VERFAHREN ZUM REINIGEN EINER FLÜSSIGKRISTALLMISCHUNG

申请号 EP14818875.8 申请日 2014-12-16 公开(公告)号 EP3083883B1 公开(公告)日 2018-07-11
申请人 Merck Patent GmbH; 发明人 KAETZEL, Uwe;
摘要
权利要求 Verfahren zum Reinigen einer Flüssigkristallmischung (7), wobei die Flüssigkristallmischung (7) durch eine erste Elektrodialysezelle (2) gefördert wird, wobei eine Konzentratlösung (14) durch eine an die erste Elektrodialysezelle (2) benachbart angrenzende und durch eine lonenaustauschermembran (9) getrennte zweite Elektrodialysezelle (8) gefördert wird, und wobei mit Hilfe von einer außerhalb der Elektrodialysezellen (2, 8) angeordneten Anoden-Kathoden-Anordnung (15, 16) ein elektrisches Feld quer zu einer Förderrichtung der Flüssigkristallmischung (7) durch die erste Elektrodialysezelle (2) erzeugt wird, so dass ionisierte Bestandteile der Flüssigkristallmischung (7) an der lonenaustauschermembran (9) abgeführt und aus der Flüssigkristallmischung (7) abgeschieden werden.Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die Flüssigkristallmischung (7) mehrfach durch die erste Elektrodialysezelle (2) gefördert wird.Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die Flüssigkristallmischung (7) nacheinander durch mehrere Elektrodialysezellen mit einer mit der ersten Elektrodialysezelle (2) vergleichbaren Anordnung von einer lonenaustauschmembran (9) und einer angrenzenden zweiten Elektrodialysezelle (8) und von einem elektrischen Feld gefördert wird.Verfahren nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, dass die Flüssigkristallmischung (7) über einen Zeitraum von mehr als einer Stunde, vorzugsweise von mehr als vier Stunden durch die erste Elektrodialysezelle (2) gefördert wird.Verfahren nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, dass als Konzentratlösung (14) deionisiertes Wasser verwendet wird.Verfahren nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, das als lonenaustauschermembran (9) eine Membran mit einer Durchschlagsspannung von mehr als 10 Volt, vorzugsweise von mehr als 80 Volt und besonders bevorzugt von 400 Volt und mehr verwendet wird, und mit Hilfe der Anoden-Kathoden-Anordnung (15, 16) eine elektrische Potentialdifferenz vorgegeben wird, die einen möglichst großen, jedoch unterhalb der Durchschlagsspannung liegenden Spannungsabfall an der lonenaustauschermembran (9) bewirkt.Verfahren nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, dass die Anode (15) und die Kathode (16) während der Durchführung des Verfahrens mit Transformatorenöl (19) gespült werden.Verfahren nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, dass zur Förderung der Flüssigkristallmischung (7) und der Konzentratlösung (14) pulsationsarme Pumpen verwendet werden.Verfahren nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 8, dadurch gekennzeichnet, dass die Flüssigkristallmischung (7) vor einem Einbringen in die erste Elektrodialysezelle (2) durchmischt und homogenisiert wird.
说明书全文

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Reinigen einer Flüssigkristallmischung.

Flüssigkristallmischungen sind fluide Substanzen mit kristallähnlichen richtungsabhängigen physikalischen Eigenschaften, die beispielsweise in Flüssigkristallanzeigen verwendet werden. Kommerziell erhältliche und vorteilhaft bei Anzeigen oder Displays einsetzbare Flüssigkristallmischungen weisen verschiedene Komponenten auf, die in einem vorgegebenen Verhältnis zueinander miteinander vermischt werden. Durch eine geeignete Vorgabe einzelner Komponenten und Mischungsanteile können gezielt die für den jeweiligen Anwendungsfall erforderlichen Eigenschaften und Vorteile der Flüssigkristallmischung realisiert werden.

Es hat sich gezeigt, dass bereits geringe Verunreinigungen einer Flüssigkristallmischung dazu führen können, dass die für den vorgesehenen Verwendungszweck erforderlichen oder wünschenswerten Eigenschaften der Flüssigkristallmischung beeinträchtigt werden können und eine wirtschaftlich sinnvolle Verwendung einer vorgegebenen Flüssigkristallmischung für einen bestimmten Verwendungszweck erschwert oder sogar unmöglich werden kann.

Aus der Praxis sind deshalb verschiedene Reinigungsverfahren bekannt geworden, mit denen eine Flüssigkristallmischung aufgereinigt werden kann. Die verschiedenen Reinigungsverfahren basieren auf unterschiedlichen Methoden. In industriellen Herstellungs- und Verarbeitungsprozessen stellen mechanische Filterverfahren oder die Zugabe und anschließende Abscheidung eines Sorbens häufig eingesetzte Reinigungsverfahren dar.

Die aus der Praxis bekannten Reinigungsverfahren weisen für die Reinigung von Flüssigkristallmischungen oftmals nur eine geringe Effizienz auf und sind dennoch vergleichsweise kostenintensiv.

CN 101760204 A beschreibt ein Verfahren zum Reinigen von flüssigkristallinen Verbindungen und flüssigkristallinen Mischungen durch Anlegen eines elektrischen Feldes unter Verwendung einer Reinigungszelle mit dem zu reinigenden flüssigkristallinen Material, wobei die Reinigungszelle sich zwischen einer Kathodenzelle und einer Anodenzelle befindet und von diesen jeweils durch eine lonenaustauschmembran getrennt ist.

CN 101760203 A beschreibt ein Verfahren zum Reinigen von flüssigkristallinen Verbindungen und flüssigkristallinen Mischungen durch Anlegen eines elektrischen Feldes unter Verwendung von Adsorptionsmitteln hoher Aktivität sowie von Ionenaustauschmembranen.

DE 101 25 708 A1 beschreibt ein Verfahren zum Reinigen von flüssigkristallinen Mischungen mittels Entfernung von ionischen Substanzen durch Elektrophorese.

Es wird deshalb als eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung angesehen, ein Verfahren zum Reinigen einer Flüssigkristallmischung so auszugestalten, dass eine möglichst effiziente Reinigung der Flüssigkristallmischung möglichst günstig und zuverlässig durchgeführt werden kann.

Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß durch ein Reinigungsverfahren gelöst, wobei die Flüssigkristallmischung durch eine erste Elektrodialysezelle gefördert wird, wobei eine Konzentratlösung durch eine an die erste Elektrodialysezelle benachbart angrenzende und durch eine lonenaustauschmembran getrennte zweite Elektrodialysezelle gefördert wird, und wobei mit Hilfe von einer außerhalb der Elektrodialysezellen angeordneten Anoden-Kathoden-Anordnung ein elektrisches Feld quer zu einer Förderrichtung der Flüssigkristallmischung durch die erste Elektrodialysezelle erzeugt wird, so dass ionisierte Bestandteile der Flüssigkristallmischung aus der ersten Elektrodialysezelle abgeführt und aus der Flüssigkristallmischung abgeschieden werden. Das erfindungsgemäße Verfahren entspricht dem zu Folge im Wesentlichen der Durchführung einer Elektrodialyse der Flüssigkristallmischung. Es hat sich gezeigt, dass viele in der Praxis relevante Verunreinigungen mit der Elektrodialyse von der Flüssigkristallmischung separiert und abgeschieden werden können. Durch eine geeignete Vorgabe der Konzentratlösung und der die erste Elektrodialysezelle begrenzenden lonenaustauschermembran können ionisierte Verunreinigungen zuverlässig und mit hoher Effektivität aus der Flüssigkristallmischung abgeschieden werden.

Das erfindungsgemäße Verfahren kann im Dauerbetrieb durchgeführt werden und ermöglicht eine kontinuierliche Probennahme und Kontrolle des Aufreinigungsprozesses, so dass in Abhängigkeit von der jeweiligen Flüssigkristallmischung, deren Verunreinigung und einem angestrebten Reinheitsgrad der zu reinigenden Flüssigkristallmischung eine geeignete Verfahrensdauer ermittelt und die bereits erzielte Aufreinigung während der Durchführung des Reinigungsverfahrens überwacht und gegebenenfalls geregelt werden kann.

Gemäß einer vorteilhaften Ausgestaltung des Erfindungsgedankens ist vorgesehen, dass die Flüssigkristallmischung mehrfach durch die erste Elektrodialysezelle gefördert wird. Es ist ebenfalls möglich, dass die Flüssigkristallmischung nacheinander durch mehrere Elektrodialysezellen mit einer mit der ersten Elektrodialysezelle vergleichbaren Anordnung einer lonenaustauschermembran und einer angrenzenden zweiten Elektrodialysezelle und von einem vergleichbaren elektrischen Feld gefördert wird. In beiden Fällen kann dadurch erreicht werden, dass eine Förderrate der Flüssigkristallmischung sowie eine Gesamtreinigungsdauer bzw. eine Gesamtverweildauer der Flüssigkristallmischung in der ersten Elektrodialysezelle bzw. in einer vergleichbaren Elektrodialysezellen-Anordnung unabhängig voneinander vorgegeben werden können. So ist es beispielsweise möglich, im Falle einer hocheffizient abscheidbaren Verunreinigung die Verfahrensdauer anzupassen und kurz zu halten. Wird dagegen festgestellt, dass sich die Verunreinigung der Flüssigkristallmischung nur vergleichsweise langsam abscheiden und aus der Flüssigkristallmischung entfernen lässt, kann das Reinigungsverfahren ausreichend lange durchgeführt werden, um eine vorgegebene Reinigungswirkung zu erreichen und zuverlässig zu gewährleisten. Durch eine zeitlich beanstandete oder kontinuierliche Probeentnahme kann die bereits erreichte Reinigungswirkung ermittelt und kontrolliert werden. Mit dem erfindungsgemäßen Reinigungsverfahren ist dem zu Folge auch eine geregelte Reinigung einer Flüssigkristallmischung möglich, so dass sichergestellt werden kann, dass ein angestrebter oder notwendigerweise vorgegebener Reinheitsgrad mit der erfindungsgemäßen Aufreinigung auch erreicht wird.

Gemäß einer Ausgestaltung des Erfindungsgedankens ist vorgesehen, dass die Flüssigkristallmischung über einen Zeitraum von mehr als einer Stunde, vorzugsweise von mehr als 4 Stunden, durch die erste Elektrodialysezelle gefördert wird. Sofern mehrere vergleichbare Elektrodialysezellen nacheinander durchströmt werden, kann ebenfalls vorgesehen sein, dass die gesamte Verweildauer der Flüssigkristallmischung in diesen Elektrodialysezellen mehr als eine Stunde und vorzugsweise mehr als vier Stunden beträgt. Es hat sich gezeigt, dass sich der spezifische Widerstand, der als ein zweckmäßiges Kriterium für die Reinheit der Flüssigkristallmischung angesehen werden kann, in Abhängigkeit von der Verfahrensdauer über einen Zeitraum von etwa 4 Stunden bis 8 Stunden um mehr als einen Faktor 20 erhöhen lässt.

Es hat sich als vorteilhaft herausgestellt, dass als Konzentratlösung deionisiertes Wasser verwendet wird. Zusätzlich zu einem vergleichsweise effektiven Ladungstransport in deionisiertem Wasser wird durch das Konzentrationsgefälle eine Osmose durch die lonenaustauschermembran hindurch begünstigt, was zu einer zusätzlich reinigenden Wirkung führt.

Es ist jedoch ebenfalls möglich und in Abhängigkeit von der Zusammensetzung der Flüssigkristallmischung gegebenenfalls vorteilhaft, dass als Konzentratlösung auch andere geeignete Lösungen, wie beispielsweise Transformatorenöl, Dodecan oder ein anderes organisches Lösungsmittel, verwendet werden können.

Untersuchungen haben ergeben, dass eine große Potenzialdifferenz und damit einhergehend ein großes elektrisches Feld quer zu einer Durchströmungsrichtung der Flüssigkristallmischung durch die erste Elektrodialysezelle besonders vorteilhaft für eine effektive Reinigungswirkung ist. Gemäß einer Ausgestaltung des Erfindungsgedankens ist deshalb vorgesehen, dass als lonenaustauschermembran eine Membran mit einer Durchschlagsspannung von mehr als 10 Volt, vorzugsweise von mehr als 80 Volt und besonders bevorzugt von 400 Volt und mehr, verwendet wird, und mit Hilfe der Anoden-Kathoden-Anordnung eine elektrische Potentialdifferenz vorgegeben wird, die einen möglichst großen, jedoch unterhalb der Durchschlagsspannung liegenden Spannungsabfall an der lonenaustauschermembran bewirkt. Als Durchschlagsspannung wird diejenige Spannung bezeichnet, ab der die Membran nicht mehr zuverlässig als Isolator wirkt und ein Stromfluss durch die Membran hindurch die Elektrodialyse beeinträchtigen könnte. Ein Spannungsabfall zwischen 10 und 1000 Volt innerhalb der ersten Elektrodialysezelle wird als geeignet für die Durchführung des Reinigungsverfahrens angesehen. Der Spannungsabfall in der ersten Elektrodialysezelle sollte vorzugsweise in einem Bereich zwischen 80 Volt und 120 Volt liegen, was sich als besonders vorteilhaft für das Reinigungsverfahren erwiesen hat.

Um zu verhindern, dass Wasser oder andere Stoffmengenanteile an den Elektroden zersetzt werden, ist gemäß einer vorteilhaften Ausgestaltung des Erfindungsgedankens vorgesehen, dass die Anode und die Kathode während der Durchführung des Verfahrens mit Transformatorenöl gespült werden. Das Transformatorenöl kann kontinuierlich oder in zeitlichen Abständen die zugänglichen Wirkflächen der Anode und der Kathode umspülen. Als Elektrodenmaterial für die Anode und für die Kathode können bevorzugt Edelstahl, jedoch auch Graphit, Mischoxide oder andere geeignete Elektrodenmaterialien verwendet werden.

Um zu verhindern, dass nach einem Reinigungsvorgang Rückstände der gereinigten Flüssigkristallmischung in der ersten Elektrodendialysezelle haften bleiben und zurückgehalten werden ist vorgesehen, dass nach Möglichkeit alle mit der zu reinigenden Flüssigkristallmischung in Kontakt kommenden Oberflächen beispielsweise aus Perfluoralkoxy-Polymeren (PFA) hergestellt oder damit beschichtet sind. Es ist ebenfalls möglich, dass die produktberührenden Komponenten, wie beispielsweise die Elektrodialysezelle, aber auch Leitungsschläuche, lonenaustauschermembranen oder Abstandselemente in einer Elektrodialysezelle aus einem inerten Polymer wie beispielsweise Polytetrafluorethylen (PTFE) hergestellt sind. Zweckmäßigerweise werden die produktberührenden Komponenten vor einem Beginn eines neuen Reinigungsverfahrens mit organischen Lösemitteln wie beispielsweise Aceton oder Toluol gereinigt.

Um während der Durchführung des Reinigungsverfahrens unerwünschte Druckschwankungen in der ersten Elektrodialyse zu vermeiden, durch die eine Leckage zwischen benachbarten Elektrodialysezellen begünstigt oder verursacht werden könnten, werden zur Förderung der Flüssigkristallmischung und der Konzentratlösung pulsationsarme Pumpen verwendet. Es hat sich gezeigt, dass beispielsweise durch die Verwendung von Zahnradpumpen eine sehr druckkonstante Förderung der Flüssigkristallmischung möglich ist und unerwünschte Effekte wie beispielsweise eine Leckage oder eine verminderte Reinigungswirkung erheblich reduziert oder vollständig vermieden werden.

Um eine möglichst effektive Reinigung der Flüssigkristallmischung innerhalb einer möglichst kurzen Zeit zu erreichen, ist vorgesehen, dass die Flüssigkristallmischung vor einem Einbringen in die erste Elektrodialysezelle durchmischt und homogenisiert wird.

Eine Vorrichtung, mit welcher das erfindungsgemäße Verfahren durchgeführt werden kann, weist eine erste Elektrodialysezelle mit einer Zuleitung und einer Ableitung auf, so dass eine Flüssigkristallmischung in einer Förderrichtung durch die erste Elektrodialysezelle gefördert werden kann, und eine an die erste Elektrodialysezelle benachbart angrenzende und durch eine geeignete lonenaustauschermembran getrennte zweite Elektrodialysezelle mit einer Zuleitung und mit einer Ableitung auf, so dass eine Konzentratlösung durch die zweite Elektrodialysezelle gefördert werden kann. Die erste Elektrodialysezelle und die zweite Elektrodialysezelle sind so zwischen einer Anoden-Kathoden-Anordnung angeordnet, dass mit der Anoden-Kathoden-Anordnung ein elektrisches Feld quer zu der Förderrichtung der Flüssigkristallmischung in der ersten Elektrodialysezelle erzeugt werden kann.

