジーズ リミテッドTrikon Technologies Limited; 发明人 グリーン,ゴードン,ロバート; トラウェル,ロバート,ケネス;
摘要 【課題】
【解決手段】 クリーンルーム内の半導体製造装置(4)を据え付けるための据え付け台(3)において、ワッフルスラブに載置される基部フレーム(3a)と、据え付け台に前記半導体製造装置を据え付けるとき、当該半導体製造装置との接続が容易で、周囲から保守点検区域の範囲を規定するようにこの据え付け台の外周に設置されるか、または、この据え付け台の表面の一部を横切るように設置される多目的接続部(5)と、を含む据え付け台。
权利要求
  • クリーンルーム内の半導体製造装置(4)を据え付けるための据え付け台(3)において、
    ワッフルスラブに載置される基部フレーム(3a)と、据え付け台に前記半導体製造装置を据え付けるとき、当該半導体製造装置との接続が容易で、周囲から保守点検区域の範囲を規定するようにこの据え付け台の外周に設置されるか、または、この据え付け台の表面の一部を横切るように設置される多目的接続部(5)と、を含む据え付け台。
  • 前記基部フレーム(3a)から一定の間隔をおいて配置された上支持フレーム(3c)と、前記上支持フレームと基部フレームを脚部(3c)で相互に連結して箱枠型に形成した請求項1の据え付け台。
  • 前記支持フレーム(3b)の水平化を可能とするために脚部(3c)を調節できるようにした請求項2の据え付け台。
  • 前記支持フレーム(3b)が吊り床(1)のタイルの位置を決める請求項2または請求項3の据え付け台。
  • 前記基部フレーム(3a)が、床(1)を支持する請求項2乃至3のいずれかに記載の据え付け台。
  • 前記多目的接続部(5)が、前記基部フレーム(3a)の周囲に集められるとともに、複数の製造装置群4の周囲の位置に一致するように配置される請求項1から5のいずれかに記載の据え付け台。
  • クリーンルーム内の半導体製造装置(4)を据え付けるためにワッフルスラブ(2)上に載置されて用いられ、前記多目的接続部(5)および/または付属装置(7a)を収容する開口フレーム構造の据え付け台。
  • 水平なワッフルスラブと、前記ワッフルスラブの上方の上げ床と、前記ワッフルスラブと前記上げ床の間に位置し、前記ワッフルスラブ上に載置された上記したいずれかの請求項に記載の据え付け台と、を有する半導体の製造設備のためのクリーンルーム。
  • 说明书全文

    この発明は、半導体製造装置の据え付け台に関する。
    (背景技術)

    半導体の製造装置は、大型であり、種種の多目的接続部を必要とする。

    これにより、製造設備、または、通常のモジュール式組立部品であって高さがある床の上のメインフレームに接続される多目的接続部および配管(分岐管及びこれと同種のもの)が収容される大きなメインフレームを想定して設計されることとなった。

    この設計は多目的接続部と装置の支持部品への迅速なメンテナンス・アクセスを可能とするためになされているのであるが、これにより、装置は非常に複雑になり、製造設備への据え付けは厄介なものになり、また、接続部が煩雑になってしまった。

    上記構造の代表例として、EP-A-1107288の特に、図5,6,7,8,12,13,14,15,16,18に図示されている、いわゆるワンボックスシステムがある。

    代替的な提案としては、いわゆるツーボックスシステムがある。 このシステムにおいて、製造システムは、メインシステムと、例えば、電子機器用ラック、電源、電気配線などを格納するとともに、おそらく床に載置されるか、壁に懸架される第二キャビネットとに分割されている。

    ツーボックスの概念は、アクセスとメンテナンスの容易さに利点がある反面、機器の載置面積を著しく増大させることになった。

    クリーンルーム内に設置しなければならないこれら全ての装置の載置面積は、基板製造設備の建築・維持費に著しく影響を及ぼす。
    (発明の開示)

