摩擦布、滚筒、液晶配向角制作方法及碎屑清除方法 |
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| 申请号 | CN201310187956.2 | 申请日 | 2013-05-20 | 公开(公告)号 | CN103278968B | 公开(公告)日 | 2016-06-29 |
| 申请人 | 京东方科技集团股份有限公司; 北京京东方显示技术有限公司; | 发明人 | 王宇鹏; 田超; | ||||
| 摘要 | 本 发明 公开了一种摩擦布、滚筒、 液晶 配向 角 制作方法及碎屑清除方法，为解决 现有技术 当液晶配向工艺中残留碎屑的清洁效果差等问题而设计。所述摩擦布采用溶解带有羟基和氰基至少之一染料的溶液进行 染色 。所述滚筒的外表面设有如上所述的摩擦布。所述液晶配向角制作方法，液晶配向角采用外表面包裹有本发明所述的摩擦布的滚筒制作而成。所述碎屑清除方法，在光照条件下，采用上述的摩擦布或上述滚筒清除碎屑。本发明摩擦布、滚筒、液晶配向角制作方法及碎屑消除方法，具有清洁效果好，实现简单快捷，成本低等多重优点。 | ||||||
| 权利要求 | 1.一种滚筒，其用于制作液晶配向角，其特征在于，在所述滚筒的外表面设有摩擦布,所述摩擦布是采用溶解带有羟基和氰基至少之一染料的溶液进行染色。 |
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| 说明书全文 | 摩擦布、滚筒、液晶配向角制作方法及碎屑清除方法技术领域[0001] 本发明涉及机械领域及显示领域，尤其涉及一种摩擦布、滚筒、液晶配向角制作方法及碎屑清除方法。 背景技术[0002] 在液晶面板的制作工艺中，在阵列基板以及彩膜基板上均需形成液晶的配向膜；通常配向膜的形成为先在基板上均匀涂覆PI（Polyimide）液形成PI层，在通过滚筒按照所需的液晶取向在PI层制作出配向角或配向沟道。 [0003] 在此工艺中，会产生很多碎屑如从PI层上脱落的碎屑，这些碎屑大小不一，现有的工艺主要是加强对阵列基板以及彩膜基板的清洗，技术成熟，但是存在以下问题： [0004] 第一：较小的碎屑以清洗的方式实现彻底清洁难度大，工作效率低； [0005] 第二：清洁不彻底，将导致显示面板组装后的显示不良； [0006] 第三：实现繁琐且成本高。 发明内容[0007] （一）发明目的 [0008] 针对上述问题，本发明提供一种清洁效果好、实现简单且实现成本低的摩擦布、滚筒、液晶配向角制作方法及碎屑清除方法。 [0009] （二）技术方案 [0010] 为达上述目的，本发明摩擦布，采用溶解带有羟基和氰基至少之一染料的溶液进行染色。 [0011] 优选地，所述染料为2-氰基-3-{6-{4-[N,N-二(4-己氧基苯基)胺基]苯基}-4,4-二己基-4H-二噻吩[2,1-b:3,4-b']并环戊二烯}丙烯酸、2-氰基-3-{N-己基-{4-[N,N-二(4-己氧基苯基)胺基]苯基}-二噻吩[3,2-b:2,3’-d]并吡咯}丙烯酸以及2-氰基-3-{6-{4-[N,N-二(4-己氧基苯基)胺基]苯基}-4,4-二己基-4H-二噻吩[2,1-b:3,4-b']并噻咯}丙烯酸中的一种或多种。 [0012] 优选地，溶解所述染料的物质为氯仿和/或乙醇。 [0013] 优选地，所述摩擦布的材质为棉布。 [0014] 为达上述目的，本发明滚筒的外表面设有如上所述的摩擦布。 [0015] 具体地，所述滚筒为液晶配向角制作滚筒。 [0016] 为达上述目的，本发明液晶配向角制作方法，液晶配向角采用如上所述滚筒制作而成。 [0017] 进一步地，包括以下步骤： [0018] 步骤S1：在基板上均匀涂覆PI液形成PI层； [0019] 步骤S2：在光照条件下，采用所述滚筒在PI层上按液晶预设取向摩擦滚动制作出所述液晶配向角。 [0020] 进一步地，还包括消除残留在基板上静电的步骤S3。 [0022] 为达上述目的，本发明碎屑清除方法，在光照条件下，采用如上所述的摩擦布或如上所述滚筒清除碎屑。 [0023] （三）本发明摩擦布、滚筒、液晶配向角制作方法及碎屑清除方法的有益效果[0024] 第一：本发明摩擦布、滚筒、液晶配向角制作方法及碎屑清除方法，通过采用具有羧基和/或氰基染料的溶液对摩擦布进行染色，所述氰基以及所述羧基均为强电子吸收基团，在光照条件下将发生电子跃迁，从而产生静电，通过静电吸附现象，达到清除碎屑的目的，具有吸附效果强、清洁效果好的优点； [0025] 第二：本发明摩擦布、滚筒以及液晶配向角制作方法，在用于制作液晶配向角制作方法时，在制作液晶配向角的同时，同步清除了因制作工艺产生的碎屑，从而省却了后续的清洗步骤，从而相对于传统工艺具有步骤少，生产效率高，且生产成本低的优点；同时可以采用本发明碎屑清除方法，在完成液晶配向角制作之后，取代传统的清洗方法进行碎屑的清洁，同样具有实现简便、成本低、效果佳且效率高的优点。 [0027] 图1为本发明实施例所述的滚筒的结构示意图一； [0028] 图2为本发明实施例所述的滚筒的结构示意图二； [0029] 图3为本发明实施例所述的液晶配向角制作方法的示意图； [0030] 图4为本发明实施例所说的液晶配向角制作方法的流程图。 具体实施方式[0032] 本实施例摩擦布，采用溶解带有羟基和氰基至少之一染料的溶液进行染色。 [0033] 羟基与氰基均是强吸电子的基团，在适当的光照下，氰基和羧基中的电子经过π共轭系统，达到能级不稳定状态，发生电子的能级跃迁，从而发生放电现象，从而使摩擦布带电，进而通过电荷吸附现象，吸附碎屑，本实施例所述的摩擦布不仅可以采用摩擦进行清洁，而且能通过电荷吸附进行清洁，具有清洁能力强的优点。 [0034] 在具体的实施过程中，包含氰基的染料或包含羧基的染料或者同时包含羧基与氰基的染料都可以用来制作本实施例所述的摩擦布；然而本实施例提供了以下优选染料方案： [0035] 所述染料为2-氰基-3-{6-{4-[N,N-二(4-己氧基苯基)胺基]苯基}-4,4-二己基-4H-二噻吩[2,1-b:3,4-b']并环戊二烯}丙烯酸、2-氰基-3-{N-己基-{4-[N,N-二(4-己氧基苯基)胺基]苯基}-二噻吩[3,2-b:2,3’-d]并吡咯}丙烯酸以及2-氰基-3-{6-{4-[N,N-二(4-己氧基苯基)胺基]苯基}-4,4-二己基-4H-二噻吩[2,1-b:3,4-b']并噻咯}丙烯酸中的一种或多种。 [0036] 以上三种物质构成的染料，性能稳定持久，能用于制作出持久耐用，清洁吸附效果好的摩擦布。 [0037] 作为本实施例的进一步改进，溶解所述染料的物质为氯仿和/或乙醇。染料为有机物，根据相似相容性选用有机物质溶解染料，而优选为氯仿以及乙醇；氯仿以及乙醇对具有氰基和/或羧基的染料的溶解度大。尤其是当染料为2-氰基-3-{6-{4-[N,N-二(4-己氧基苯基)胺基]苯基}-44-二己基-4H-二噻吩[2,1-b:3,4-b']并环戊二烯}丙烯酸、2-氰基-3-{N-己基-{4-[N,N-二(4-己氧基苯基)胺基]苯基}-二噻吩[3,2-b:2,3’-d]并吡咯}丙烯酸以及2-氰基-3-{6-{4-[N,N-二(4-己氧基苯基)胺基]苯基}-4,4-二己基-4H-二噻吩[2,1-b:3, 4-b']并噻咯}丙烯酸的一种或多种时，采用氯仿或乙醇进行溶解，使得溶液中染料的质量大，从而由其制作出的摩擦布的吸附能力更强。 [0038] 在具体的实施过程中，所述摩擦布的材质可以尼龙、纤维等布料，而本在本实施例中优选棉布，由于具有氰基和/或羧基的官能团的染料对棉布的吸附例更强，从而由棉布制作而成的本实施例所述的摩擦布的具有更强的吸附能力。 [0039] 综合上述，本市实施例所述的摩擦布具有制作简便、成本低，清洁效果好等优点。 [0040] 本实施例滚筒，在所述滚筒的外表面设有如上所述的摩擦布。具体的如图1所示，所述滚筒11的外表面覆盖有由具有羧基和/或氰基的染料溶液染色而成的摩擦布12；当滚筒用于清洁物品时，不仅通过摩擦擦出物品上的脏污，同时所述摩擦布12的在光照下产生的吸附能力吸附碎屑，尤其是对微小碎屑的吸附能力效果更佳。 [0041] 作为本实施例的进一步的改进，如图2所示，所述滚筒21为液晶配向角制作滚筒。用于液晶配向角制作的滚筒在其表面设有制作液晶配向角的纹路26；所述摩擦布22分布在纹路26的表面，并与所述用于制作液晶配向角的纹路26贴合，使得所述滚筒用于制作液晶配向角的同时，同步在光照的条件下，产生电荷吸附力，吸附碎小的碎屑，且由于通过摩擦布上的染料产生的电荷，电荷相对较小，不会对阵列基板或彩膜基板的内部电路产生影响，且电荷大小稳定、易于控制。 [0042] 本实施例液晶配向角制作方法，液晶配向角采用上述用于制作液晶配向角的滚筒制作而成。 [0043] 如图3-图4所示，作为本实施例的进一步的改进，所述的液晶配向角制作方法，具体包括以下步骤： [0044] 步骤S1：在基板上24均匀涂覆PI（Polyimide）液形成PI层23；所述基板可以是阵列基板也可以是彩膜基板； [0045] 步骤S2：在光照条件下，采用所述滚筒21在PI层23上按液晶预设取向摩擦滚动制作出所述液晶配向角。图中标号25为用于形成光照条件的光源；所述滚筒21上包裹有本发明所述的摩擦布22，在摩擦布下方设有用于制作出液晶配向角的纹路26，所述摩擦布22与纹路26贴合。 [0046] 这样，在做所述液晶配向角时，同步通过摩擦布的摩擦以及电荷吸附力清洁了碎屑，一个步骤完成了两个工作，具有步骤少，实现简便的原理；相对于现有的采用清洗的方式，不仅具有上述优点，同时具有清洁效果佳的优点，尤其是针对细小的碎屑的清洁方面优势更加明显。 [0047] 由于所述滚筒在光照条件下，将放电有可能导致在基板上残留一部分电荷，为了清除上述电荷，作为本实施例的进一步改进，还包括静电消除的步骤S3;所述步骤S3消除静电的方法优选离子风静电消除方法离子风静电消除方法为离子风中和的原理消除静电，通常采用吹阴离子风。 [0048] 在具体的实施过程中，本发明所述摩擦布所释放的电荷量是有限的，对阵列基板以及彩膜基板上的电路的干扰和破坏力几乎为零，且通过步骤S3的设置，进一步的消除了几乎没有破坏力的静电，从而保证制作出产品的品质。 [0049] 在具体的实施过程中，可以完全不改变液晶配向角的制作工艺，只是在碎屑的清洁环节，采用本发明所述的摩擦布、所述的滚筒进行清洁即可。相对于传统的清洁方法，同样具有清洁效果好的优点。 [0050] 本实施例碎屑清除方法，在光照条件下，采用本发明所述的摩擦布或本发明所述滚筒清除碎屑。具体地，本实施例所述的碎屑清除方法，可用于传统的方法制作出的液晶配向角之后的碎屑的清除。 [0051] 本发明实施例碎屑清除方法，采用本发明所述的摩擦布以及摩擦滚筒进行清洁，具有清洁效果佳、实现简便快捷，成本低等多重优点。 |
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