1.一种用于向基质施加处理试剂的方法，所述方法包括：在密闭容器中在包含固体颗粒处理试剂的水性体系中处理预润湿的基质，所述处理在液体与基质之比不超过2:1的条件下进行，
其中所述基质利用包含所述固体颗粒处理试剂的水性液体进行处理，其中所述处理试剂以部分或全部溶解的形式或者以部分或全部悬浮或分散的形式存在于所述水性液体中,其中所述基质包括天然织物基质或合成织物基质、或者包含天然织物纤维、人造织物纤维和/或合成织物纤维的共混物的基质，其中所述天然织物基质包括毛、棉和/或丝，并且所述合成织物基质任选地包括聚酯、聚酰胺、聚烯烃、聚丙烯腈和/或二乙酸纤维素或三乙酸纤维素，
其中所述固体颗粒处理试剂包括至少一种染料，以及所述方法在不存在添加的电解质的条件下进行，
其中所述固体颗粒处理试剂任选地包括球粒或粉末，
其中所述固体颗粒处理试剂任选地以被处理的基质的1％w/w至5％w/w的水平添加至处理体系。
2.根据权利要求1所述的方法，其中所述处理包括使用包含所述固体颗粒处理试剂的水性液体对所述基质进行打湿，所述打湿在液体与基质之比不超过2:1的条件下进行。
3.根据权利要求1所述的方法，其中所述处理包括利用包含所述固体颗粒处理试剂的水性液体对所述基质的任一侧或两侧进行喷洒以提供不超过2:1的液体与基质之比。
4.根据权利要求1所述的方法，其中所述处理包括利用水对所述基质进行打湿以及利用所述固体颗粒处理试剂对经打湿的基质进行后续处理。
5.根据权利要求1至4中任一项所述的方法，其中所述基质包括塑料材料、毛发、橡胶、纸张、纸板或木材。
6.根据权利要求1所述的方法，其中所述至少一种染料选自酸性染料、偶氮着色剂、碱性染料、直接染料、活性染料、分散染料、还原染料和硫化染料。
7.根据权利要求1至4中任一项所述的方法，其中所述固体颗粒处理 试剂包括织物整理化学品。
8.根据权利要求7所述的方法，其中所述织物整理化学品选自防水剂、抗皱剂、抗菌剂和荧光增白剂。
9.根据权利要求1至4中任一项所述的方法，其中所述固体颗粒处理试剂包括至少一种漂白剂。
10.根据权利要求9所述的方法，其中所述漂白剂选自过硼酸盐、过酸、亚硫酸氢钠和二氧化硫脲。
11.根据权利要求10所述的方法，其中所述漂白剂选自过硼酸钠或过碳酸钠。
12.根据权利要求1至4中任一项所述的方法，其中所述水性体系包括至少一种附加的助剂。
13.根据权利要求12所述的方法，其中所述至少一种附加的助剂能够选自碱性材料、酸、氧化剂和还原剂。
14.根据权利要求12所述的方法，其中所述至少一种附加的助剂包括表面活性剂。
15.根据权利要求12所述的方法，其中所述至少一种附加的助剂包括以0.5 g·L-1至
10.0 g·L-1的水平添加的至少一种表面活性剂。
16.根据权利要求12所述的方法，其中所述至少一种附加的助剂包括以1 g·L-1至15 g·L-1的量添加的至少一种碱性试剂。
17.根据权利要求12所述的方法，其中所述固体颗粒处理试剂还包括所述至少一种附加的助剂。
18.根据权利要求1所述的方法，其中所述电解质选自碱金属的卤化物或碱金属的硫酸盐。
19.根据权利要求1或18所述的方法，其中所述电解质选自氯化钠、氯化锂、氯化钾、氯化铯和硫酸钠。
20.根据权利要求1所述的方法，其中所述电解质选自单羧酸盐、二羧酸盐和/或三羧酸的盐或甜菜碱。
21.根据权利要求1所述的方法，其中所述电解质选自酸、缓冲剂或酸供体试剂。
22.根据权利要求21所述的方法，其中所述酸选自硫酸、乙酸和甲酸。
23.根据权利要求21所述的方法，其中所述缓冲剂选自乙酸/乙酸钠和正磷酸二氢钠/正磷酸氢二钠。
24.根据权利要求21所述的方法，其中所述酸供体试剂选自二乙基内酯、乳酸乙酯和γ-丁内酯。
25.根据权利要求1所述的方法，其中所述电解质包括分散剂。
26.根据权利要求21所述的方法，其中所述酸供体试剂选自蛋白质缩合物、多磷酸酯/盐、木质素磺酸酯/盐和芳基磺酸的甲醛缩聚物。