Die Anode und die Kathode werden von der ersten Elektrodialysezelle und von der zweiten Elektrodialysezelle jeweils durch eine lonenaustauschermembran getrennt, die gelöste Ionen mit einer Ladung austauschen, die ein entgegengesetztes Ladungsvorzeichen zu den von der lonenaustauschermembran zwischen der ersten Elektrodialysezelle und der zweiten Elektrodialysezelle ausgetauschten gelösten Ionen aufweisen. Befindet sich beispielsweise zwischen der ersten Elektrodialysezelle und der zweiten Elektrodialysezelle eine Kationenaustauschermembran, sind die Anode und die Kathode durch Anionenaustauschermembranen von der ersten und der zweiten Elektrodialysezelle abgetrennt.

Die lonenaustauschermembranen können vorzugsweise heterogen ausgestaltet sein und in einem Basispolymer eingebettete Ionenaustauscherpartikel aufweisen, oder aber homogen ausgestaltet sein und aus einem ionischen Polymer bestehen. Als Elektrodenmaterial wird bevorzugt Edelstahl, aber auch Graphit oder ein geeignetes Mischoxid verwendet.

Zwischen den jeweils benachbarten Ionenaustauschermembranen sind Abstandseinrichtungen angeordnet, die als Spacer bezeichnet werden und auch einer effektiven Fluidverteilung innerhalb der Elektrodialysezellen dienen. Die Spacer sind aus einem inerten Kunststoffmaterial oder Kunststoffmaterialgemisch wie beispielsweise Polyethylen, Polyethylen und Polyamid oder aus Polyvinylchlorid und Polyethylenterephthalat hergestellt. Eine typische Dicke geeigneter Spacer beträgt zwischen 0,3 mm und 1,5 mm, bevorzugt etwa 0,5 mm.

Für die Förderung der Flüssigkristallmischung und der Konzentratlösung werden in vorteilhafter Weise pulsationsarme und möglichst druckkonstante Pumpen wie beispielsweise Zahnradpumpen verwendet.

Alle mit der Flüssigkristallmischung in Kontakt kommenden Komponenten wie beispielsweise die Elektrodialysezellen, die lonenaustauschermembranen, die Spacer und die für die Zuleitungen und Ableitungen verwendeten Schläuche, sind vorzugsweise mit einem inerten Polymer hergestellt oder mit einer entsprechenden Beschichtung versehen. Als inertes Polymer eignet sich beispielsweise PFA oder PTFE.

Nachfolgend werden Ausführungsbeispiele des Erfindungsgedankens näher erläutert, die in der Zeichnung dargestellt sind. Es zeigt:

  • Figur 1 eine schematische Darstellung eines erfindungsgemäßen Reinigungsverfahrens, das mit Hilfe einer geeigneten Elektrodialysevorrichtung durchgeführt wird, und
  • Figur 2 eine schematische Darstellung einer zeitlichen Veränderung eines spezifischen Widerstands einer Flüssigkristallmischung während der Dauer der Durchführung des Reinigungsverfahrens.

Eine in Fig. 1 exemplarisch dargestellte Reinigungsvorrichtung 1, mit welcher das erfindungsgemäße Verfahren zur Reinigung einer Flüssigkristallmischung durchgeführt werden kann, weist eine erste Elektrodialysezelle 2 mit einer Zuleitung 3 und einer Ableitung 4 auf, die mit einem Flüssigkristallmischungsreservoir 5 verbunden sind. Mit Hilfe einer Zahnradpumpe 6 kann eine Fluidmenge einer Flüssigkristallmischung 7 aus dem Flüssigkristallmischungsreservoir 5 heraus, durch die erste Elektrodialysezelle 2 hindurch und wieder zurück in das Flüssigkristallmischungsreservoir 5 hinein gefördert werden, so dass ein Kreislauf erzeugt und kontinuierlich die Flüssigkristallmischung 7 durch die erste Elektrodialysezelle 2 gefördert wird. In der Darstellung gemäß Fig. 1 durchströmt die Flüssigkristallmischung 7 die erste Elektrodialysezelle 2 in einer von oben nach unten verlaufenden Förderrichtung.

Eine an die erste Elektrodialysezelle 2 benachbart angrenzende zweite Elektrodialysezelle 8 ist durch eine geeignete Anionenaustauschermembran 9 von der ersten Elektrodialysezelle 2 getrennt. Die zweite Elektrodialysezelle 8 weist ebenfalls eine Zuleitung 10 und eine Ableitung 11 auf, die mit einem Konzentratlösungsreservoir 12 in Verbindung stehen, so dass mit Hilfe einer Zahnradpumpe 13 eine Konzentratlösung 14 durch die zweite Elektrodialysezelle 8 gefördert werden kann. Als Konzentratlösung 14 wird deionisiertes Wasser verwendet.

Die erste Elektrodialysezelle 2 und die zweite Elektrodialysezelle 8 sind so zwischen einer Anode 15 und einer Kathoden 16 angeordnet, dass mit dieser Anoden-Kathoden-Anordnung ein elektrisches Feld quer zu der Förderrichtung der Flüssigkristallmischung 7 in der ersten Elektrodialysezelle 2 erzeugt werden kann.

Die Anode 15 und die Kathode 16 werden von der ersten Elektrodialysezelle 2 und von der zweiten Elektrodialysezelle 8 jeweils durch eine Kationenaustauschermembran 17 getrennt und können mit Hilfe eines Transformatorenöl-Kreislaufes 18 kontinuierlich oder bei Bedarf mit Transformatorenöl 19 gespült werden.

Alle mit der Flüssigkristallmischung 7 in Kontakt kommenden Komponenten wie beispielsweise die Elektrodialysezellen 2 und 8, die lonenaustauschermembranen 9 und 17, die Spacer und die für die Zuleitungen 3 und 10 und die Ableitungen 4 und 11 verwendeten Schläuche sind mit einem inerten Polymer hergestellt oder mit einer entsprechenden Beschichtung versehen. Als inertes Polymer eignet sich beispielsweise PFA oder PTFE.

Zur Durchführung des Reinigungsverfahrens wird zwischen der Anode 15 und der Kathode 16 mit Hilfe einer Gleichspannungsquelle eine Potentialdifferenz von beispielsweise 80 Volt oder 120 Volt erzeugt. Die Zahnradpumpen 6 und 13 werden in Betrieb genommen und bewirken eine gleichmäßige Förderung der Flüssigkristallmischung 7 durch die erste Elektrodialysezelle 2 und der Konzentratlösung 14 durch die zweite Elektrodialysezelle 8. Während die Flüssigkristallmischung 7 die erste Elektrodialysezelle 2 durchströmt werden ionisierte Verunreinigungen durch das elektrische Feld entweder an die Anionenaustauschermembran 9 in Richtung der zweiten Elektrodialysezelle 8 gelenkt, oder bei entgegengesetztem Ladungsvorzeichen der ionisierten Verunreinigung an die Kationenaustauschermembran 17 in Richtung der Kathode 16 abgelenkt und dadurch aus der durchströmenden Flüssigkristallmischung 7 abgeschieden.

Die Förderung der Flüssigkristallmischung durch die erste Elektrodialysezelle 2 kann über einen ausreichend langen Zeitraum hinweg durchgeführt werden. Während der Durchführung des Reinigungsverfahrens können kontinuierlich oder in zeitlichen Abständen Proben entnommen werden, um die bereits erreichte Aufreinigung der Flüssigkristallmischung 7 zu ermitteln und zu überwachen.

In Fig. 2 ist schematisch ein während der Durchführung des Reinigungsverfahrens für eine Flüssigkristallmischung 7 ermittelter spezifischer Widerstand p in der Einheit Ohm x cm in Abhängigkeit von der Reinigungsdauer t in der Einheit Stunden dargestellt. Der spezifische Widerstand p ist ein Maß für den Anteil an gelösten Ionen in der Flüssigkristallmischung 7 und damit zumindest indirekt ein Maß für den in der Flüssigkristallmischung 7 enthaltenen Anteil an ionisierten Verunreinigungen. Je größer der spezifische Widerstand p ist, umso geringer ist der Anteil an ionisierten Verunreinigungen und umso größer ist die Reinheit der Flüssigkristallmischung 7. Es hat sich gezeigt, dass sich der spezifische Widerstand p einer typischen Flüssigkristallmischung 7 bereits nach einer Stunde um etwa einen Faktor 10 erhöht und nach etwa vier Stunden um etwa einen Faktor 40 erhöht.

Das erfindungsgemäße Reinigungsverfahren kann mit laborüblichen Elektrodialysevorrichtungen durchgeführt werden und erfordert lediglich einen kontinuierlichen Betrieb der Zahnradpumpen. Das Reinigungsverfahren ist demzufolge mit geringem apparativen Aufwand und kostengünstig durchführbar und ermöglicht eine sehr effiziente Aufreinigung der Flüssigkristallmischung 7. Die Effizienz kann weiter gesteigert werden, indem zusätzlich vorab weitere Reinigungsverfahren durchgeführt werden, die auf anderen Methoden basieren.

Das vorangehend beschriebene Reinigungsverfahren ist insbesondere geeignet für Flüssigkristallmischungen enthaltend mindestens zwei organische Substanzen, vorzugsweise mesogene, insbesondere flüssigkristalline Substanzen, wobei die organischen Substanzen vorzugsweise ausgewählt sind aus den Verbindungen der allgemeinen Formel I,

worin

R1 und R2
jeweils unabhängig voneinander H, einen unsubstituierten, einen einfach durch CN oder CF3 oder mindestens einfach durch Halogen substituierten Alkylrest mit bis zu 15 C-Atomen, wobei in diesen Resten auch eine oder mehrere CH2-Gruppen durch -O-, -S-,

-C≡C-, -CH=CH-, -CF2O-, -OCF2-, -OC-O- oder -O-CO- so ersetzt sein können, dass O-Atome nicht direkt miteinander verknüpft sind, und einer der Reste R1, R2 auch F, Cl, CN, SF5, NCS, SCN, OCN,

Ringe A, B, C, D, E
jeweils unabhängig voneinander

r, s und t
jeweils unabhängig voneinander 0, 1, 2 oder 3, wobei r + s+ t ≤ 3 ist,

Z1-4
jeweils unabhängig voneinander -CO-O-, -O-CO-, -CF2O-, -OCF2-, -CH2O-, -OCH2-, -CH2CH2-, -(CH2)4-, -CH=CH-CH2O-, -C2F4-, -CH2CF2-, -CF2CH2-, -CF=CF-, -CH=CF-, -CF=CH-, -CH=CH-, -C≡C- oder eine Einfachbindung, und

L1 und L2
jeweils unabhängig voneinander H oder F,

bedeuten.

Für den Fall, dass r + s + t = 0 ist, so sind Z1 und Z4 bevorzugt derart ausgewählt, dass sie, wenn sie keine Einfachbindung bedeuten, nicht über zwei O-Atome miteinander verknüpft sind.

Die eingesetzten Flüssigkristallmischungen aus den mesogenen Einzelsubstanzen der Formel I können zusätzlich auch eine oder mehrere polymerisierbare Verbindungen, sogenannte reaktive Mesogene (RMs), beispielsweise wie in U.S. 6,861,107 offenbart, in Konzentrationen von bevorzugt 0,1 - 5 Gew.%, besonders bevorzugt 0,2 - 2 %, bezogen auf die Mischung enthalten. Derartige Mischungen können für sogenannte Polymer Stabilized VA (PS-VA)-Modes, negativ IPS (PS-IPS)- oder negativ FFS (PS-FFS)-Modes, bei denen eine Polymerisierung der reaktiven Mesogene in der flüssigkristallinen Mischung erfolgen soll, verwendet werden. Voraussetzung hierfür ist, dass die Flüssigkristallmischung selbst keine polymerisierbaren Einzelsubstanzen, enthält.

Voraussetzung hierfür ist, dass die Flüssigkristallmischung selbst keine polymerisierbaren Komponenten enthält, die unter den Bedingungen, wo die Verbindung der Formel M polymerisiert, ebenfalls polymerisieren.

Die Polymerisation wird vorzugsweise unter folgenden Bedingungen durchgeführt :

Die polymerisierbaren Komponenten werden in einer Zelle polymerisiert unter Verwendung einer UV-A Lampe definierter Intensität für einen definierten Zeitraum und angelegter Spannung (typischerweise 10 V bis 30 V Wechselspannung, Frequenzen im Bereich von 60 Hz - 1 kHz). Als UV-A Lichtquelle wird typischerweise eine Halogenmetalldampflampe oder eine Hochdruckquecksilberlampe mit einer Intensität von 50 mW/cm2 eingesetzt. Dies sind Bedingungen, wo beispielsweise flüssigkristalline Verbindungen mit einer Alkenyl- oder Alkenlyoxyseitenkette, wie z. B. die Verbindung der Formel

nicht polymerisieren.

Die polymerisierbaren mesogenen oder flüssigkristallinen Verbindungen, auch als "reaktive Mesogene" (RM) bezeichnet, sind vorzugsweise ausgewählt aus den Verbindungen der Formel II,



        Ra-A1-(Z1-A2)m-Rb     II



worin die einzelnen Reste folgende Bedeutung haben:

A1 und A2
jeweils unabhängig voneinander eine aromatische, heteroaromatische, alicyclische oder heterocyclische Gruppe, vorzugsweise mit 4 bis 25 C-Atomen, welche auch annellierte Ringe enthalten kann, und welche optional durch L ein- oder mehrfach substituiert ist,

Z1
bei jedem Auftreten gleich oder verschieden -O-, -S-, -CO-, -CO-O-, -OCO-, -O-CO-O-, -OCH2-, -CH2O-, -SCH2-, -CH2S-, -CF2O-, -OCF2-, -CF2S-, -SCF2-, -(CH2)n-, -CF2CH2-, -CH2CF2-, -(CF2)n-, -CH=CH-, -CF=CF-, -C≡C-, -CH=CH-COO-, -OCO-CH=CH-, CR0R00 oder eine Einfachbindung,

L, Ra und Rb
jeweils unabhängig voneinander H, Halogen, SF5, NO2, eine Kohlenstoffgruppe oder Kohlenwasserstoffgruppe, wobei die Verbindungen mindestens einen Rest L, Ra und Rb enthalten, der eine Gruppe P-Sp- bedeutet oder enthält,

R0 und R00
jeweils unabhängig voneinander H oder Alkyl mit 1 bis 12 C-Atomen,

P
eine polymerisierbare Gruppe,

Sp
eine Abstandsgruppe oder eine Einfachbindung,

m
0, 1, 2, 3 oder 4,

n
1, 2, 3 oder 4.

Die polymerisierbaren Verbindungen können eine polymerisierbare Gruppe (monoreaktiv) oder zwei oder mehr (di- oder multireaktiv), vorzugsweise zwei polymerisierbare Gruppen aufweisen.

Vor- und nachstehend gelten folgende Bedeutungen:

Der Begriff "mesogene Gruppe" ist dem Fachmann bekannt und in der Literatur beschrieben, und bedeutet eine Gruppe, die durch die Anisotropie ihrer anziehenden und abstoßenden Wechselwirkungen wesentlich dazu beiträgt, in niedermolekularen oder polymeren Substanzen eine Flüssigkristall(FK-)Phase hervorzurufen. Verbindungen enthaltend mesogene Gruppen (mesogene Verbindungen) müssen nicht unbedingt selbst eine FK-Phase aufweisen. Es ist auch möglich, dass mesogene Verbindungen FK-Phasenverhalten nur nach Vermischung mit anderen Verbindungen und/oder nach Polymerisation zeigen. Typische mesogene Gruppen sind beispielsweise starre stäbchen- oder scheibchenförmige Einheiten. Ein Überblick über die im Zusammenhang mit mesogenen bzw. FK-Verbindungen verwendeten Begriffe und Definitionen findet sich in Pure Appl. Chem. 73(5), 888 (2001) und C. Tschierske, G. Pelzl, S. Diele, Angew. Chem. 2004, 116, 6340-6368.

Der Begriff "Abstandsgruppe" (engl. "spacer" oder "spacer group"), vor- und nachstehend auch als "Sp" bezeichnet, ist dem Fachmann bekannt und in der Literatur beschrieben, siehe beispielsweise Pure Appl. Chem. 73(5), 888 (2001) und C. Tschierske, G. Pelzl, S. Diele, Angew. Chem. 2004, 116, 6340-6368. Falls nicht anders angegeben, bezeichnet der Begriff "Abstandsgruppe" bzw. "Spacer" vor- und nachstehend eine flexible Gruppe, die in einer polymerisierbaren mesogenen Verbindung ("RM") die mesogene Gruppe und die polymerisierbare(n) Gruppe(n) miteinander verbindet. Bevorzugt bedeutet Sp eine Einfachbindung oder ein 1-16 C Alkylen, worin ein oder mehrere CH2-Gruppen durch -O-, -CO-, -COO- oder -OCO- so ersetzt sein können, so dass nicht zwei O-Atome direkt miteinander verbunden sind.