    一の態様による本発明は、クリーンルーム内の半導体製造装置を据え付けるための据え付け台において、ワッフルスラブに載置される基部フレームと、据え付け台に前記半導体製造装置を据え付けるとき、当該半導体製造装置との接続が容易で、周囲から保守点検区域の範囲を規定するようにこの据え付け台の外周に設置されるか、または、この据え付け台の表面の一部を横切るように設置される多目的接続部と、を含む据え付け台により構成される。

    高品質のクリーンルームでは、床は、通常ワッフルスラブとして公知の穿孔構造の支持体上の支柱に支持された床か懸架された床である。

    この構造は、層流が上記の上げ床または吊り床を通過し、ワッフルスラブを通過し、その下の給気空間へ帰還することを可能にするためのものである。 そしてその後、空気は空気調節装置へと再循環する。

    ワッフルスラブと上げ床の間のスペース(典型的には600mm)は、通常、有効利用されていない。

    しかしながら、例外的に、大型装置のためにワッフルスラブに荷重を直接伝えるための台座が割り当てられることもあるが、ほとんどの製造装置は上げ床上に支持されている。

    現在の好ましい実施の形態において、装置の載置面積を著しく増加させることなく、上述の製造装置に所要の載置面積を減少させるために、据え付け台は,ワッフルスラブと、上げ床または吊り床の間のスペース内に適合する寸法にされている。 なぜなら、据え付け台は、多目的接続部などの構成部分に囲まれていないからである。

    しかしながら、据え付け台の載置面積は、この装置の寸法に限定されるものではなく、これより大きくてもよいし小さくてもよい。

    据え付け台は、箱型フレームのような開口フレーム構造の形に形成することが、特にのぞましい。 また、便利なように、据え付け台は、基部フレームを上フレームから一定の間隔をおいて配置し、脚部により相互に連結することがのぞましい。

    開口フレーム構造により、ワッフルスラブレベル下の給気空間からの基部フレームへのアクセスは容易になったうえ、多目的供給部または接続部のメンテナンスを容易に行うことを可能になり、実際に、製造装置の底面へのアクセスが非常に簡便になった。

    脚部の長さは、支持フレームの平化が可能なように、調節可能になっていることが好ましい。 この水平化は、特に上支持フレームのレベルを床と同一水準にするためのものである。

    装置内で取り扱われる基板に重が垂直に働くように、正確な水平標準を保つため、更なる調節が、支持フレームと製造装置の間で可能になっている。

    上支持フレームにより、吊り床または上げ床のタイルを位置決めするようにしてもよい。

    基部フレームは床を支持し、この床を、便利なように液受けトレイとして構成してもよい。

    複数の製造装置群の周囲の垂れ下がる接続を可能にするために、フレームの周囲に多目的接続部を集めるようにしてもよい。

    据え付け台に、例えば、真空ポンプ、冷却循環器、熱交換器、電源、制御システムおよび他の付属装置を収容してもよい。 しかし、これらの付属装置は、保守点検アクセスを邪魔しないように、また、付属装置自体に、保守点検区域から迅速にアクセス可能なように配置するべきである。

    他の実施の形態による本発明は、クリーンルーム内の半導体製造装置を据え付けるためにワッフルスラブ上に載置されて用いられ、前記多目的接続部および/または付属装置を収容する開口フレーム構造の据え付け台で構成されている。

    更なる形態の本発明は、ワッフルスラブレベルと、ワッフルスラブ上の上げ床と、ワッフルスラブ上に載置されワッフルスラブと上げ床の間に位置する上記記載において定義された据え付け台とを有する半導体の製造装置設備のためのクリーンルームで構成される。

    既に指摘した利点に加えて、半導体装置の購入者にとって著しい経済的な利点がある。

    現在、半導体装置は単一の施設で組み立てられる傾向がある。 なぜなら、これらの施設は、世界の高い賃金の地域にある傾向がある。 その理由は、全体的に複雑な本装置は、熟練した知識の豊富なエンジニアが、組立ておよびテストを行わなければものだからである。