27.根据权利要求1至4中任一项所述的方法，所述方法在20℃至140℃的温度下进行。
28.根据权利要求27所述的方法，其中所述温度为50℃至65℃。
29.根据权利要求1至4中任一项所述的方法，所述方法在液体与基质之比≤1:1的条件下进行。
30.根据权利要求1至4中任一项所述的方法，其中所述密闭容器是密封染色罐或其他可密封的染色或织物处理装置。
31.根据权利要求1至4中任一项所述的方法，其中所述密闭容器由金属或塑料形成。
32.根据权利要求1至4中任一项所述的方法，其中含有所述基质的所述水性体系在执行所述方法期间被搅拌。
33.根据权利要求1至4中任一项所述的方法，所述方法进行10分钟至45分钟的持续时间。
34.根据权利要求1至4中任一项所述的方法，其中经处理的基质随后被清洗和/或漂洗。
35.根据权利要求34所述的方法，其中所述方法包括在所述施加之后利用水对所述基质进行不超过三次的清洗处理。
36.根据权利要求35所述的方法，所述方法包括三阶段过程，所述三阶段过程包括依次执行以下步骤：
(a)在密闭容器中在水与基质之比不超过2:1的条件下利用水对经处理的基质进行第一清洗；
(b)在密闭容器中在水与基质之比不超过2:1的条件下利用水对经处理的基质进行第二清洗；以及
(c)在密闭容器中在水与基质之比不超过20:1的条件下利用水对经处理的基质进行最终清洗。
37.根据权利要求36所述的方法，其中在密闭容器中利用水对经处理的基质进行的所述最终清洗在水与基质之比为5:1至10:1的条件下进行。
38.根据权利要求36或37所述的方法，其中所述第一清洗步骤和所述第二清洗步骤在
15℃至25℃的环境温度下进行，而所述最终清洗步骤在40℃至80℃的温度下执行。
39.根据权利要求38所述的方法，其中所述最终清洗步骤在70℃的温度下执行。
40.根据权利要求36或37所述的方法，其中各个清洗步骤的持续时间为10分钟至15分钟。
41.根据权利要求36或37所述的方法，其中所述第一清洗步骤和所述第二清洗步骤在
15℃至25℃的环境温度下进行10分钟至15分钟的持续时间，而所述最终清洗步骤在15℃至
25℃的环境温度下执行15分钟至45分钟的持续时间。
42.根据权利要求36或37所述的方法，其中在各个清洗步骤之后在环境温度下利用自来水对所述基质进行漂洗。
43.根据权利要求35所述的方法，所述方法包括两阶段过程，所述两阶段过程包括依次执行以下步骤：
(a)在密闭容器中在水与基质之比不超过5:1的条件下利用水对经处理的基质进行第一清洗；以及
(b)在密闭容器中在水与基质之比不超过10:1的条件下利用水对经处理的基质进行第二清洗。
44.根据权利要求43所述的方法，其中在密闭容器中利用水对经处理的基质进行的所述第一清洗在15℃至98℃之间的温度下进行。
45.根据权利要求43或44所述的方法，其中所述第二清洗步骤在15℃至25℃的环境温度下执行。
46.根据权利要求43或44所述的方法，其中所述第一清洗步骤的持续时间为15分钟。
47.根据权利要求43或44所述的方法，其中所述第二清洗步骤执行 3分钟的持续时间。
48.根据权利要求43或44所述的方法，其中在各个清洗步骤之后不进行在环境温度下利用自来水对所述基质的漂洗。
49.根据权利要求35、36、37、43和44中任一项所述的方法，其中在不存在添加的辅助处理试剂的条件下执行所述清洗过程中的一个或更多个。
50.根据权利要求35、36、37、43和44中任一项所述的方法，其中所述经处理的基质包括染色基质以及过剩的所述处理试剂包括染料。
51.根据权利要求34所述的方法，其中所述经处理的基质随后根据权利要求35至50中任一项所述方法进行清洗和/或漂洗。
52.一种基质，所述基质任何时候通过根据权利要求1至51中任一项所述的方法处理。