Der Begriff "organische Gruppe" bedeutet eine Kohlenstoff- oder Kohlenwasserstoffgruppe.

Der Begriff "Kohlenstoffgruppe" bedeutet eine ein- oder mehrbindige organische Gruppe enthaltend mindestens ein Kohlenstoffatom, wobei diese entweder keine weiteren Atome enthält (wie z.B. -C≡C-), oder gegebenenfalls ein oder mehrere weitere Atome wie beispielsweise N, O, S, P, Si, Se, As, Te oder Ge enthält (z.B. Carbonyl etc.). Der Begriff "Kohlenwasserstoffgruppe" bedeutet eine Kohlenstoffgruppe, die zusätzlich ein oder mehrere H-Atome und gegebenenfalls ein oder mehrere Heteroatome wie beispielsweise N, O, S, P, Si, Se, As, Te oder Ge enthält. "Halogen" bedeutet F, Cl, Br oder I.

Die Begriffe "Alkyl", "Aryl", "Heteroaryl" etc. umfassen auch mehrbindige Gruppen, beispielsweise Alkylen, Arylen, Heteroarylen etc.

Der Ausdruck "Alkyl" umfasst in dieser Anmeldung geradkettige und verzweigte Alkylgruppen mit 1-7 Kohlenstoffatomen, insbesondere die geradkettigen Gruppen Methyl, Ethyl, Propyl, Butyl, Pentyl, Hexyl und Heptyl. Gruppen mit 1-6 Kohlenstoffatomen sind im allgemeinen bevorzugt.

Der Ausdruck "Alkenyl" umfasst in dieser Anmeldung geradkettige und verzweigte Alkenylgruppen mit 2-7 Kohlenstoffatomen, insbesondere die geradkettigen Gruppen. Bevorzugte Alkenylgruppen sind C2-C7-1E-Alkenyl, C4-C7-3E-Alkenyl, C5-C7-4-Alkenyl, C6-C7-5-Alkenyl und C7-6-Alkenyl, insbesondere C2-C7-1E-Alkenyl, C4-C7-3E-Alkenyl und C5-C7-4-Alkenyl. Beispiele besonders bevorzugter Alkenylgruppen sind Vinyl, 1E-Propenyl, 1E-Butenyl, 1E-Pentenyl, 1E-Hexenyl, 1E-Heptenyl, 3-Butenyl, 3E-Pentenyl, 3E-Hexenyl, 3E-Heptenyl, 4-Pentenyl, 4Z-Hexenyl, 4E-Hexenyl, 4Z-Heptenyl, 5-Hexenyl, 6-Heptenyl und dergleichen. Gruppen mit bis zu 5 Kohlenstoffatomen sind im allgemeinen bevorzugt.

Der Ausdruck "Fluoralkyl" umfasst in dieser Anmeldung geradkettige Gruppen mit mindestens einem Fluoratom, vorzugsweise einem endständigem Fluor, d.h. Fluormethyl, 2-Fluorethyl, 3-Fluorpropyl, 4-Fluorbutyl, 5-Fluorpentyl, 6-Fluorhexyl und 7-Fluorheptyl. Andere Positionen des Fluors sind jedoch nicht ausgeschlossen.

Der Ausdruck "Oxaalkyl" bzw. "Alkoxy" umfasst in dieser Anmeldung geradkettige Reste der Formel CnH2n+1-O-(CH2)m, worin n und m jeweils unabhängig voneinander 1 bis 6 bedeuten. m kann auch 0 bedeuten. Vorzugsweise ist n = 1 und m 1-6 oder m = 0 und n = 1-3.

Der Begriff "Aryl" bedeutet eine aromatische Kohlenstoffgruppe oder eine davon abgeleitete Gruppe. Der Begriff "Heteroaryl" bedeutet "Aryl" gemäß vorstehender Definition, enthaltend ein oder mehrere Heteroatome.

Die polymerisierbare Gruppe P ist eine Gruppe, die für eine Polymerisationsreaktion, wie beispielsweise die radikalische oder ionische Kettenpolymerisation, Polyaddition oder Polykondensation, oder für eine polymeranaloge Umsetzung, beispielsweise die Addition oder Kondensation an eine Polymerhauptkette, geeignet ist. Besonders bevorzugt sind Gruppen für die Kettenpolymerisation, insbesondere solche enthaltend eine C=C-Doppelbindung oder -C≡C-Dreifachbindung, sowie zur Polymerisation unter Ringöffnung geeignete Gruppen wie beispielsweise Oxetan- oder Epoxygruppen

Die Herstellung der polymerisierbaren Verbindungen erfolgt in Analogie zu dem Fachmann bekannten und in Standardwerken der organischen Chemie beschriebenen Verfahren, wie beispielsweise in Houben-Weyl, Methoden der organischen Chemie, Thieme-Verlag, Stuttgart.

Typische und bevorzugte reaktive Mesogene (RMs) sind beispielsweise in WO 93/22397, EP 0 261 712, DE 195 04 224, WO 95/22586, WO 97/00600, US 5,518,652, US 5,750,051, US 5,770,107 und US 6,514,578 beschrieben. Ganz besonders bevorzugte reaktive Mesogene werden in der Tabelle E genannt.

Das Verfahren wird zur Herstellung einer Mischung bestehend aus organischen Verbindungen angewandt, von denen vorzugsweise eine oder mehrere für sich mesogen, bevorzugt flüssigkristallin sind. Die mesogenen Verbindungen umfassen vorzugsweise eine oder mehrere flüssigkristalline Verbindungen. Vorzugsweise ist das Verfahrensprodukt eine homogene, flüssigkristalline Mischung. Das Verfahren umfasst im weiteren Sinn auch die Herstellung von Mischungen, die in der homogenen flüssigen Phase aus organischen Substanzen bestehen und darin unlösliche Zusätze (z. B. kleine Partikel) enthalten. Das Verfahren kann somit auch für die Herstellung von suspensionsartigen oder emulsionsartigen Mischungen basierend auf einer kontinuierlichen homogenen organischen Phase angewendet werden. Solche Verfahrensvarianten sind jedoch in der Regel weniger bevorzugt.

Mittels geeigneter Zusatzstoffe können die Flüssigkristallmischungen enthaltend mindestens zwei Verbindungen der Formel I so modifiziert werden, dass sie in jeder bisher bekannt gewordenen Art von LCD-Anzeigen, z. B. von ECB-, VAN-, IPS-, FFS-, TN-, TN-TFT-, STN-, OCB-, GH-, PS-IPS, PS-FFS, PM-VA, PVA-, PSA-, PS-VA- oder ASM-VA-Anzeigen einsetzbar sind.

Die Flüssigkristallmischungen können auch weitere, dem Fachmann bekannte und in der Literatur beschriebene Additive, wie z. B. UV-Stabilisatoren, wie z.B. Tinuvin®, z.B. Tinuvin® 770, der Fa. BASF, Antioxidantien, wie z.B. Irganox®, z.B. Irganox® 1076 (Octadecyl-3-(3,5-di-tert.butyl-4-hydroxyphenyl)-propionate, der Fa. BASF, Radikalfänger, Nanopartikel, Mikropartikel, ein oder mehrere Dotierstoffe, etc. enthalten. Beispielsweise können 0-15 % pleochroitische Farbstoffe zugesetzt werden, ferner Leitsalze, vorzugsweise Ethyldimethyldodecyl-ammonium-4-hexoxybenzoat, Tetrabutylammoniumtetraphenylboranat oder Komplexsalze von Kronenethern (vgl. z.B. Haller et al., Mol. Cryst. Liq. Cryst. Band 24, Seiten 249- 258 (1973)) zur Verbesserung der Leitfähigkeit oder Substanzen zur Veränderung der dielektrischen Anisotropie, der Viskosität und/oder der Orientierung der nematischen Phasen. Derartige Substanzen sind z. B. in den DE-OS 22 09 127, 22 40 864, 23 21 632, 23 38 281, 24 50 088, 26 37 430 und 28 53 728 beschrieben.

Geeignete Stabilisatoren und Dotierstoffe, die bei der Herstellung der Flüssigkristallmischungen mit den Verbindungen der Formel I zusammen in die Elektrodialysezelle gegebenen werden können, werden nachfolgend in den Tabellen C und D genannt.

Die folgenden Beispiele sollen die Erfindung erläutern, ohne sie zu begrenzen. Vor- und nachstehend bedeuten Prozentangaben Gewichtsprozent; alle Temperaturen sind in Grad Celsius angegeben.

In der gesamten Patentanmeldung werden 1,4-Cyclohexylenringe und 1,4-Phenylenringe wie folgt dargestellt:

Bei den Cyclohexylenringen handelt es sich um trans-1,4-Cyclohexylenringe.

In der vorliegenden Anmeldung und in den folgenden Beispielen sind die Strukturen der Flüssigkristallverbindungen durch Akronyme angegeben, wobei die Transformation in chemische Formeln gemäß folgender Tabellen A und B erfolgt. Alle Reste CnH2n+1 und CmH2m+1 sind geradkettige Alkylreste mit n bzw. m C-Atomen; n, m, k und z sind ganze Zahlen und bedeuten vorzugsweise 0, 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9, 10, 11 oder 12. Der Ausdruck "(O)CmH2m+1" bedeutet OCmH2m+1 oder CmH2m+1. Die Codierung gemäß Tabelle B versteht sich von selbst.

In Tabelle A ist nur das Akronym für den Grundkörper angegeben. Im Einzelfall folgt getrennt von Akronym für den Grundkörper mit einem Strich ein Code für die Substituenten R1*, R2*, L1* und L2*:

Code für R1*, R2*, L1*, L2*, L3*

R1*

R2*

L1*

L2*

nm

CnH2n+1

CmH2m+1

H

H

nOm

CnH2n+1

OCmH2m+1

H

H

nO.m

OCnH2n+1

CmH2m+1

H

H

n

CnH2n+1

CN

H

H

nN.F

CnH2n+1

CN

F

H

nN.F.F

CnH2n+1

CN

F

F

nF

CnH2n+1

F

H

H

nCl

CnH2n+1

Cl

H

H

nOF

OCnH2n+1

F

H

H

nF.F

CnH2n+1

F

F

H

nF.F.F

CnH2n+1

F

F

F

nOCF3

CnH2n+1

OCF3

H

H

nOCF3.F

CnH2n+1

OCF3

F

H

n-Vm

CnH2n+1

-CH=CH-CmH2m+1

H

H

nV-Vm

CnH2n+1-CH=CH-

-CH=CH-CmH2m+1

H

H

Bevorzugte mesogene oder flüssigkristalline Substanzen, die für die Herstellung von Flüssigkristallmischungen geeignet sind und bei dem erfindungsgemäßen Reinigungsverfahren Anwendung finden können, sind insbesondere in den Tabellen A und B gelistet:

<b><u>Table A</u></b>

PYP

PYRP

BCH

CBC

CCH

CCP

CPTP

CEPTP

ECCP

CECP

EPCH

PCH

CH

PTP

CCPC

CP

BECH

EBCH

CPC

B

FET-nF

CGG

CGU

CFU

<b><u>Tabelle B</u></b>

(n = 1-15; (O)CnH2n+1 bedeutet CnH2n+1 oder OCnH2n+1)

APU-n-OXF

ACQU-n-F

CPU-n-OXF

APUQU-n-F

BCH-n.Fm

CFU-n-F

CBC-nmF

CCP-nOCF3

CCZU-n-F

ECCP-nm

ECCP-nF.F

PGP-n-m

CGU-n-F

CGUQU-n-F

CLUQU-n-F

CDUQU-n-F

CDU-n-F

DCU-n-F

CGG-n-F

CPZG-n-OT

CC-nV-Vm

GPP-n-m

CCP-Vn-m

CCG-V-F

CCP-nV-m

CC-n-V

CCQU-n-F

CC-n-Vm

CPPC-nV-Vm

CCQG-n-F

CQU-n-F

CP-1V-m

CP-2V-m

CP-V2-m

CP-1V-N

CP-V2-N

CCP-nF

CCP-nF.F

BCH-nF.F.F

CCP-nF.F.F

Dec-U-n-F

CWCU-n-F

CPGP-n-m

CWCG-n-F

CCOC-n-m

CPTU-n-F

GPTU-n-F

PQU-n-F

PUQU-n-F

PGU-n-F

CGZP-n-OT

PGU-n-OXF

CCGU-n-F

CUQU-n-F

CCCQU-n-F

CPGU-n-OT

CPGU-n-F

CVCP-1V-OT

GGP-n-Cl

PP-nV-Vm

PP-1-nVm

CWCQU-n-F

PPGU-n-F

PGUQU-n-F

GPQU-n-F

MPP-n-F

PGP-n-kVm

PP-n-kVm

PCH-nCl

GP-n-Cl

GGP-n-F

PGIGI-n-F

AIK-n-F

BCH-nm

BCN-nm

CY-n-Om

CP(F,Cl)-n-Om

CP(Cl,F)-n-Om

CCY-n-Om

CCY-n-m

CCP(Cl,F)-n-Om

CCP(F,Cl)-n-Om

CCY-V-m

CCY-Vn-m

CCY-n-OmV

CBC-nm

CCP-V-m

CCP-n-m

CPYC-n-m

CYYC-n-m

CCYY-n-(O)m

CCY-n-O2V

CY-n-m

CCH-nm

CCH-nOm

CEY-n-Om

CC-n-V1

CY-n-OV

CC-2V-V2

CVC-n-m

CC-n-mV

CP-nOmFF

CH-nm

CEY-V-n

CVY-V-n

CY-V-On

CY-n-OC(CH3)=CH2

CY-1V-On

CY-V1-On

CY-n-O1V

CCN-nm

CCPC-nm

CCY-n-zOm

CPY-n-m

CPY-n-Om

CPY-1V-Om

CPY-V-Om

CPP(Cl,F)-n-(O)m

CQY-n-(O)m

CPP(F,Cl)-n-(O)m

CQIY-n-(O)m

PGIY-n-Om

CCQY-n-(O)m

CCQIY-n-(O)m

CPQY-n-(O)m

CPQIY-n-(O)m

CPYG-n-(O)m

CCY-V-Om

D-nOmFF

CY-nV-(O)m

PCH-nm

PCH-nOm

CY-nV-OmV

DPGU-n-F

DPGU-n-OT

PP-n-m

PYP-n-mV

CYLI-n-m

CENap-n-Om

LY-n-(O)m

CCNap-n-Om

CNap-n-Om

YPY-n-mV

CETNap-n-Om

CTNap-n-Om

CK-n-F

YPY-n-m

LYLI-n-m

C-DFDBF-n-(O)m

CPYG-n-(O)m

DFDBC-n(O)-(O)m

HP-nN.F

CCY-V2-(O)m

CCY-1V2-(O)m

CCY-3V-(O)m

PYP-nF

MEnN.F

MUQU-n-F

NUQU-n-F

CCY-V2-(O)m

CCY-1V2-(O)m

CCY-3V-(O)m

CCVC-n-V

COChrom-n-Om

COChrom-n-m

CCOChrom-n-Om

CCOChrom-n-m

CONaph-n-Om

CCONaph-n-Om

CLY-n-Om

CLY-n-m

LYLI-n-m

CYLI-n-m

LY-n-(O)m

COYOICC-n-m

COYOIC-n-V

CCOY-V-O2V

CCOY-V-O3V

COY-n-Om

CCOY-n-Om

PYP-n-m

PYP-n-Om

YPY-n-m

YPY-n-mV

Y-nO-Om

Y-n-Om

PY-n-m

PY-n-Om

PY-V2-Om

PY-3V-Om

PY-V-Om

PY-1V-Om

PY-1V2-Om

C-DFDBF-n-(O)m

DFDBC-n(O)-(O)m

B-nO-Om

DFDBC-n(O)-(O)m

CPU-n-VT

CPU-n-AT

DGUQU-n-F

C-n-V

C-n-XF

C-n-m

CC-n-2V1

BCH-nF

BCH-nF.F

PY-n-m

PY-n-Om

PTP-nOmFF

CPTP-nOmFF

PPTUI-n-m

CPTP-nOm

CPTP-nm

PTP-nOm

PTP-nm

Y-nO-Om

Y-nO-OmV

Y-nO-OmVm'

Besonders bevorzugt sind flüssigkristalline Mischungen, die neben einer oder mehreren Verbindungen der Formel I mindestens ein, zwei, drei, vier oder mehr Verbindungen aus der Tabelle B enthalten.

<b><u>Tabelle C</u></b>

In der Tabelle C werden mögliche Dotierstoffe angegeben, die in der Regel den flüssigkristallinen Mischungen zugesetzt werden. Vorzugsweise enthalten die Mischungen 0-10 Gew.%, insbesondere 0,01-5 Gew.% und besonders bevorzugt 0,01-3 Gew.% an Dotierstoffen.

