一种用水调节结构 |
|||||||
| 申请号 | CN201410125251.2 | 申请日 | 2014-03-31 | 公开(公告)号 | CN103867769A | 公开(公告)日 | 2014-06-18 |
| 申请人 | 成都振中电气有限公司; | 发明人 | 陈怀之; 王刚; 聂海涛; 张仁友; 胡国波; | ||||
| 摘要 | 本 发明 公布了一种用 水 调节结构，包括壳体，所述壳体上端设置有外 螺纹 ，所述壳体的下端设置有 内螺纹 ，在所述壳体内部设置有密封腔体，在密封腔体的顶部安装有滤网，密封腔体的底部开个多个环形阵列分布的限流孔，在密封腔体的轴心处设置中心杆，中心杆的中部滑动设置有密封机构，所述中心 杆底 端设置有 挡板 ，挡板上安装有 弹簧 ，弹簧的一端与密封机构连接；在水流在密封腔体内积累到一定程度时，密封机构受到水压以及水流冲击的影响沿中心杆轴向运动，与密封机构的底部连接的弹簧被压缩，使得密封机构自动将限流孔内遮挡，进而减少了水量的流出，避免了水流在限流孔处形成喷射对于壳体连接的设备造成冲击。 | ||||||
| 权利要求 | 1.一种用水调节结构，包括壳体（1），所述壳体（1）上端设置有外螺纹，所述壳体（1）的下端设置有内螺纹，其特征在于：在所述壳体（1）内部设置有密封腔体（2），在密封腔体（2）的顶部安装有滤网（3），密封腔体（2）的底部开个多个环形阵列分布的限流孔（4），在密封腔体（2）的轴心处设置中心杆（5），中心杆（5）的中部滑动设置有密封机构，所述中心杆（5）底端设置有挡板（6），挡板（6）上安装有弹簧（7），弹簧（7）的一端与密封机构连接。 |
||||||
| 说明书全文 | 一种用水调节结构技术领域[0001] 本发明涉及一种控水机构，具体是指一种用水调节结构。 背景技术[0002] 配电柜（箱）分动力配电柜（箱）和照明配电柜（箱）、计量柜（箱），是配电系统的末级设备。配电柜是电动机控制中心的统称，配电柜使用在负荷比较分散、回路较少的场合；电动机控制中心用于负荷集中、回路较多的场合，它们把上一级配电设备某一电路的电能分配给就近的负荷，这级设备应对负荷提供保护、监视和控制。 [0003] 在配电柜的生产加工时，从原材料的切割到最后配电柜成品的喷漆处理，会产生较多的废料残渣和油污、油漆，为保证生产车间的干净整洁，需要及时地对其进行清理；最常见的处理方法便是利用水冲洗，期间会使用到较大用量的水，为降低用水量，通常采用控水阀门，但长时间的使用控水阀门受到强压水流的冲击很容易受损，进而影响调节水流量的效率。 发明内容[0004] 本发明的目的在于提供一种用水调节结构，减小水流对壳体内部的冲击，提高供水控制的精确度。 [0005] 本发明的目的通过下述技术方案实现：一种用水调节结构，包括壳体，所述壳体上端设置有外螺纹，所述壳体的下端设置有内螺纹，在所述壳体内部设置有密封腔体，在密封腔体的顶部安装有滤网，密封腔体的底部开个多个环形阵列分布的限流孔，在密封腔体的轴心处设置中心杆，中心杆的中部滑动设置有密封机构，所述中心杆底端设置有挡板，挡板上安装有弹簧，弹簧的一端与密封机构连接。本发明工作时，水流由壳体上端流出，在滤网的过滤作用下进入到密封腔体，当水流过小时对密封机构产生的冲击较小，水流以稳定的速度直接从密封腔体底部的环形阵列分布的限流孔中流出；当水流过大时，水流以较大的冲量形成对密封机构的冲击，并且在水流在密封腔体内积累到一定程度时，密封机构受到水压以及水流冲击的影响沿中心杆轴向运动，与密封机构的底部连接的弹簧被压缩，使得密封机构自动将限流孔内遮挡，进而减少了水量的流出，避免了水流在限流孔处形成喷射对于壳体连接的设备造成冲击，当密封腔体内水量降低时，水压与水流对密封机构的影响减小，压缩的弹簧回复将密封机构上顶，进而增大了限流孔中水流的通过量，以此往复，使得从限流孔中流出的液体始终保持稳定的速度，降低了水流对壳体内壁以及外部连接设备的冲击。 [0006] 所述密封机构包括密封盖，所述密封盖为弧形，在所述密封盖底部开有球形凹槽，中心杆贯穿球形凹槽底部，球形凹槽的底部安装有环形凸起，所述挡板上开有环形凹槽，环形凹槽与环形凸起啮合，且环形凸起的端面与弹簧相连。弧形的密封盖可将环形阵列分布在密封腔体中心的限流孔遮挡，起到稳定控制的水流流出的作用，当密封腔体内水量积累较多时，产生的较大的水压，再加上不停流进密封腔体内的水流，使得密封盖上受力不均匀，环形凸起与环形凹槽相啮合，保证了密封盖的调节中的稳定性，避免了密封盖发生侧偏。 [0007] 还包括嵌入滤网中的保护筒，所述保护筒的下端端部安装有锥形盖板，中心杆的顶端设置在保护筒中。密封盖滑动设置在中心杆上，液体流进密封腔体后会对密封盖产生直接的冲击，降低了密封盖的性能和使用寿命；保护筒下端端部设置的锥形盖板可对水流进行一定阻挡和分散，降低密封盖的磨损，延长其使用寿命。 [0009] 所述弹簧为扭转弹簧。