    しかしながら、提案された本件据え付け台は、組み立てが比較的容易で、そして、低賃金の地域のそれほど技術レベルの高くない工場で作ることが可能である。

    従って、本件据え付け台は、製造原価の値下げの機会を提供する。

    さらに、ユーザーは、装置が届く前に、据え付け台をクリーンルームに据え付けることができ、従って、装置の据え付けと試運転の時間を削減することができる。

    そして、また、ユーザーは異なる出所からの装置をテストする間、あるいは、一つの製造装置を別のものにとりかえる場合にも、据え付け台を据置いたままにしておくことができた。

    本発明は上述のように定義されているが、以下に示すいかなる発明の組み合わせも含むものと解される。

    本発明は、添付の図面で言及される例により示される、様様な方法で実施してもよい。

    図1は,クリーンルーム内の据え付け台上に取り付けられた半導体装置の概略図である.
    また、図2は、据え付け台を別の形式で詳細に示した図である。

    図1において、床1は、不図示の支持体によりワッフルスラブ2上に支持される。

    開口フレーム構造の据え付け台3は、ワッフルスラブに据え付けられ、床1とワッフルスラブ2の間のスペースに位置する。

    据え付け台は、4で概略的に図示された半導体製造装置を支持する。

    多目的接続部(例えば、冷却水、プロセス流体、抽出物配管、電源など)は5に一般的に示されていて、必要な保守点検のための複数の接続部を有する分岐管6に接続してもよい。

    接続部5および分岐管6の両方がアクセス可能に床を通るので、メンテナンスを容易に行うことができることができる。

    分岐管6は、基本的に据え付け台3の上面の一部を横切るように延びているので保守点検区域へのアクセスを制限しない。

    しかしながら、図2に示すようにこれらの設備は、フレーム3内の周囲に配置することがのぞましい。

    図2によれば、7に示される、液体、真空およびガス用の分岐管とケーブル配線は、据え付け台内の周囲と据え付け台外の周囲のいずれかを囲むように延びていることがわかる。

    さらに7aで示される付属装置を、フレーム3に取り付けてもよい。

    据え付け台3自体を、基部フレーム3a、上フレーム3bと脚部3cを有する箱枠型に形成してもよい。

    このオープン構造は、種種の管体等を懸架状態に固定することができ、保守点検アクセスをし易くしている。

    基部フレーム3aの使用は、以下のような更なる効果をもたらす。

    第一に、脚部3cをワッフルスラブ層の孔に合わせることなしに、ワッフルスラブ層のいかなる場所にも設置することができる。

    第二に、据え付け台の周囲または基部フレームシステムの周りの床を調節することにより、アクセスのための口が開口可能になる。 また、層流に乗ったり、ワッフルスラブ区域を汚染する液体を、確実に減少させるための液受けトレイとして機能する床8を基部フレーム3a内に設置することがとりわけ簡単にできる。

    固定具9は、ワッフルスラブ層を支持する横柱を固定するために位置調節ができるようにフレーム3a上でスライド可能に設置されている 装置4が設置される支持フレーム3b(図1参照)には、上げ床1のタイルを支持するための外周フランジ10を設けてもよい。

    図1中に示される装置4は、完全なものではなく、基板処理装置や、制御装置などを含むメイン中央ユニットを分かり易く図示してある。

    顧客が選択した製造装置群を、スロットバルブ4bを通じて基板にアクセスするための中央ユニット4aの周りに配置してもよい。

    これらの装置群のための保守点検接続部は、中央ユニット4aに付属された装置群の位置に一致するように、フレーム3の周囲の然るべき位置に集められるようになっている。

    このような接続部の配置は11で図示されている。

    図1は、クリーンルーム内の据え付け台上に取り付けられた半導体装置の概略図。

    図2は、据え付け台を別の形式で詳細に示した図。

    符号の説明

    1 床 2 ワッフルスラブ 3 据え付け台 4 半導体製造装置 5 多目的接続部 6 分岐管 7 付属装置 8 液受けトレイ用床 9 固定具

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