C 15

CB 15

CM 21

R/S-811

CM 44

CM 45

CM 47

CN

R/S-2011

R/S-3011

R/S-4011

R/S-5011

R/S-1011

<b><u>Tabelle D</u></b>

Stabilisatoren, die beispielsweise den flüssigkristallinen Mischungen in Mengen von 0-10 Gew.% zugesetzt werden können, werden nachfolgend genannt.

(n = 1-12)

STAB-1

STAB-2

n = 1, 2, 3, 4, 5, 6 or 7

STAB-3

STAB-4

n = 1, 2, 3, 4, 5, 6 or 7

STAB-5

STAB-6

n = 1, 2, 3, 4, 5, 6 or 7

STAB-7

STAB-8

STAB-9

STAB-10

STAB-11

STAB-12

STAB-13

STAB-14

STAB-15

STAB-16

STAB-17

STAB-18

STAB-19

STAB-20

STAB-21

STAB-22

STAB-23

STAB-24

STAB-25

STAB-26

STAB-27

STAB-29

STAB-30

STAB-31

STAB-32

STAB-33

STAB-34

STAB-35

STAB-36

STAB-37

STAB-38

Geeignete polymerisierbare Verbindungen (reaktive Mesogene) für den Einsatz in den erfindungsgemäßen Mischungen, vorzugsweise in PSA- und PS-VA-Anwendungen oder PS-IPS/FFS-Anwendungen, werden nachfolgend in Tabelle E genannt:

<b><u>Tabelle E</u></b>

In der Tabelle E sind Beispielverbindungen zusammengestellt, die in den flüssigkristallinen Mischungen vorzugsweise als reaktive mesogene Verbindungen verwendet werden können. Sofern die flüssigkristallinen Mischungen ein oder mehrere reaktive Verbindungen enthalten, werden sie vorzugsweise in Mengen von 0,01-5 Gew.% eingesetzt. Gegebenenfalls muss für die Polymerisation noch ein Initiator oder ein Gemisch aus zwei oder mehr Initiatoren zugesetzt werden. Der Initiator oder das Initiatorgemisch wird vorzugsweise in Mengen von 0,001-2 Gew.% bezogen auf die Mischung zugesetzt. Ein geeigneter Initiator ist z. B. Irgacure (Fa. BASF) oder Irganox (Fa. BASF).

Geeignete polymerisierbare Verbindungen (reaktive Mesogene) für den Einsatz in den erfindungsgemäßen Mischungen, vorzugsweise in PSA-und PS-VA-Anwendungen oder PS-IPS/FFS-Anwendungen, werden nachfolgend in Tabelle E genannt:

In einer bevorzugten Ausführungsform enthalten die flüssigkristallinen Mischungen eine oder mehrere Verbindungen ausgewählt aus der Gruppe der Verbindungen der Tabelle E.

Beispiele

Die folgenden Ausführungsbeispiele sollen die Erfindung erläutern, ohne sie zu begrenzen.

Vor- und nachstehend bedeuten Prozentangaben Gewichtsprozent. Alle Temperaturen sind in Grad Celsius angegeben. Fp. bedeutet Schmelzpunkt, cp. = Klärpunkt. Ferner bedeuten K = kristalliner Zustand, N = nematische Phase, S = smektische Phase und I = isotrope Phase. Die Angaben zwischen diesen Symbolen stellen die Übergangstemperaturen dar. Weiterhin bedeutet

Vo
Schwellenspannung, kapazitiv [V] bei 20 °C

Δn
die optische Anisotropie gemessen bei 20°C und 589nm

Δε
die dielektrische Anisotropie bei 20 °C und 1 kHz

cp.
Klärpunkt [°C]

K1
elastische Konstante, "Splay"-Deformation bei 20°C, [pN]

K3
elastische Konstante, "Bend"-Deformation bei 20°C, [pN]

γ1
Rotationsviskosität gemessen bei 20°C [mPa·s], bestimmt nach dem Rotationsverfahren in einem magnetischen Feld

LTS
Tieftemperaturstabilität [Low temperature stability (nematische Phase)], bestimmt in Testzellen.

Die folgenden Beispiele sollen die Erfindung erläutern, ohne sie zu begrenzen.

Vor- und nachstehend bedeuten Prozentangaben Gewichtsprozent. Alle Temperaturen sind in Grad Celsius angegeben.

Ausführungsbeispiele

Beispiel 1

Eine flüssigkristalline Mischung, z. B. für PS-VA-Anwendungen, der Zusammensetzung

CCH-35

9,47 %

CCH-501

4,99 %

CCY-2-1

9,47 %

CCY-3-1

10,47 %

CCY-3-O2

10,47 %

CCY-5-O2

9,47 %

CPY-2-O2

11,96 %

CY-3-O4

8,97 %

CY-5-O4

10,97 %

RM-1

0,30 %

PCH-53

13,46 %

wird mit dem erfindungsgemäßen Verfahren gereinigt.

Beispiel 2

Eine flüssigkristalline Mischung, z. B. für PS-VA-Anwendungen, der Zusammensetzung

BCH-32

7,48 %

CCH-23

21,93 %

CCH-34

3,49 %

CCY-3-O3

6,98 %

CCY-4-O2

7,98 %

CPY-2-O2

10,97 %

CPY-3-O2

10,97 %

CY-3-O2

15,45 %

RM-1

0,30 %

PCH-301

12,46 %

PCH-302

1,99 %

wird mit dem erfindungsgemäßen Verfahren gereinigt.

Beispiel 3

Eine flüssigkristalline Mischung, z. B. für PS-VA-Anwendungen, der Zusammensetzung

CC-3-V1

7,98 %

CCH-23

17,95 %

CCH-34

3,99 %

CCH-35

6,98 %

CCP-3-1

4,99 %

CCY-3-O2

12,46 %

CPY-2-O2

7,98 %

CPY-3-O2

10,97 %

CY-3-O2

15,45 %

RM-1

0,30 %

PY-3-O2

10,97 %

wird mit dem erfindungsgemäßen Verfahren gereinigt.

Beispiel 4

Eine flüssigkristalline Mischung, z. B. für PS-VA-Anwendungen, der Zusammensetzung

CC-3-V1

8,97 %

CCH-23

12,96 %

CCH-34

6,23 %

CCH-35

7,73 %

CCP-3-1

3,49 %

CCY-3-O2

12,21 %

CPY-2-O2

6,73 %

CPY-3-O2

11,96 %

CY-3-O2

11,47 %

RM-1

0,30 %

PP-1-2V1

4,24 %

PY-3-O2

13,71 %

wird mit dem erfindungsgemäßen Verfahren gereinigt.

Beispiel 5

Eine flüssigkristalline Mischung, z. B. für TN-TFT-Anwendungen, der Zusammensetzung

CBC-33

3,50 %

CC-3-V

38,00 %

CC-3-V1

10,00 %

CCP-V-1

3,00 %

CCP-V2-1

9,00 %

PGP-2-3

5,00 %

PGP-2-4

5,00 %

PGU-2-F

8,00 %

PGU-3-F

9,00 %

PUQU-3-F

9,50 %

wird mit dem erfindungsgemäßen Verfahren gereinigt.

Beispiel 6

Eine flüssigkristalline Mischung, z. B. für IPS- oder FFS-Anwendungen, der Zusammensetzung

APUQU-3-F

4,50 %

CC-3-V

44,00 %

CC-3-V1

12,00 %

CCP-V-1

11,00 %

CCP-V2-1

9,00 %

PGP-2-3

6,00 %

PGUQU-3-F

6,00 %

PP-1-2V1

7,00 %

PPGU-3-F

0,50 %

wird mit dem erfindungsgemäßen Verfahren gereinigt.

Beispiel 7

Eine flüssigkristalline Mischung, z. B. für IPS- oder FFS-Anwendungen, der Zusammensetzung

APUQU-3-F

8,00 %

CBC-33

3,00 %

CC-3-V

34,00 %

CC-3-V1

2,50 %

CCGU-3-F

4,00 %

CCP-30CF3

4,00 %

CCP-3F.F.F

4,50 %

CCP-50CF3

3,00 %

CCP-V-1

10,00 %

CCQU-3-F

10,00 %

CPGU-3-OT

6,00 %

PGUQU-3-F

4,00 %

PUQU-3-F

7,00 %

wird mit dem erfindungsgemäßen Verfahren gereinigt.

Beispiel 8

Eine flüssigkristalline Mischung, z. B. für IPS- oder FFS--Anwendungen, der Zusammensetzung

APUQU-2-F

5,00 %

APUQU-3-F

7,50 %

BCH-3F.F.F

7,00 %

CC-3-V

40,50 %

CC-3-V1

6,00 %

CCP-V-1

9,50 %

CPGU-3-OT

5,00 %

PGP-2-3

6,00 %

PGP-2-4

6,00 %

PPGU-3-F

0,50 %

PUQU-3-F

7,00 %

wird mit dem erfindungsgemäßen Verfahren gereinigt.

Beispiel 9

Eine flüssigkristalline Mischung, z. B. für TN-TFT-Anwendungen, der Zusammensetzung

APUQU-2-F

8,00 %

APUQU-3-F

8,00 %

BCH-32

7,00 %

CC-3-V

43,00 %

CCP-V-1

9,00 %

PGP-2-3

7,00 %

PGP-2-4

6,00 %

PUQU-2-F

5,00 %

PUQU-3-F

7,00 %

wird mit dem erfindungsgemäßen Verfahren gereinigt.

Beispiel 10

Eine flüssigkristalline Mischung, z. B. für TN-TFT-Anwendungen, der Zusammensetzung

BCH-5F.F

8,00 %

CBC-33F

3,00 %

CC-3-V

22,00 %

CCGU-3-F

6,00 %

CCP-3F.F.F

8,00 %

CCP-5F.F.F

4,00 %

CCP-V-1

13,00 %

CCP-V2-1

11,00 %

CCQU-3-F

5,00 %

CCQU-5-F

4,00 %

PUQU-3-F

16,00 %

wird mit dem erfindungsgemäßen Verfahren gereinigt.

Beispiel 11

Eine flüssigkristalline Mischung, z. B. für TN-TFT-Anwendungen, der Zusammensetzung

CBC-33F

3,00 %

CBC-53F

3,00 %

CC-3-V

17,00 %

CC-3-V1

4,00 %

CCP-3F.F.F

8,00 %

CCPC-33

3,00 %

CCPC-34

3,00 %

CCP-V-1

5,00 %

CCP-V2-1

2,00 %

CCQU-2-F

1,50 %

CCQU-3-F

10,00 %

CCQU-5-F

10,00 %

CGU-3-F

6,00 %

PGP-2-3

7,50 %

PP-1-2V1

7,00 %

PUQU-3-F

10,00 %

wird mit dem erfindungsgemäßen Verfahren gereinigt.

Beispiel 12

Eine flüssigkristalline Mischung, z. B. für TN-TFT-Anwendungen, der Zusammensetzung

APUQU-2-F

1,00 %

BCH-3F.F.F

15,00 %

CC-3-V

33,50 %

CC-3-V1

2,00 %

CCGU-3-F

1,00 %

CCPC-33

2,00 %

CCP-V-1

4,50 %

BCH-2F

5,00 %

BCH-3F

5,00 %

PGP-2-3

8,50 %

PGUQU-3-F

7,80 %

PP-1-2V1

11,00 %

PPGU-3-F

0,20 %

PUQU-3-F

3,50 %

wird mit dem erfindungsgemäßen Verfahren gereinigt.

Beispiel 13

Eine flüssigkristalline Mischung, z. B. für IPS- oder FFS-Anwendungen, der Zusammensetzung

APUQU-2-F

2,00 %

APUQU-3-F

6,00 %

CC-3-V

42,00 %

CCP-3-1

3,00 %

CCP-3-3

3,00 %

CCP-3F.F.F

8,00 %

CCP-V-1

1,50 %

CCQU-3-F

7,00 %

CCQU-5-F

3,00 %

CPGU-3-OT

6,50 %

PGUQU-3-F

5,00 %

PGUQU-4-F

4,00 %

PGUQU-5-F

4,00 %

PPGU-3-F

0,50 %

PUQU-3-F

4,50 %

wird mit dem erfindungsgemäßen Verfahren gereinigt.

Beispiel 14

Eine flüssigkristalline Mischung, z. B. für TN-TFT-Anwendungen, der Zusammensetzung

CC-3-V

49,50 %

CCP-3-1

1,50 %

CCP-V-1

6,00 %

CPGU-3-OT

7,00 %

PGP-2-3

8,50 %

PGP-2-4

5,50 %

PGUQU-3-F

7,00 %

PGUQU-4-F

4,00 %

PP-1-2V1

2,50 %

PPGU-3-F

0,50 %

PUQU-3-F

8,00 %

wird mit dem erfindungsgemäßen Verfahren gereinigt.

Beispiel 15

Eine flüssigkristalline Mischung, z. B. für VA-Anwendungen, der Zusammensetzung

BCH-32

6,00 %

CCH-23

18,00 %

CCH-34

8,00 %

CCP-3-1

12,00 %

CCP-3-3

3,00 %

CCY-3-O2

6,00 %

CPY-2-O2

6,00 %

CPY-3-O2

7,00 %

CY-3-O2

14,00 %

CY-3-O4

8,00 %

CY-5-O2

9,00 %

PYP-2-3

3,00 %

wird mit dem erfindungsgemäßen Verfahren gereinigt.

Beispiel 16

Eine flüssigkristalline Mischung, z. B. für PS-VA-Anwendungen, der Zusammensetzung

CC-3-V1

7,98 %

CCH-23

17,95 %

CCH-34

3,99 %

CCH-35

6,98 %

CCP-3-1

4,99 %

CCY-3-O2

12,46 %

CPY-2-O2

7,98 %

CPY-3-O2

10,97 %

CY-3-O2

15,45 %

RM-17

0,30 %

PY-3-O2

10,97 %

wird mit dem erfindungsgemäßen Verfahren gereinigt.

Beispiel 17

Eine flüssigkristalline Mischung, z. B. für VA-Anwendungen, der Zusammensetzung

CC-3-V

29,50 %

PP-1-3

11,00 %

PY-3-O2

12,00 %

CCP-3-1

9,50 %

CCOY-2-O2

18,00 %

CCOY-3-O2

13,00 %

GPP-5-2

7,00 %

wird mit dem erfindungsgemäßen Verfahren gereinigt.

Die Mischungsbeispiele 1 bis 17 können zusätzlich noch einen oder mehrere z. B. einen oder zwei, Stabilisator(en), und/oder einen Dotierstoff aus den Tabellen C und D enthalten.

Beispiel 18

Eine flüssigkristalline Mischung, z. B. für TN-Anwendungen, der Zusammensetzung

BCH-3F.F

7,50 %

BCH-5F.F

7,50 %

CC-3-V

35,00 %

CCGU-3-F

4,00 %

CCP-3F.F.F

12,00 %

CCPC-33

3,00 %

CCP-V-1

10,00 %

PGP-2-4

4,00 %

PPGU-3-F

1,00 %

PUQU-3-F

16,00 %

wird mit dem erfindungsgemäßen Verfahren gereinigt.

Beispiel 19

Eine flüssigkristalline Mischung, z. B. für TN-Anwendungen, der Zusammensetzung

BCH-2F.F

4,00 %

BCH-3F.F.F

8,50 %

CC-3-V1

8,00 %

CC-4-V

10,00 %

CCG-V-F

8,00 %

CCP-20CF3

7,00 %

CCP-2F.F.F

8,00 %

CCP-30CF3

5,00 %

CCP-3-1

3,00 %

CCPC-33

2,50 %

CCP-V-1

11,50 %

CCQU-3-F

5,00 %

CDU-2-F

7,00 %

CDU-3-F

7,00 %

PUQU-3-F

5,50 %

wird mit dem erfindungsgemäßen Verfahren gereinigt.

Beispiel 20

Eine flüssigkristalline Mischung, z. B. für PS-VA-Anwendungen, der Zusammensetzung

BCH-32

7,48 %

CCH-23

21,93 %

CCH-34

3,49 %

CCY-3-O3

6,98 %

CCY-4-O2

7,98 %

CPY-2-O2

10,97 %

CPY-3-O2

10,97 %

CY-3-O2

15,45 %

RM-1

0,30 %

PCH-301

12,46 %

PCH-302

1,99 %

wird mit dem erfindungsgemäßen Verfahren gereinigt.

Beispiel 21

Eine flüssigkristalline Mischung, z. B. für VA-Anwendungen, der Zusammensetzung

BCH-32

8,50 %

CC-3-V

24,00 %

CC-3-V1

5,00 %

CCP-V-1

2,00 %

CCY-3-1

2,50 %

CCY-3-O1

7,00 %

CCY-3-O2

6,50 %

CCY-3-O3

4,00 %

CCY-4-O2

4,00 %

CPY-2-O2

7,50 %

CPY-3-O2

10,00 %

CY-3-O2

3,50 %

PY-3-O2

8,50 %

PYP-2-3

4,00 %

PYP-2-4

3,00 %

wird mit dem erfindungsgemäßen Verfahren gereinigt.