由于密封盖受水流和水压的影响，密封盖上的受力不均匀，因此各弹簧所受的压力大小不同，长时间的使用会导致部分弹簧过度使用，而剩余部分的弹簧完好无缺，进而造成密封盖的调节水流流出量作用降低，扭转弹簧可进行多方向的拉伸或是压缩，其稳定的伸缩性能可保证控水机构的长期使用。 [0010] 本发明与现有技术相比，具有如下的优点和有益效果：1、本发明一种用水调节结构，包括壳体，所述壳体上端设置有外螺纹，所述壳体的下端设置有内螺纹，在所述壳体内部设置有密封腔体，在密封腔体的顶部安装有滤网，密封腔体的底部开个多个环形阵列分布的限流孔，在密封腔体的轴心处设置中心杆，中心杆的中部滑动设置有密封机构，所述中心杆底端设置有挡板，挡板上安装有弹簧，弹簧的一端与密封机构连接；在水流在密封腔体内积累到一定程度时，密封机构受到水压以及水流冲击的影响沿中心杆轴向运动，与密封机构的底部连接的弹簧被压缩，使得密封机构自动将限流孔内遮挡，进而减少了水量的流出，避免了水流在限流孔处形成喷射对于壳体连接的设备造成冲击； 2、本发明一种用水调节结构，为避免液体对密封盖和中心杆的侵蚀，在密封盖的上方安装密封垫圈，保证密封盖在中心杆的稳定滑动； 3、本发明一种用水调节结构，扭转弹簧可进行多方向的拉伸或是压缩，其稳定的伸缩性能可保证控水机构的长期使用。 附图说明 [0011] 此处所说明的附图用来提供对本发明实施例的进一步理解，构成本申请的一部分，并不构成对本发明实施例的限定。在附图中：图1为本发明结构示意图； 附图中标记及相应的零部件名称： 1-壳体、2-密封腔体、3-滤网、4-限流孔、5-中心杆、6-挡板、7-弹簧、8-密封盖、9-环形凸起、10-环形凹槽、11-保护筒、12-锥形盖板、13-密封垫圈。 具体实施方式[0012] 为使本发明的目的、技术方案和优点更加清楚明白，下面结合实施例和附图，对本发明作进一步的详细说明，本发明的示意性实施方式及其说明仅用于解释本发明，并不作为对本发明的限定。实施例 [0013] 如图1所示，本发明一种用水调节结构，包括壳体1，所述壳体1上端设置有外螺纹，所述壳体1的下端设置有内螺纹，在所述壳体1内部设置有密封腔体2，在密封腔体2的顶部安装有滤网3，密封腔体2的底部开个多个环形阵列分布的限流孔4，在密封腔体2的轴心处设置中心杆5，中心杆5的中部滑动设置有密封机构，所述中心杆5底端设置有挡板6，挡板6上安装有弹簧7，弹簧7的一端与密封机构连接；所述密封机构包括密封盖8，所述密封盖8为弧形，在所述密封盖8底部开有球形凹槽，中心杆5贯穿球形凹槽底部，球形凹槽的底部安装有环形凸起9，所述挡板6上开有环形凹槽10，环形凹槽10与环形凸起9啮合，且环形凸起9的端面与弹簧7相连；还包括密封垫圈13，所述密封垫圈13安装在密封盖8上。 [0014] 本发明工作时，水流由壳体1上端流出，在滤网3的过滤作用下进入到密封腔体2，当水流过小时对密封机构产生的冲击较小，水流以稳定的速度直接从密封腔体2底部的环形阵列分布的限流孔4中流出；当水流过大时，水流以较大的冲量形成对密封机构的冲击，并且在水流在密封腔体2内积累到一定程度时，密封机构受到水压以及水流冲击的影响沿中心杆5轴向运动，与密封机构的底部连接的弹簧7被压缩，使得密封机构自动将限流孔4内遮挡，进而减少了水量的流出，避免了水流在限流孔4处形成喷射对于壳体1连接的设备造成冲击，当密封腔体2内水量降低时，水压与水流对密封机构的影响减小，压缩的弹簧7回复将密封机构上顶，进而增大了限流孔4中水流的通过量，以此往复，使得从限流孔4中流出的液体始终保持稳定的速度，降低了水流对壳体1内壁以及外部连接设备的冲击，弧形的密封盖8可将环形阵列分布在密封腔体2中心的限流孔4遮挡，起到稳定控制的水流流出的作用，当密封腔体2内水量积累较多时，产生的较大的水压，再加上不停流进密封腔体2内的水流，使得密封盖8上受力不均匀，环形凸起9与环形凹槽10相啮合，保证了密封盖8的调节中的稳定性，避免了密封盖8发生侧偏。 [0015] 还包括嵌入滤网中的保护筒11，所述保护筒11的下端端部安装有锥形盖板12，中心杆5的顶端设置在保护筒11中。密封盖8滑动设置在中心杆5上，液体流进密封腔体2后会对密封盖8产生直接的冲击，降低了密封盖8的性能和使用寿命；保护筒11下端端部设置的锥形盖板12可对水流进行一定阻挡和分散，降低密封盖8的磨损，延长其使用寿命；为避免液体对密封盖8和中心杆5的侵蚀，在密封盖8的上方安装密封垫圈13，保证密封盖 8在中心杆5的稳定滑动。 [0016] 以上所述的具体实施方式，对本发明的目的、技术方案和有益效果进行了进一步详细说明，所应理解的是，以上所述仅为本发明的具体实施方式而已，并不用于限定本发明的保护范围，凡在本发明的精神和原则之内，所做的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。 |
||||||
QQ群二维码
意见反馈
意见反馈