Gas ballast device for multistage displacement type pump |
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申请号 | JP17117299 | 申请日 | 1999-06-17 | 公开(公告)号 | JP2000038986A | 公开(公告)日 | 2000-02-08 |
申请人 | Pfeiffer Vacuum Gmbh; プファイファー・ヴァキューム・ゲーエムベーハー; | 发明人 | BERNHARDT KARL-HEINZ; | ||||
摘要 | PROBLEM TO BE SOLVED: To fill gas having a sufficient rate into a displacement chamber without narrowing a cross section of a throttle part by arranging a gas filling mechanism for filling as into an intermediate vacuum chamber, and arranging the other gas filling mechanism for filling gas from the intermediate vacuum chamber into the displacement chamber. SOLUTION: A two stage type displacement pump is provided with two pump stages 1, 2, and an intake valve 3 and a discharge valve 4 are mounted on the first pump stage 1 in those pump stages 1, 2. Two pump stages 1, 2 are connected to each other through an intermediate vacuum chamber 5. A first gas filling mechanism 6 is arranged for filling gas into the intermediate vacuum chamber 5, and is provided with a throttle part 9. A second gas filling mechanism 7 is arranged for filling gas from the intermediate vacuum chamber 5 into a displacement chamber 8, and is provided with a throttle part 10. As a gas ballast system can be efficiently formed and a rate for filling gas into the intermediate vacuum chamber 5 can be appropriately set in the throttle part, it is possible to prevent a wrong effect from exerting on a pump characteristic. COPYRIGHT: (C)2000,JPO |
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权利要求 | 【請求項1】 第1段(1)が1つの容積式ポンプ段または互いに並列に接続された複数の容積式ポンプ段で構成され、前記第1段(1)に吸入弁(3)及び吐出弁(4)が装備され、前記第1段(1)が中間真空室(5)を介して後続段に接続された多段容積式ポンプのガスバラスト装置において、 前記中間真空室(5)の中へガスを注入し得るように設けた第1ガス注入機構(6)と、前記中間真空室(5) から前記第1段(1)の押しのけ室(8)の中へガスを注入し得るように設けた第2ガス注入機構(7)とを備えたことを特徴とするガスバラスト装置。 【請求項2】 前記第2ガス注入機構(7)を、前記中間真空室(5)から前記第1段(1)の前記押しのけ室(8)の中へガスを注入する代わりに、第2ガス注入機構(7')を前記中間真空室(5)から前記第1段(1)の吸入部(12)へガスを注入し得るように設けたことを特徴とする請求項1記載のガスバラスト装置。 【請求項3】 前記第1及び第2ガス注入機構(6、 7)、(6、7')のうちの少なくとも一方のガス注入機構に、絞り部(9、10)、(9、10')を備えたことを特徴とする請求項1または2記載のガスバラスト装置。 |
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说明书全文 |
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