Beispiel 22

Eine flüssigkristalline Mischung, z. B. für FFS-Anwendungen, der Zusammensetzung

APUQU-2-F

4,00 %

CC-3-V

26,50 %

CC-3-V1

7,00 %

CCGU-3-F

1,50 %

CCP-2F.F.F

1,50 %

CCP-30CF3

8,00 %

CCP-3-1

2,00 %

CCP-V-1

10,00 %

CCP-V2-1

7,00 %

CDU-2-F

5,00 %

CPGU-3-OT

4,50 %

PGU-3-F

3,00 %

PGUQU-3-F

3,00 %

PGUQU-4-F

3,00 %

PPGU-3-F

1,50 %

PUQU-3-F

12,50 %

wird mit dem erfindungsgemäßen Verfahren gereinigt.

Beispiel 23

Eine flüssigkristalline Mischung, z. B. für FFS-Anwendungen, der Zusammensetzung

BCH-3F.F

7,00 %

CBC-33

3,00 %

CC-3-V

25,00 %

CCGU-3-F

6,00 %

CCP-30CF3

8,00 %

CCP-3-1

4,50 %

CCP-V-1

13,50 %

CCP-V2-1

6,00 %

CCQU-3-F

8,00 %

CPGP-5-2

3,00 %

DPGU-4-F

2,50 %

PPGU-3-F

1,00 %

PUQU-3-F

4,50 %

Y-4O-O4

8,00 %

wird mit dem erfindungsgemäßen Verfahren gereinigt.

Beispiel 24

Eine flüssigkristalline Mischung, z. B. für PS-VA-Anwendungen, der Zusammensetzung

CC-3-V1

10,22 %

CCH-23

18,44 %

Irganox® 1076

0,01 %

RM-1

0,30 %

PY-3-O2

12,96 %

PP-1-2V1

3,74 %

CY-3-O2

11,47 %

CPY-3-O2

9,72 %

CPY-2-O2

5,98 %

CCY-3-O2

11,96 %

CCY-3-1

2,49 %

CCP-3-1

5,98 %

CCH-35

6,73 %

wird mit dem erfindungsgemäßen Verfahren gereinigt.

Beispiel 25

Eine flüssigkristalline Mischung, z. B. für TN-Anwendungen, der Zusammensetzung

APUQU-2-F

2,00 %

BCH-3F.F

9,00 %

BCH-3F.F.F

9,00 %

CC-3-V1

5,00 %

CC-4-V

6,00 %

CCGU-3-F

7,50 %

CCG-V-F

15,50 %

CCP-2F.F.F

8,50 %

CCP-30CF3

6,00 %

CCP-3-1

2,00 %

CCP-3F.F.F

10,00 %

CCQU-3-F

9,50 %

CCQU-5-F

9,00 %

PPGU-3-F

1,00 %

wird mit dem erfindungsgemäßen Verfahren gereinigt.

Beispiel 26

Eine flüssigkristalline Mischung, z. B. für PS-VA-Anwendungen, der Zusammensetzung

RM-1

0,199 %

Irganox® 1076

0,001 %

PYP-2-4

8,98 %

PYP-2-3

8,98 %

PCH-53

2,99 %

PCH-301

5,99 %

CY-3-O4

20,46 %

CPY-3-O2

4,49 %

CPY-2-O2

9,98 %

CCY-4-O2

6,99 %

CCY-3-O3

7,98 %

CCY-3-O2

6,99 %

CCH-35

5,99 %

BCH-52

3,99 %

CCH-34

5,99 %

wird mit dem erfindungsgemäßen Verfahren gereinigt.

Beispiel 27

Eine flüssigkristalline Mischung, z. B. für FFS-Anwendungen, der Zusammensetzung

CDUQU-3-F

3,00 %

CCP-V-1

13,50 %

CCP-3-3

2,50 %

CC-3-V

44,00 %

APUQU-2-F

4,50 %

CPGU-3-OT

4,00 %

PUQU-2-F

5,00 %

PGU-2-F

6,00 %

PGU-3-F

6,00 %

PGUQU-3-F

3,50 %

PGUQU-4-F

3,50 %

PPGU-3-F

0,50 %

DPGU-4-F

4,00 %

wird mit dem erfindungsgemäßen Verfahren gereinigt.

Beispiel 28

Eine flüssigkristalline Mischung, z. B. für FFS-Anwendungen, der Zusammensetzung

BCH-3F.F

15,00 %

BCH-3F.F.F

8,00 %

CC-3-V

10,00 %

CC-3-V1

10,50 %

CC-4-V

10,50 %

CCP-30CF3

10,00 %

CCP-V-1

15,00 %

CDUQU-3-F

6,50 %

PGP-2-2V

1,00 %

PGU-2-F

8,00 %

PPGU-3-F

1,00 %

PUQU-3-F

4,50 %

wird mit dem erfindungsgemäßen Verfahren gereinigt.

Beispiel 29

Eine flüssigkristalline Mischung, z. B. für FFS-Anwendungen, der Zusammensetzung

PUQU-3-F

14,00 %

PPGU-3-F

1,00 %

PGP-2-2V

4,50 %

DPGU-4-F

3,00 %

CPGU-3-OT

3,00 %

STAB-37

0,01 %

CCP-V-1

14,00 %

CCP-30CF3

6,00 %

CC-3-V1

5,50 %

CC-3-V

38,99 %

APUQU-2-F

4,00 %

CCY-3-O2

6,00 %

wird mit dem erfindungsgemäßen Verfahren gereinigt.

Beispiel 30

Eine flüssigkristalline Mischung, z. B. für VA-Anwendungen, der Zusammensetzung

CLY-3-O2

10,00 %

CCY-3-O2

9,25 %

CCH-35

8,00 %

CC-3-V1

10,00 %

CC-3-V

27,50 %

CPY-3-O2

11,75 %

PYP-2-4

0,50 %

PY-4-O2

9,00 %

PY-3-O2

14,00 %

wird mit dem erfindungsgemäßen Verfahren gereinigt.

Beispiel 31

Eine flüssigkristalline Mischung, z. B. für PVA-Anwendungen, der Zusammensetzung

CCH-23

12,00 %

CCH-34

10,00 %

CCP-3-1

7,00 %

CCY-3-1

10,00 %

CCY-3-O2

9,00 %

CCY-3-O3

9,00 %

CCY-4-O2

9,00 %

CPGP-4-3

2,00 %

CPY-2-O2

8,00 %

CPY-3-O2

8,00 %

CY-3-O4

4,50 %

PCH-301

10,00 %

PYP-2-3

1,50 %

wird mit dem erfindungsgemäßen Verfahren gereinigt.

Beispiel 32

Eine flüssigkristalline Mischung, z. B. für FFS-Anwendungen, der Zusammensetzung

CC-3-V

33,00 %

CCY-3-O1

5,00 %

CCY-3-O2

6,50 %

CCY-4-O2

8,00 %

CCY-5-O2

3,50 %

CPY-2-O2

9,00 %

CPY-3-O2

9,00 %

CY-3-O2

10,00 %

CY-5-O2

2,00 %

PY-3-O2

9,00 %

PYP-2-3

5,00 %

wird mit dem erfindungsgemäßen Verfahren gereinigt.

Beispiel 33

Eine flüssigkristalline Mischung, z. B. für FFS-Anwendungen, der Zusammensetzung

CC-3-V

44,50 %

CC-3-V1

5,50 %

CCP-30CF3

8,00 %

CCP-V-1

8,00 %

CCQU-3-F

5,00 %

PGP-2-3

4,00 %

PGP-2-4

5,00 %

PGUQU-3-F

3,00 %

PGUQU-4-F

9,00 %

PGUQU-5-F

5,50 %

PUQU-3-F

2,50 %

wird mit dem erfindungsgemäßen Verfahren gereinigt.

Beispiel 34

Eine flüssigkristalline Mischung, z. B. für FFS-Anwendungen, der Zusammensetzung

APUQU-2-F

5,00 %

APUQU-3-F

5,00 %

CC-3-V

40,00 %

CC-3-V1

4,50 %

CCGU-3-F

3,50 %

CCP-30CF3

5,50 %

CCP-V-1

10,50 %

CCQU-3-F

5,50 %

CPGU-3-OT

3,00 %

PGUQU-4-F

6,00 %

PGUQU-5-F

4,50 %

PUQU-3-F

7,00 %

wird mit dem erfindungsgemäßen Verfahren gereinigt.

Beispiel 35

Eine flüssigkristalline Mischung, z. B. für FFS-Anwendungen, der Zusammensetzung

CC-3-V

23,50 %

CC-3-V1

9,00 %

CCGU-3-F

5,00 %

CCP-30CF3

8,00 %

CCP-50CF3

6,00 %

CCP-V-1

12,00 %

CCP-V2-1

5,00 %

CPGP-4-3

3,00 %

PCH-301

5,00 %

PGP-1-2V

7,50 %

PGP-2-2V

8,00 %

PUQU-3-F

8,00 %

wird mit dem erfindungsgemäßen Verfahren gereinigt.

Beispiel 36

Eine flüssigkristalline Mischung, z. B. für IPS-Anwendungen, der Zusammensetzung

APUQU-2-F

5,00 %

APUQU-3-F

8,00 %

CC-3-V

36,00 %

CC-3-V1

5,00 %

CCP-V-1

8,00 %

CCQU-3-F

9,50 %

PGP-2-2V

3,00 %

PGUQU-3-F

4,00 %

PGUQU-4-F

8,00 %

PGUQU-5-F

5,00 %

PUQU-3-F

8,50 %

wird mit dem erfindungsgemäßen Verfahren gereinigt.

Beispiel 37

Eine flüssigkristalline Mischung, z. B. für IPS-Anwendungen, der Zusammensetzung

APUQU-2-F

7,00 %

APUQU-3-F

7,00 %

CC-3-2V1

4,50 %

CC-3-V

32,00 %

CC-3-V1

11,00 %

CCP-30CF3

7,50 %

CCP-50CF3

1,50 %

DGUQU-4-F

8,00 %

DPGU-4-F

5,00 %

PGUQU-3-F

3,00 %

PGUQU-4-F

8,00 %

PGUQU-5-F

2,00 %

PP-1-2V1

2,00 %

PUQU-3-F

1,50 %

wird mit dem erfindungsgemäßen Verfahren gereinigt.

Beispiel 38

Eine flüssigkristalline Mischung, z. B. für PS-VA-Anwendungen, der Zusammensetzung

CCH-23

13,97 %

CCH-34

11,98 %

CCP-3-1

2,99 %

CCY-3-1

7,98 %

CCY-3-O2

11,98 %

CCY-3-O3

11,98 %

CCY-4-O2

9,98 %

CPY-2-O2

2,99 %

CPY-3-O2

9,98 %

PCH-301

9,98 %

PYP-2-3

5,99 %

RM-1

0,20 %

wird mit dem erfindungsgemäßen Verfahren gereinigt.

Beispiel 39

Eine flüssigkristalline Mischung, z. B. für FFS-Anwendungen, der Zusammensetzung

CC-3-V

29,00 %

CCY-3-O1

3,50 %

CCY-3-O2

9,00 %

CCY-4-O2

9,00 %

CCY-5-O2

3,00 %

CPY-3-O2

9,50 %

CY-3-O2

13,00 %

CY-5-O2

2,00 %

PY-3-O2

10,00 %

PYP-2-3

2,50 %

CPY-2-O2

9,50 %

wird mit dem erfindungsgemäßen Verfahren gereinigt und anschließend mit 0,005 % STAB-35 versetzt.

Beispiel 40

Eine flüssigkristalline Mischung, z. B. für PS-IPS-Anwendungen, der Zusammensetzung

APUQU-2-F

2,99 %

APUQU-3-F

5,99 %

BCH-2F.F

2,00 %

BCH-3F.F

7,48 %

CC-3-V

25,44 %

CC-3-V1

5,98 %

CCP-V-1

12,97 %

CCP-V2-1

5,98 %

CCQU-3-F

7,98 %

CCQU-5-F

3,98 %

PGUQU-3-F

4,99 %

PPGU-3-F

0,50 %

PUQU-3-F

13,47 %

RM-35

0,25 %

wird mit dem erfindungsgemäßen Verfahren gereinigt.

Beispiel 41

Eine flüssigkristalline Mischung, z. B. für PS-IPS-Anwendungen, der Zusammensetzung

APUQU-2-F

2,99 %

APUQU-3-F

5,99 %

BCH-2F.F

2,00 %

BCH-3F.F

7,48 %

CC-3-V

25,44 %

CC-3-V1

5,98 %

CCP-V-1

12,97 %

CCP-V2-1

5,99 %

CCQU-3-F

7,98 %

CCQU-5-F

3,98 %

PGUQU-3-F

4,98 %

PPGU-3-F

0,50 %

PUQU-3-F

13,47 %

RM-41

0,25 %

wird mit dem erfindungsgemäßen Verfahren gereinigt.

Beispiel 42

Eine flüssigkristalline Mischung, z. B. für TN-Anwendungen, der Zusammensetzung

PPGU-3-F

0,50 %

PP-1-2V1

1,50 %

PGUQU-4-F

4,00 %

PGUQU-3-F

5,00 %

PGP-2-5

2,00 %

PGP-2-4

5,00 %

PUQU-3-F

6,00 %

PCH-302

6,00 %

CPGP-5-3

6,00 %

CPGP-5-2

6,00 %

CC-3-V

30,00 %

BCH-3F.F.F

12,00 %

BCH-3F.F

10,00 %

PGP-2-3

6,00 %

wird mit dem erfindungsgemäßen Verfahren gereinigt.

Beispiel 43

Eine flüssigkristalline Mischung, z. B. für TN-TFT-Anwendungen, der Zusammensetzung

CC-3-V

29,00 %

CCGU-3-F

4,00 %

CCG-V-F

5,00 %

CCP-2F.F.F

5,00 %

CCP-3F.F.F

8,00 %

CCPC-33

3,00 %

CCPC-34

3,00 %

CCPC-35

1,50 %

CCP-V-1

10,00 %

CCP-V2-1

11,00 %

CCQU-2-F

1,50 %

CCQU-3-F

8,00 %

PUQU-3-F

11,00 %

wird mit dem erfindungsgemäßen Verfahren gereinigt.

Beispiel 44

Eine flüssigkristalline Mischung, z. B. für FFS-Anwendungen, der Zusammensetzung

BCH-32

4,50 %

CC-3-V

23,50 %

CCH-301

4,00 %

CCY-3-O2

4,00 %

CCY-3-O3

7,00 %

CCY-4-O2

8,00 %

CLY-3-O2

8,00 %

CPY-2-O2

7,00 %

CPY-3-O2

11,00 %

CY-3-O2

11,00 %

PY-3-O2

12,00 %

wird mit dem erfindungsgemäßen Verfahren gereinigt.

Beispiel 45

Eine flüssigkristalline Mischung, z. B. für IPS-Anwendungen, der Zusammensetzung

APUQU-2-F

2,50 %

APUQU-3-F

4,50 %

CC-3-V

42,00 %

CCGU-3-F

4,00 %

CCP-30CF3

5,00 %

CCP-3-1

3,00 %

CCP-V-1

10,00 %

CCP-V2-1

2,50 %

CCQU-3-F

6,00 %

CPGU-3-OT

5,00 %

PGUQU-3-F

4,50 %

PGUQU-4-F

3,50 %

PPGU-3-F

0,50 %

PUQU-3-F

7,00 %

wird mit dem erfindungsgemäßen Verfahren gereinigt.

Beispiel 46

Eine flüssigkristalline Mischung, z. B. für IPS-Anwendungen, der Zusammensetzung

BCH-32

2,99 %

CCH-303

1,49 %

CCH-34

12,93 %

CCH-501

5,97 %

CCY-2-1

5,97 %

CCY-3-1

5,97 %

CCY-3-O2

5,97 %

CCY-3-O3

5,97 %

CCY-4-O2

5,97 %

CCY-5-O2

2,99 %

CPY-2-O2

6,97 %

CPY-3-O2

6,97 %

CY-3-O2

14,93 %

CY-5-O2

9,46 %

PCH-302

4,98 %

RM-41

0,30 %

S-4011

0,17 %

wird mit dem erfindungsgemäßen Verfahren gereinigt.

Beispiel 47

Eine flüssigkristalline Mischung, z. B. für PM-VA-Anwendungen, der Zusammensetzung

CPY-3-O2

8,00 %

CPY-2-O2

8,00 %

CH-43

3,00 %

CH-35

3,00 %

CH-33

3,00 %

CCY-5-O2

5,50 %

CCY-4-O2

6,50 %

CCY-3-O3

6,50 %

CCY-3-O2

6,50 %

CCPC-35

5,00 %

CCPC-34

5,00 %

CCPC-33

5,00 %

CC-4-V

4,50 %

CY-3-O4

15,50 %

Y-4O-O4

15,00 %

wird mit dem erfindungsgemäßen Verfahren gereinigt.

Beispiel 48

Eine flüssigkristalline Mischung, z. B. für PS-FFS-Anwendungen, der Zusammensetzung

APUQU-2-F

2,49 %

APUQU-3-F

6,98 %

CC-3-V

24,94 %

CC-3-V1

7,98 %

CCGU-3-F

3,49 %

CCP-30CF3

4,99 %

CCP-V-1

5,99 %

CCP-V2-1

13,97 %

CCQU-3-F

9,98 %

PCH-302

6,48 %

PGUQU-3-F

3,99 %

PGUQU-4-F

3,99 %

PPGU-3-F

0,49 %

PUQU-3-F

3,99 %

RM-41

0,25 %

wird mit dem erfindungsgemäßen Verfahren gereinigt.

Beispiel 49

Eine flüssigkristalline Mischung, z. B. für FFS-Anwendungen, der Zusammensetzung

APUQU-2-F

3,50 %

APUQU-3-F

6,00 %

CC-3-V

45,50 %

CCP-30CF3

5,00 %

CCP-3-1

3,00 %

CCP-V2-1

8,50 %

CPGU-3-OT

6,00 %

PGUQU-3-F

5,00 %

PGUQU-4-F

5,00 %

PPGU-3-F

0,50 %

PUQU-3-F

12,00 %

wird mit dem erfindungsgemäßen Verfahren gereinigt.

Beispiel 50

Eine flüssigkristalline Mischung, z. B. für FFS-Anwendungen, der Zusammensetzung

APUQU-2-F

4,00 %

APUQU-3-F

6,00 %

CC-3-V

45,00 %

CCP-20CF3

4,00 %

CCP-30CF3

4,00 %

CCP-40CF3

2,50 %

CPGP-5-2

7,00 %

CPGP-5-3

7,00 %

PGP-2-3

5,50 %

PGP-2-4

5,00 %

PPGU-3-F

0,50 %

PUQU-3-F

9,50 %

wird mit dem erfindungsgemäßen Verfahren gereinigt.

Beispiel 51

Eine flüssigkristalline Mischung, z. B. für TN-Anwendungen, der Zusammensetzung

CC-3-V

49,50 %

CCP-3-1

1,50 %

CCP-V-1

6,00 %

CPGU-3-OT

7,00 %

PGP-2-3

8,50 %

PGP-2-4

5,50 %

PGUQU-3-F

7,00 %

PGUQU-4-F

4,00 %

PP-1-2V1

2,50 %

PPGU-3-F

0,50 %

PUQU-3-F

8,00 %

wird mit dem erfindungsgemäßen Verfahren gereinigt.

Beispiel 52

Eine flüssigkristalline Mischung, z. B. für PA-VA-Anwendungen, der Zusammensetzung

BCH-32

6,00 %

CCH-23

18,00 %

CCH-34

8,00 %

CCP-3-1

12,00 %

CCP-3-3

3,00 %

CCY-3-O2

6,00 %

CPY-2-O2

6,00 %

CPY-3-O2

7,00 %

CY-3-O2

14,00 %

CY-3-O4

8,00 %

CY-5-O2

9,00 %

PYP-2-3

3,00 %

wird mit dem erfindungsgemäßen Verfahren gereinigt.

Beispiel 53

Eine flüssigkristalline Mischung, z. B. für FFS-Anwendungen, der Zusammensetzung

CCQU-3-F

8,00 %

CCP-V2-1

7,00 %

CCP-V-1

10,00 %

CC-3-V

32,50 %

PGP-2-2V

10,00 %

PUQU-3-F

12,50 %

PGUQU-5-F

4,00 %

PGUQU-4-F

5,00 %

PGUQU-3-F

5,00 %

APUQU-3-F

6,00 %

wird mit dem erfindungsgemäßen Verfahren gereinigt.

Beispiel 54

Eine flüssigkristalline Mischung, z. B. für FFS-Anwendungen, der Zusammensetzung

APUQU-3-F

1,00 %

BCH-3F.F.F

17,00 %

CC-3-V

35,00 %

CC-3-V1

6,00 %

CCP-3F.F.F

2,50 %

CCP-V-1

12,00 %

CCP-V2-1

8,50 %

CPGP-5-2

3,00 %

CPGP-5-3

2,50 %

DPGU-4-F

4,00 %

PGUQU-3-F

4,00 %

PGUQU-4-F

2,00 %

PGUQU-5-F

2,00 %

PPGU-3-F

0,50 %

wird mit dem erfindungsgemäßen Verfahren gereinigt.

Beispiel 55

Eine flüssigkristalline Mischung, z. B. für PM-VA-Anwendungen, der Zusammensetzung

CH-35

3,00 %

CH-43

3,00 %

CLY-3-O2

3,25 %

CPY-2-O2

10,00 %

CY-3-O2

15,00 %

CH-33

3,00 %

CCY-5-O2

4,00 %

CCY-4-O2

6,00 %

CCY-3-O3

6,00 %

CCY-3-O2

6,00 %

CCY-3-1

2,00 %

CCY-2-1

8,75 %

CY-3-O4

20,00 %

CCPC-33

3,75 %

CCH-34

4,75 %

CCPC-34

1,50 %

wird mit dem erfindungsgemäßen Verfahren gereinigt.

Beispiel 56

Eine flüssigkristalline Mischung, z. B. für PS-FFS-Anwendungen, der Zusammensetzung

APUQU-3-F

5,99 %

BCH-3F.F

5,49 %

CC-3-V

24,94 %

CC-3-V1

7,98 %

CCGU-3-F

5,98 %

CCP-30CF3

2,99 %

CCP-V-1

16,96 %

CCP-V2-1

13,96 %

CCQU-3-F

2,49 %

CCQU-5-F

4,99 %

PGUQU-4-F

4,49 %

PPGU-3-F

0,50 %

PUQU-3-F

2,99 %

RM-41

0,25 %

wird mit dem erfindungsgemäßen Verfahren gereinigt.

Die nachfolgenden Mischungen werden ebenfalls mit dem erfindungsgemäßen Verfahren gereinigt:

Beispiel 57

CY-3-O4

14,00 %

Klärpunkt [°C]:

106,0

CCY-3-O2

8,00 %

Δn [589 nm, 20°C]:

0,1597

CCY-4-O2

7,00 %

ε [1 kHz, 20°C]:

3,9

CCY-3-O3

6,00 %

ε [1 kHz, 20°C]:

8,5

CCY-5-O2

5,00 %

Δε [1 kHz, 20°C]:

-4,6

CPY-2-O2

10,00 %

K1 [pN, 20°C]:

16,6

CPY-3-O2

8,00 %

K3 [pN, 20°C]:

17,6

PYP-2-3

14,00%

V0 [20°C, V]:

2,08

PYP-2-4

14,00 %

γ1 [mPa-s, 20°C]:

316

CCH-301

8,00 %

PGP-2-3

6,00 %

Beispiel 57a

Die Mischung gemäß Beispiel 57 enthält zusätzlich mit 0,025 % STAB-35.

Beispiel 58

CY-3-O2

13,00 %

Klärpunkt [°C]:

111

CY-5-O2

9,00 %

CY-5-O4

8,00 %

CCY-3-O2

6,00 %

CCY-3-O3

5,00 %

CCY-4-O2

5,00 %

CCY-5-O2

3,50 %

CPY-2-O2

7,00 %

CPY-3-O2

3,00 %

CCH-34

17,50 %

CCP-3-1

4,50 %

CH-35

3,00 %

CH-43

3,00 %

CH-45

0,50 %

CCPC-33

3,00 %

CCPC-34

3,00 %

CCPC-35

3,00 %

Beispiel 59

CC-3-V

37,00 %

Klärpunkt [°C]:

75,2

CCY-3-O1

5,00 %

Δn [589 nm, 20°C]:

0,1014

CCY-3-O2

5,00 %

Δε [1 kHz, 20°C]:

-3,7

CCY-4-O2

4,00 %

ε [1 kHz, 20°C]:

3,7

CLY-3-O2

7,00 %

ε [1 kHz, 20°C]:

7,4

CPY-2-O2

9,00 %

K1 [pN, 20°C]:

13,2

CPY-3-O2

10,00 %

K3 [pN, 20°C]:

15,2

CY-3-O2

11,50%

V0 [20°C, V]:

2,13

PY-3-O2

11,50 %

Beispiel 60

CC-3-V

40,00 %

Klärpunkt [°C]:

100,3

CC-3-V1

5,00 %

Δn [589 nm, 20°C]:

0,1059

CCP-30CF3

4,00 %

Δε [1 kHz, 20°C]:

3,9

CCP-V-1

13,00 %

ε [1 kHz, 20°C]:

6,7

CCP-V2-1

4,00 %

ε [1 kHz, 20°C]:

2,8

CCVC-3-V

4,00 %

K1 [pN, 20°C]:

14,9

CDUQU-3-F

2,00 %

K3 [pN, 20°C]:

17,0

CPGP-5-2

5,00 %

V0 [20°C, V]:

2,07

CPGP-5-3

1,50 %

γ1 [mPa·s, 20°C]:

74

DGUQU-4-F

2,00 %

DPGU-4-F

3,00 %

PGP-2-3

4,00 %

PGP-2-4

4,00 %

PPGU-3-F

0,50 %

PUQU-3-F

8,00 %

Beispiel 61

CY-3-O4

23,00 %

Klärpunkt [°C]:

71,3

CCY-3-O1

6,00 %

Δn [589 nm, 20°C]:

0,1197

CCY-3-O2

6,00 %

Δε [1 kHz, 20°C]:

-7,0

CCY-3-O3

7,00 %

ε [1 kHz, 20°C]:

5,0

CCY-4-O2

7,00 %

ε [1 kHz, 20°C]:

12,0

CCY-5-O2

5,00 %

K1 [pN, 20°C]:

11,7

CPY-2-O2

8,00 %

K3 [pN, 20°C]:

13,2

CPY-3-O2

10,00 %

V0 [20°C, V]:

1,44

CCY-2-1

3,50 %

γ1 [mPa·s, 20°C]:

246

PYP-2-4

8,50 %

PY-1-O4

8,00 %

Y-4O-O4

8,00 %

Beispiel 62

PUQU-3-F

9,00 %

Klärpunkt [°C]:

75,9

PGUQU-3-F

7,00 %

An [589 nm, 20°C]:

0,1131

PGUQU-4-F

5,00 %

Δε [1 kHz, 20°C]:

6,1

CPGU-3-OT

4,50 %

K1 [pN, 20°C]:

11,9

PPGU-3-F

0,50 %

K3 [pN, 20°C]:

13,6

CDUQU-3-F

0,05 %

V0 [20°C]:

1,14

CC-3-V

49,95 %

γ1 [mPa·s, 20°C]:

57

CCP-V-1

12,00 %

PGP-2-3

8,00 %

PGP-2-4

4,00 %

Beispiel 63

PUQU-3-F

8,00 %

Klärpunkt [°C]:

75,4

PGUQU-3-F

7,00 %

Δn [589 nm, 20°C]:

0,1191

PGUQU-4-F

4,00 %

Δε [1 kHz, 20°C]:

6,1

PPGU-3-F

0,50 %

K1 [pN, 20°C]:

12,6

CPGU-3-OT

7,00 %

K3 [pN, 20°C]:

12,5

CC-3-V

49,50 %

V0 [20°C, V]:

1,52

CCP-3-1

1,50 %

γ1 [mPa·s, 20°C]:

57

CCP-V-1

6,00 %

PP-1-2V1

2,50 %

PGP-2-3

8,50 %

PGP-2-4

5,50 %

Beispiel 64

CY-3-O4

12,00 %

Klärpunkt [°C]:

102,5

CY-5-O4

12,00 %

Δn [589 nm, 20°C]:

0,1605

CCY-3-O2

8,00 %

Δε [1 kHz, 20°C]:

-5,6

CCY-4-O2

7,00 %

ε [1 kHz, 20°C]:

4,0

CCY-3-O3

7,00 %

ε [1 kHz, 20°C]:

9,6

CPY-2-O2

12,00 %

K1 [pN, 20°C]:

16,9

CPY-3-O2

12,00 %

K3 [pN, 20°C]:

17,1

PYP-2-3

15,00 %

V0 [V, 20°C]:

1,84

PYP-2-4

15,00 %

γ1 [mPa·s, 20°C]:

401

Beispiel 65

BCH-32

8,00 %

Klärpunkt [°C]:

80,6

CC-3-V

28,00%

Δn [589 nm, 20°C]:

0,1194

CCY-3-O1

5,00 %

Δε [1 kHz, 20°C]:

-3,9

CCY-3-O2

6,00 %

ε [1 kHz, 20°C]:

4,0

CLY-3-O2

8,00 %

ε [1 kHz, 20°C]:

7,9

CPY-2-O2

10,00 %

K1 [pN, 20°C]:

13,0

CPY-3-O2

10,00 %

K3 [pN, 20°C]:

14,0

PGIY-2-O4

8,00 %

V0 [20°C]:

2,0

PY-3-O2

9,00 %

γ1 [mPa·s, 20°C]:

120

Y-4O-O4

8,00 %

Beispiel 66

CY-3-O2

15,00 %

Klärpunkt [°C]:

80,1

CY-5-O2

7,00 %

Δn [589 nm, 20°C]:

0,1026

CCY-3-O1

4,00 %

Δε [1 kHz, 20°C]:

-3,5

CCY-3-O2

2,00 %

ε [1 kHz, 20°C]:

3,5

CCY-3-O3

6,00 %

ε [1 kHz, 20°C]:

7,0

CCY-4-O2

6,00 %

K1 [pN, 20°C]:

13,9

CPY-2-O2

8,00 %

K3 [pN, 20°C]:

13,8

CPY-3-O2

8,00 %

V0 [20°C]:

2,11

PYP-2-4

6,50 %

γ1 [mPa·s, 20°C]:

132

CCH-23

15,00 %

CCH-34

5,00 %

CCH-35

4,00 %

CCH-301

6,00 %

BCH-32

7,50 %

Beispiel 67

APUQU-2-F

3,00 %

Klärpunkt [°C]:

100,1

APUQU-3-F

2,50 %

Δn [589 nm, 20°C]:

0,1046

CC-3-2V1

3,00 %

CC-3-V

37,00 %

CC-3-V1

5,00 %

CCP-V-1

13,00 %

CCP-V2-1

7,50 %

CCVC-3-V

5,00 %

CDUQU-3-F

2,00 %

CPGP-5-2

4,00 %

DGUQU-4-F

2,00 %

PGP-2-3

5,00 %

PGP-2-4

4,50 %

PPGU-3-F

0,50 %

PUQU-3-F

6,00 %

Beispiel 68

PCH-3

6,00 %

Klärpunkt [°C]:

86,0

CC-5-V

20,00 %

Δn [589 nm, 20°C]:

0,1612

PCH-301

14,00 %

Δε [1 kHz, 20°C]:

1,8

PCH-302

15,00 %

ε [1 kHz, 20°C]:

4,7

PPTUI-3-2

15,00 %

ε [1 kHz, 20°C]:

2,9

PPTUI-3-4

15,00 %

CCP-V-1

8,00 %

CCP-V2-1

7,00 %

Beispiel 68a

Die Mischung gemäß Beispiel 68 enthält zusätzlich mit 2 % R-5011.

Beispiel 69

CY-3-O

13,00 %

Klärpunkt [°C]:

92,0

CC-4-V

17,00 %

Δn [589 nm, 20°C]:

0,1598

CC-3-V1

8,00 %

Δε [1 kHz, 20°C]:

-1,9

CCP-V-1

12,00 %

ε [1 kHz, 20°C]:

3,4

CCP-V2-1

12,00 %

ε [1 kHz, 20°C]:

5,3

PPTUI-3-2

10,00 %

PTP-302FF

10,00 %

PTP-502FF

10,00 %

CPTP-302FF

4,00 %

CPTP-502FF

4,00 %

Beispiel 70

CY-3-O

12,50 %

Klärpunkt [°C]:

75,4

CY-5-O2

10,00 %

Δn [589 nm, 20°C]:

0,1077

CCY-3-O1

4,50 %

Δε [1 kHz, 20°C]:

-3,2

CCY-3-O2

6,00 %

ε [1 kHz, 20°C]:

3,5

CLY-3-O2

7,00 %

ε [1 kHz, 20°C]:

6,7

CPY-2-O2

10,00 %

V0 [20°C]:

2,30

CPY-3-O2

10,00 %

γ1 [mPa·s, 20°C]:

112,9

CC-3-V

27,40 %

BCH-32

3,50 %

PP-1-2V1

9,00 %

CDUQU-3-F

0,10 %

Beispiel 71

CY-3-O2

15,00 %

Klärpunkt [°C]:

75,8

CY-3-O4

2,50 %

Δn [589 nm, 20°C]:

0,1021

CY-5-O2

10,00 %

Δε [1 kHz, 20°C]:

-3,2

CCY-3-O1

5,00 %

ε [1 kHz, 20°C]:

3,6

CCY-4-O2

5,00 %

ε [1 kHz, 20°C]:

6,8

CPY-2-O2

7,00 %

K1 [pN, 20°C]:

13,4

CPY-3-O2

7,00 %

K3 [pN, 20°C]:

13,5

CCY-2-1

6,00 %

V0 [20°C]:

2,14

CCY-3-1

6,00 %

γ1 [mPa·s, 20°C]:

128

CCH-23

15,50 %

CCH-34

5,00 %

BCH-32

13,00 %

PP-1-4

3,00 %

Beispiel 72

CC-3-V

33,00 %

Klärpunkt [°C]:

80,2

CCY-3-O1

6,00 %

Δn [589 nm, 20°C]:

0,1116

CCY-3-O2

8,00 %

Δε [1 kHz, 20°C]:

-4,1

CCY-4-O2

2,50 %

ε [1 kHz, 20°C]:

3,7

CPY-2-O2

8,00 %

ε [1 kHz, 20°C]:

7,8

CPY-3-O2

12,00 %

K1 [pN, 20°C]:

14,5

CLY-3-O2

8,00 %

K3 [pN, 20°C]:

16,1

PY-1-O4

1,50 %

V0 [20°C]:

2,09

PY-3-O2

10,00 %

γ1 [mPa·s, 20°C]:

119

PY-4-O2

8,00 %

CY-3-O2

3,00 %

Beispiel 73

BCH-32

2,00 %

Klärpunkt [°C]:

79,7

BCH-52

2,50 %

Δn [589 nm, 20°C]:

0,1036

CCY-2-1

9,50 %

Δε [1 kHz, 20°C]:

-3,7

CCY-3-1

9,50 %

ε [1 kHz, 20°C]:

4,8

CCY-3-O2

10,00 %

ε [1 kHz, 20°C]:

8,5

CCY-5-O2

10,00 %

K1 [pN, 20°C]:

13,9

CPY-2-O2

12,00 %

K3 [pN, 20°C]:

14,1

CY-3-O4

15,00 %

V0 [20°C]:

2,06

CY-5-O4

15,50 %

PCH-53

10,50 %

APUQU-3-F

3,50 %

Beispiel 74

BCH-32

0,50 %

Klärpunkt [°C]:

79,2

BCH-52

0,50 %

Δn [589 nm, 20°C]:

0,1037

CCY-2-1

5,00 %

Δε [1 kHz, 20°C]:

-3,8

CCY-3-1

5,00 %

ε [1 kHz, 20°C]:

6,2

CCY-3-O2

13,00 %

ε [1 kHz, 20°C]:

10,0

CCY-5-O2

13,00 %

K1 [pN, 20°C]:

14,8

CPY-2-O2

12,00 %

K3 [pN, 20°C]:

14,5

CY-3-O4

19,50 %

V0 [20°C]:

2,12

CY-5-O4

19,50 %

PCH-53

5,00 %

APUQU-3-F

7,00%

Beispiel 75

CY-3-O2

27,50 %

Klärpunkt [°C]:

80,0

CCY-4-O2

26,50 %

Δn [589 nm, 20°C]:

0,0911

CPY-3-O2

13,50 %

Δε [1 kHz, 20°C]:

-3,6

CC-3-V

25,00 %

ε [1 kHz, 20°C]:

4,4

CCH-34

5,00 %

ε [1 kHz, 20°C]:

8,1

APUQU-3-F

2,50 %

Beispiel 76

APUQU-3-F

7,00 %

Klärpunkt [°C]:

88,0

CC-3-V

35,00 %

Δn [589 nm, 20°C]:

0,1150

CC-3-V1

5,00 %

Δε [1 kHz, 20°C]:

-2,2

CCP-30CF3

5,00 %

ε [1 kHz, 20°C]:

1,0

CCP-V-1

12,00 %

ε [1 kHz, 20°C]:

3,1

CPGP-5-2

1,00 %

K1 [pN, 20°C]:

14,3

DPGU-4-F

8,00 %

K3 [pN, 20°C]:

14,7

PGP-2-2V

12,00 %

V0 [20°C]:

1,53

PUQU-3-F

10,00 %

γ1 [mPa·s, 20°C]:

66

CC-2-V1

5,00 %

Beispiel 77

BCH-32

6,00 %

Klärpunkt [°C]:

101,6

CC-3-V

39,50 %

Δn [589 nm, 20°C]:

0,1111

CCP-3-1

6,50 %

Δε [1 kHz, 20°C]:

6,9

CCP-30CF3

1,00 %

K1 [pN, 20°C]:

15,3

CCP-V-1

16,00 %

K3 [pN, 20°C]:

17,3

CDUQU-3-F

9,50 %

V0 [20°C]:

1,57

CPGP-5-2

3,00 %

γ1 [mPa·s, 20°C]:

89

CPGP-5-3

1,00 %

LTS [bulk, -30 °C]:

> 1000 h

PGU-2-F

7,50 %

PGUQU-3-F

3,50 %

PGUQU-4-F

2,00 %

PGUQU-5-F

3,50 %

PPGU-3-F

1,00 %

Beispiel 78

BCH-32

5,00 %

Klärpunkt [°C]:

102,5

CC-3-V

35,00 %

Δn [589 nm, 20°C]:

0,1207

CC-3-V1

5,00 %

Δε [1 kHz, 20°C]:

7,3

CCP-V-1

15,00 %

K1 [pN, 20°C]:

15,2

CDUQU-3-F

8,00 %

K3 [pN, 20°C]:

16,6

CPGP-4-3

3,00 %

V0 [20°C]:

1,53

CPGP-5-2

3,00 %

γ1 [mPa·s, 20°C]:

96

CPGP-5-3

3,00 %

LTS [bulk, -30 °C]:

> 1000 h

CPGU-3-OT

4,50 %

PGU-2-F

5,50 %

PGU-3-F

5,50 %

PGUQU-3-F

2,50 %

PPGU-3-F

0,50 %

PUQU-3-F

4,50 %

Beispiel 79

BCH-32

6,00 %

Klärpunkt [°C]:

101

CC-3-V

34,50 %

Δn [589 nm, 20°C]:

0,1210

CC-3-V1

6,00 %

Δε [1 kHz, 20°C]:

7,3

CCP-V-1

15,00 %

K1 [pN, 20°C]:

15,1

CDUQU-3-F

6,50 %

K3 [pN, 20°C]:

16,5

CPGP-4-3

3,00 %

γ1 [mPa·s, 20°C]:

92

CPGP-5-2

3,00 %

LTS [bulk, -30 °C]:

> 1000 h

CPGP-5-3

1,50 %

CPGU-3-OT

5,00 %

PGU-2-F

5,50 %

PGU-3-F

4,50 %

PGUQU-3-F

4,00 %

PPGU-3-F

0,50 %

PUQU-3-F

5,00 %

Beispiel 80

APUQU-3-F

5,00 %

Klärpunkt [°C]:

104,4

BCH-3F.F

2,50 %

Δn [589 nm, 20°C]:

0,0947

CC-3-V

40,00 %

Δε [1 kHz, 20°C]:

7,2

CCGU-3-F

6,00 %

K1 [pN, 20°C]:

15,5

CCP-3-1

2,50 %

K3 [pN, 20°C]:

18,3

CCP-30CF3

7,00 %

V0 [20°C]:

1,55

CCP-V-1

12,00 %

γ1 [mPa·s, 20°C]:

93

CCP-V2-1

6,00 %

CDUQU-3-F

10,00 %

CPGP-5-2

2,00 %

DPGU-4-F

2,50 %

PPGU-3-F

0,50 %

PUQU-3-F

4,00 %

Beispiel 81

APUQU-3-F

5,00 %

Klärpunkt [°C]:

104,5

CC-3-V

39,00 %

Δn [589 nm, 20°C]:

0,0942

CCGU-3-F

10,00 %

Δε [1 kHz, 20°C]:

7,2

CCP-3-1

3,00 %

K1 [pN, 20°C]:

15,3

CCP-30CF3

7,50 %

K3 [pN, 20°C]:

18,5

CCP-V-1

13,00 %

V0 [20°C]:

1,54

CCP-V2-1

5,00 %

γ1 [mPa·s, 20°C]:

94

CDUQU-3-F

8,00 %

CPGP-5-2

2,00 %

PPGU-3-F

0,50 %

PUQU-3-F

7,00 %

Beispiel 82

APUQU-3-F

5,00 %

Klärpunkt [°C]:

104,5

CC-3-V

34,50 %

Δn [589 nm, 20°C]:

0,0940

CC-3-V1

4,50 %

Δε [1 kHz, 20°C]:

7,3

CCGU-3-F

10,00 %

K1 [pN, 20°C]:

15,5

CCP-3-1

3,00 %

K3 [pN, 20°C]:

18,7

CCP-30CF3

7,50 %

V0 [20°C]:

1,54

CCP-V-1

11,50 %

γ1 [mPa·s, 20°C]:

97

CCP-V2-1

4,00 %

CCQU-3-F

4,00 %

CDUQU-3-F

6,50 %

CPGP-5-2

2,00 %

PPGU-3-F

0,50 %

PUQU-3-F

7,00 %

Beispiel 83

BCH-3F.F.F

12,00 %

Klärpunkt [°C]:

101,2

CC-3-V

8,00 %

Δn [589 nm, 20°C]:

0,1079

CC-3-V1

9,00 %

Δε [1 kHz, 20°C]:

6,8

CC-4-V

10,00 %

K1 [pN, 20°C]:

14,2

CCGU-3-F

4,00 %

K3 [pN, 20°C]:

17,0

CCP-1F.F.F

4,50 %

V0 [20°C]:

1,53

CCP-30CF3

8,00 %

γ1 [mPa·s, 20°C]:

100

CCP-3F.F.F

8,00 %

CCP-V-1

13,00 %

CCP-V2-1

6,00 %

CPGP-5-2

3,00 %

CPGU-3-OT

1,50 %

PGP-2-2V

3,00 %

PPGU-3-F

1,00 %

PUQU-3-F

9,00 %

Beispiel 84

APUQU-2-F

5,50 %

Klärpunkt [°C]:

80,5

APUQU-3-F

3,00 %

Δn [589 nm, 20°C]:

0,1017

CC-3-V

36,00 %

Δε [1 kHz, 20°C]:

9,2

CC-3-V1

6,50 %

ε [1 kHz, 20°C]:

12,9

CCP-30CF3

8,00 %

ε [1 kHz, 20°C]:

3,7

CCP-V-1

11,50 %

K1 [pN, 20°C]:

11,8

CDUQU-3-F

5,00 %

K3 [pN, 20°C]:

12,8

DPGU-4-F

5,50 %

V0 [20°C]:

1,20

PGP-2-2V

2,00 %

γ1 [mPa·s, 20°C]:

53

PGU-2-F

7,50 %

PUQU-3-F

9,50 %

Beispiel 84a

Die Mischung gemäß Beispiel 84 enthält zusätzlich mit 0,4 % RM-1.

Beispiel 85

BCH-32

3,00 %

Klärpunkt [°C]:

109,8

CCH-23

15,00 %

Δn [589 nm, 20°C]:

0,1028

CCH-34

3,00 %

Δε [1 kHz, 20°C]:

-3,7

CCH-35

7,00 %

ε [1 kHz, 20°C]:

3,3

CCP-3-1

7,00 %

ε [1 kHz, 20°C]:

7,0

CCY-3-1

8,00 %

K1 [pN, 20°C]:

20,4

CCY-3-O2

12,00 %

K3 [pN, 20°C]:

20,6

CCY-4-O2

10,00 %

CCY-5-O2

5,50 %

CPY-2-O2

5,00 %

CPY-3-O2

11,00 %

CY-3-O2

8,00 %

PY-3-O2

5,50 %

Beispiel 86

CC-3-V1

10,00 %

Klärpunkt [°C]:

74,6

CCH-23

18,50 %

Δn [589 nm, 20°C]:

0,1032

CCH-35

8,00 %

Δε [1 kHz, 20°C]:

-3,0

CCP-3-1

7,00 %

ε [1 kHz, 20°C]:

3,4

CCY-3-O2

12,00 %

ε [1 kHz, 20°C]:

6,3

CPY-3-O2

10,50 %

K1 [pN, 20°C]:

15,0

CY-3-O2

15,50 %

K3 [pN, 20°C]:

16,1

PY-3-O2

10,50 %

V0 [20°C]:

2,45

PYP-2-3

8,00 %

γ1 [mPa·s, 20°C]:

103

Beispiel 86a

Die Mischung aus Beispiel 86 enthält zusätzlich mit 0,001 % Irganox® 1076 (Octadecyl-3-(3,5-di-tert. butyl-4-hydroxyphenyl)-proprionat, Fa. BASF) und 0,3 % RM-1.

Beispiel 87

CDUQU-3-F

7,00 %

Klärpunkt [°C]:

100

CCP-V-1

2,00 %

Δn [589 nm, 20°C]:

0,0714

CCQU-3-F

5,00 %

Δε [1 kHz, 20°C]:

8,3

CCQU-5-F

5,00 %

ε [1 kHz, 20°C]:

12,0

CCZU-3-F

13,50 %

ε [1 kHz, 20°C]:

3,8

CCZU-5-F

4,00 %

K1 [pN, 20°C]:

11,4

PUQU-3-F

1,00 %

K3 [pN, 20°C]:

15,8

CC-5-V

7,00 %

V0 [20°C]:

1,23

CCG-V-F

7,50 %

γ1 [mPa·s, 20°C]:

118

CCH-301

14,00 %

CCP-2F.F.F

5,00 %

CCP-30CF3.F

7,00 %

CCP-3F.F.F

7,00 %

CCP-5F.F.F

7,00 %

CCPC-33

1,50 %

CCPC-34

2,00 %

CH-33

1,50 %

CH-35

1,50 %

CH-43

1,50 %

Beispiel 88

APUQU-2-F

8,00 %

Klärpunkt [°C]:

88,9

APUQU-3-F

8,00 %

Δn [589 nm, 20°C]:

0,0987

CC-3-V

30,00 %

Δε [1 kHz, 20°C]:

5,9

CC-3-V1

8,50 %

ε [1 kHz, 20°C]:

8,9

CCP-3-1

4,00 %

ε [1 kHz, 20°C]:

2,9

CCP-V-1

16,00 %

K1 [pN, 20°C]:

13,4

CCP-V2-1

11,00 %

K3 [pN, 20°C]:

16,1

PP-1-2V1

6,00 %

V0 [20°C]:

1,59

PUQU-3-F

8,50 %

γ1 [mPa·s, 20°C]:

56

Beispiel 89

CC-3-V

28,50 %

Klärpunkt [°C]:

74,6

CC-3-V1

7,00 %

Δn [589 nm, 20°C]:

0,1040

CCY-3-O2

12,50 %

Δε [1 kHz, 20°C]:

-3,0

CCY-4-O2

5,25 %

ε [1 kHz, 20°C]:

3,5

CPY-3-O2

9,75 %

ε [1 kHz, 20°C]:

6,5

CY-3-O2

15,00 %

K1 [pN, 20°C]:

13,2

CY-3-O4

4,75 %

K3 [pN, 20°C]:

15,5

CY-5-O2

1,00 %

V0 [20°C]:

2,40

PCH-301

3,25 %

γ1 [mPa·s, 20°C]:

98

PPGU-3-F

0,50 %

PYP-2-3

12,50 %

Beispiel 89a

Die Mischung aus Beispiel 89 enthält zusätzlich mit 0,001 % Irganox® 1076 (Octadecyl-3-(3,5-di-tert. butyl-4-hydroxyphenyl)-proprionat, Fa. BASF) und 0,3 % RM-1.

Beispiel 90

CC-3-V

15,00 %

Klärpunkt [°C]:

74,4

CC-3-V1

9,00 %

Δn [589 nm, 20°C]:

0,1086

CCH-23

8,00 %

Δε [1 kHz, 20°C]:

-3,2

CCH-34

7,50 %

ε [1 kHz, 20°C]:

3,5

CCY-3-O2

10,00 %

ε [1 kHz, 20°C]:

6,7

CCY-5-O2

8,00 %

K1 [pN, 20°C]:

14,3

CPY-2-O2

3,00 %

K3 [pN, 20°C]:

15,7

CPY-3-O2

8,50 %

V0 [20°C]:

2,33

CY-3-O2

7,00 %

γ1 [mPa·s, 20°C]:

102

PY-3-O2

16,00 %

PYP-2-3

8,00 %

Beispiel 90a

Die Mischung aus Beispiel 90 enthält zusätzlich mit 0,3 % RM-1.

Beispiel 91

CC-3-V

29,00 %

Klärpunkt [°C]:

103

CC-3-V1

9,00 %

Δn [589 nm, 20°C]:

0,1176

CC-3-2V1

7,00 %

Δε [1 kHz, 20°C]:

4,8

CCP-V-1

7,00 %

ε [1 kHz, 20°C]:

7,6

CCP-V2-1

7,50 %

ε [1 kHz, 20°C]:

2,9

PP-1-2V1

3,00 %

K1 [pN, 20°C]:

18,0

PGP-1-2V

4,00 %

K3 [pN, 20°C]:

19,6

PGP-2-2V

6,00 %

V0 [20°C]:

2,04

PGP-3-2V

4,00 %

γ1 [mPa·s, 20°C]:

82

CCP-30CF3

5,00 %

CCGU-3-F

4,00 %

PGUQU-4-F

3,50 %

CDUQU-3-F

3,00 %

DGUQU-4-F

4,00 %

CPGU-3-OT

4,00 %

Beispiel 91a

Die Mischung aus Beispiel 91 enthält zusätzlich 0,001 % STAB-35.

Beispiel 92

PGUQU-3-F

8,00 %

Klärpunkt [°C]:

82,5

PGUQU-4-F

9,00 %

Δn [589 nm, 20°C]:

0,2143

PGUQU-5-F

9,00 %

Δε [1 kHz, 20°C]:

65,8

PGU-2-F

7,00 %

ε [1 kHz, 20°C]:

73,4

PGU-3-F

8,00%

ε [1 kHz, 20°C]:

7,6

PGP-2-3

8,00 %

PGP-2-4

8,00 %

ME2N.F

12,00 %

ME3N.F

12,00 %

BCH-3F.F

7,00 %

BCH-5F.F

7,00 %

DPGU-4-F

5,00 %

Beispiel 93

CC-3-V

10,50 %

Klärpunkt [°C]:

100,8

CC-3-V1

5,50 %

Δn [589 nm, 20°C]:

0,0999

CCP-V-1

6,50 %

Δε [1 kHz, 20°C]:

9,1

PUQU-3-F

7,00 %

ε [1 kHz, 20°C]:

12,6

CCGU-3-F

6,00 %

ε [1 kHz, 20°C]:

3,5

APUQU-3-F

2,50 %

K1 [pN, 20°C]:

13,4

CCP-30CF3

8,00 %

K3 [pN, 20°C]:

17,0

CCP-50CF3

5,00 %

V0 [pN, 20°C]:

1,28

CCP-30CF3.F

12,00 %

γ1 [mPa·s, 20°C]:

126

CCQU-3-F

10,00 %

CCP-1 F.F.F

9,00 %

CCP-3F.F.F

11,00 %

PGP-2-2V

6,00 %

CDU-2-F

1,00 %

Beispiel 94

CY-3-O2

10,50 %

Klärpunkt [°C]:

79,7

PY-1-O4

5,00 %

Δn [589 nm, 20°C]:

0,1113

PY-3-O2

7,50 %

Δε [1 kHz, 20°C]:

-4,4

PY-4-O2

4,00 %

K1 [pN, 20°C]:

14,5

CCY-3-O1

5,50 %

K3 [pN, 20°C]:

16,7

CCY-3-O2

5,00 %

V0 [20°C]:

2,05

CCY-4-O2

4,00 %

CLY-3-O2

9,00 %

CPY-2-O2

9,00 %

CPY-3-O2

9,00 %

CC-3-V

23,50 %

CC-3-V1

7,00 %

CBC-33F

1,00 %

Beispiel 95

DU-2-N

2,50 %

Klärpunkt [°C]:

94,0

ME2N.F

8,00 %

Δn [589 nm, 20°C]:

0,2530

ME3N.F

8,00 %

Δε [1 kHz, 20°C]:

47,6

ME4N.F

16,00 %

ε [1 kHz, 20°C]:

55,7

ME5N.F

8,00 %

ε [1 kHz, 20°C]:

8,1

HP-3N.F

5,00 %

K1 [pN, 20°C]:

11,3

HP-4N.F

5,00 %

K3 [pN, 20°C]:

13,8

HP-5N.F

2,50 %

V0 [20°C]:

0,51

PTP-102

5,00 %

γ1 [mPa·s, 20°C]:

464

PPTUI-3-2

20,00 %

PPTUI-3-4

20,00 %

Beispiel 95a

Die Mischung gemäß Beispiel 95 enthält zusätzlich mit 5 % RM-41.

Beispiel 96

Beispiel 97

CCY-3-O1

7,50 %

CCY-4-O2

5,00 %

CLY-3-O2

7,00 %

CPY-2-O2

10,00 %

CPY-3-O2

8,50 %

PYP-2-3

9,00 %

CC-3-V

45,50 %

PY-1-O4

5,00 %

Y-4O-O4

2,50 %

Klärpunkt [°C]:

81

Δn [589 nm, 20°C]:

0,1054

Δε [1 kHz, 20°C]:

-2,6

ε [1 kHz, 20°C]:

3,4

ε [1 kHz, 20°C]:

6,0

γ1 [mPa·s, 20°C]:

86

K1 [pN, 20°C]:

13,3

K3 [pN, 20°C]:

15,1

V0 [20°C, V]:

2,54

Beispiel 98

Beispiel 99

APUQU-2-F

1,50 %

APUQU-3-F

5,00 %

CC-3-2V1

4,00 %

CC-3-V

36,00 %

CC-3-V1

5,00 %

CCP-V-1

13,00 %

CCP-V2-1

9,50 %

CCVC-3-V

4,00 %

CDUQU-3-F

3,00 %

DGUQU-4-F

2,00 %

PGP-1-2V

5,50 %

PGP-2-2V

7,00 %

PPGU-3-F

0,50 %

PUQU-3-F

4,00 %

Klärpunkt [°C]:

100

Δn [589 nm, 20°C]:

0,1056

Δε [1 kHz, 20°C]:

4,0

ε [1 kHz, 20°C]:

6,8

ε [1 kHz, 20°C]:

2,8

γ1 [mPa·s, 20°C]:

71

K1 [pN, 20°C]:

15,4

K3 [pN, 20°C]:

17,7

V0 [20°C, V]:

2,07

Beispiel 100

Beispiel 100a

Die Mischung gemäß Beispiel 100 enthält zusätzlich mit 0,001 % Irganox® 1076 (Octadecyl-3-(3,5-di-tert. butyl-4-hydroxyphenyl)-proprionat, Fa. BASF) und 0,45 % RM-1

Beispiel 101

CC-3-V

15,00 %

CPGP-4-3

2,00 %

CPGP-5-2

2,00 %

CPTP-301

6,00 %

DGUQU-4-F

3,00 %

PCH-301

7,00 %

PGP-2-2V

14,50 %

PGUQU-3-F

7,50 %

PGUQU-4-F

7,00 %

PGUQU-5-F

6,00 %

PP-1-2V1

12,00 %

PTP-102

6,00 %

PTP-201

6,00 %

PUQU-3-F

6,00 %

Klärpunkt [°C]:

85

Δn [589 nm, 20°C]:

0,1981

Δε [1 kHz, 20°C]:

9,9

ε [1 kHz, 20°C]:

13,6

ε [1 kHz, 20°C]:

3,7

γ1 [mPa·s, 20°C]:

123

K1 [pN, 20°C]:

15,1

K3 [pN, 20°C]:

15,1

V0 [20°C, V]:

1,29

Beispiel 102

Beispiel 102a

Die Mischung gemäß Beispiel 102 enthält zusätzlich

0,04 %

und

0,01 %

Beispiel 103

Beispiel 103a

Die Mischung gemäß Beispiel 103 enthält zusätzlich

0,04 %

und

0,01 %

Beispiel 104

Beispiel 104a

Die Mischung aus Beispiel 104 enthält zusätzlich

0,04 %

und

0,015 %

Beispiel 105

Beispiel 105a

Die Mischung gemäß Beispiel 105 enthält zusätzlich

0,04 %

und

0,02 %

Beispiel 106

Beispiel 106a

Die Mischung gemäß Beispiel 106 enthält zusätzlich

0,04 %

und

0,015 %

Beispiel 107

Beispiel 107a

Die Mischung gemäß Beispiel 107 enthält zusätzlich

0,01 %

Beispiel 108

Beispiel 109

CY-3-O2

11,00 %

CY-3-O4

18,00 %

CCY-3-O2

6,00 %

CCY-3-O3

6,00 %

CCY-4-O2

6,00 %

CCY-5-O2

6,00 %

CPY-3-O2

6,00 %

CC-4-V

3,00 %

CPTP-3-1

5,00 %

PTP-302FF

10,00 %

PTP-502FF

10,00 %

CPTP-302FF

5,00 %

CPTP-502FF

5,00 %

CCPC-33

3,00 %

Klärpunkt [°C]:

101

Δn [589 nm, 20°C]:

0,1662

Δε [1 kHz, 20°C]:

-6,1

ε [1 kHz, 20°]:

4,2

ε [1 kHz, 20°C]:

10,3

γ1 [mPa·s, 20°C]:

363

K1 [pN, 20°C]:

16,5

K3 [pN, 20°C]:

22,00

V0 [20°C, V]:

2,00

Beispiel 110

CY-3-O2

8,00 %

CY-3-O4

13,00 %

CCY-3-O2

6,50 %

CPY-2-O2

3,50 %

CPY-3-O2

8,00 %

CCH-301

5,00 %

CC-4-V

12,00 %

CC-5-V

8,00 %

CCP-V-1

13,00 %

CCP-V2-1

13,00 %

BCH-32

5,00 %

CCPC-33

5,00 %

Klärpunkt [°C]:

101

Δn [589 nm, 20°C]:

0,0970

Δε [1 kHz, 20°C]:

-2,1

ε [1 kHz, 20°C]:

3,2

ε [1 kHz, 20°C]:

5,3

γ1 [mPa·s, 20°C]:

136

K1 [pN, 20°C]:

14,8

K3 [pN, 20°C]:

18,3

V0 [20°C, V]:

3,11

Beispiel 111

CY-3-O4

12,00 %

CC-4-V

13,00 %

CC-5-V

9,50 %

CCP-V-1

10,50 %

CCP-V2-1

10,00 %

PTP-102

3,00 %

CPTP-3-1

5,00 %

CPTP-3-2

5,00 %

PTP-302FF

9,50 %

PTP-502FF

9,50 %

CPTP-302FF

6,50 %

CPTP-502FF

6,50 %

Klärpunkt [°C]:

101

Δn [589 nm, 20°C]:

0,1660

Δε [1 kHz, 20°C]:

-2,1

ε [1 kHz, 20°C]:

3,4

ε [1 kHz, 20°C]:

5,5

γ1 [mPa·s, 20°C]:

151

K1 [pN, 20°C]:

16,2

K3 [pN, 20°C]:

19,8

V0 [20°C, V]:

3,25

Beispiel 112

CY-3-O2

15,00 %

CCY-3-O1

6,00 %

CCY-3-O2

8,00 %

CCY-3-O3

5,50 %

CCY-4-O2

8,00 %

CCY-5-O2

8,00 %

CPY-2-O2

1,50 %

CPY-3-O2

10,00 %

CLY-3-O2

8,00 %

PY-3-O2

6,00 %

PY-1-O4

8,00 %

PY-4-O2

8,00 %

Y-4O-O4

8,00 %

Klärpunkt [°C]:

71,9

Δn [589 nm, 20°C]:

0,1203

Δε [1 kHz, 20°C]:

-8,1

ε [1 kHz, 20°C]:

5,2

ε [1 kHz, 20°C]:

13,3

γ1 [mPa·s, 20°C]:

253

K1 [pN, 20°C]:

13,2

K3 [pN, 20°C]:

15,7

V0 [20°C, V]:

1,46

Beispiel 113

CC-3-V1

8,00 %

CCH-23

18,00 %

CCH-34

4,00 %

CCH-35

7,00 %

CCP-3-1

5,00 %

CCY-3-O2

12,50 %

CPY-2-O2

8,00 %

CPY-3-O2

11,00 %

CY-3-O2

15,50 %

PY-3-O2

11,00 %

Klärpunkt [°C]:

75,5

Δn [589 nm, 20°C]:

0,0978

Δε [1 kHz, 20°C]:

-3,5

ε [1 kHz, 20°C]:

3,5

ε [1 kHz, 20°C]:

6,9

γ1 [mPa·s, 20°C]:

111

K1 [pN, 20°C]:

14,9

K3 [pN, 20°C]:

15,8

V0 [20°C, V]:

2,26

Beispiel 113a

Die Mischung gemäß Beispiel 113 enthält zusätzlich 0,3 % RM-1.

Beispiel 114

BCH-32

1,50 %

CC-3-V

15,50 %

CC-3-V1

11,00 %

CCH-23

12,00 %

CCH-34

3,50 %

CCY-3-O2

11,50 %

CCY-5-O2

0,50 %

CPY-2-O2

8,50 %

CPY-3-O2

12,00 %

CY-3-O2

9,50 %

PY-3-O2

11,50 %

PYP-2-3

3,00 %

Klärpunkt [°C]:

74,8

Δn [589 nm, 20°C]:

0,1035

Δε [1 kHz, 20°C]:

-3,1

ε [1 kHz, 20°C]:

3,4

ε [1 kHz, 20°C]:

6,5

γ1 [mPa·s, 20°C]:

95

K1 [pN, 20°C]:

14,1

K3 [pN, 20°C]:

15,4

V0 [20°C, V]:

2,36

Beispiel 115a

Die Mischung gemäß Beispiel 115 enthält zusätzlich 0,001 % Irganox® 1076 (Octadecyl-3-(3,5-di-tert. butyl-4-hydroxyphenyl)-proprionat, Fa. BASF) und 0,3 % RM-1.

Beispiel 116

CC-3-V

30,50 %

CC-3-V1

4,50 %

CCY-3-O1

5,00 %

CCY-3-O2

6,00 %

CCY-3-O3

4,00 %

CLY-3-O2

8,00 %

CPY-2-O2

8,00 %

CPY-3-O2

11,00 %

CY-3-O2

15,00 %

PY-3-O2

8,00 %

Klärpunkt [°C]:

79,8

Δn [589 nm, 20°C]:

0,1022

Δε [1 kHz, 20°C]:

-4,0

ε [1 kHz, 20°C]:

3,6

ε [1 kHz, 20°C]:

7,6

γ1 [mPa·s, 20°C]:

114

K1 [pN, 20°C]:

14,5

K3 [pN, 20°C]:

16,7

V0 [20°C, V]:

2,14

Beispiel 117

CY-3-O2

15,00 %

CY-5-O2

12,50 %

CCY-3-O1

2,50 %

CCY-4-O2

5,00 %

CPY-2-O2

8,00 %

CPY-3-O2

8,00 %

CCY-2-1

6,00 %

CCY-3-1

6,00 %

CCH-23

15,00 %

CCH-34

5,00 %

CCH-301

1,50 %

BCH-32

15,50 %

Klärpunkt [°C]:

80,4

Δn [589 nm, 20°C]:

0,1038

Δε [1 kHz, 20°C]:

-3,3

ε [1 kHz, 20°C]:

3,5

ε [1 kHz, 20°C]:

6,8

γ1 [mPa·s, 20°C]:

137

K1 [pN, 20°C]:

14,2

K3 [pN, 20°C]:

14,2

V0 [20°C, V]:

2,18

Beispiel 118

CY-3-O2

15,00 %

CY-3-O4

4,00 %

CY-5-O2

6,50 %

CCY-3-O1

5,00 %

CCY-3-O3

2,00 %

CCY-4-O2

6,00 %

CPY-2-O2

7,00 %

CPY-3-O2

7,00 %

CCY-2-1

6,00 %

CCY-3-1

6,00 %

CCH-23

15,50 %

CCH-34

5,00 %

BCH-32

13,00 %

PP-1-4

2,00 %

Klärpunkt [°C]:

80,5

Δn [589 nm, 20°C]:

0,1025

Δε [1 kHz, 20°C]:

-3,4

ε [1 kHz, 20°C]:

3,5

ε [1 kHz, 20°C]:

6,9

γ1 [mPa·s, 20°C]:

141

K1 [pN, 20°C]:

14,0

K3 [pN, 20°C]:

14,1

V0 [20°C, V]:

2,16

Beispiel 119

PGUQU-3-F

4,00 %

CCQU-3-F

7,50 %

PUQU-3-F

15,50 %

APUQU-2-F

4,00 %

APUQU-3-F

7,50 %

CC-3-V

27,50 %

CCP-3-V1

6,00 %

CCP-V-1

13,00 %

CCP-V2-1

10,00 %

PPGU-3-F

0,50 %

BCH-3F.F

4,50 %

Klärpunkt [°C]:

85,4

Δn [589 nm, 20°C]:

0,1028

Δε [1 kHz, 20°C]:

9,9

ε [1 kHz, 20°C]:

13,3

ε [1 kHz, 20°C]:

3,4

γ1 [mPa·s, 20°C]:

82

K1 [pN, 20°C]:

12,6

K3 [pN, 20°C]:

15,3

V0 [20°C, V]:

1,19

Beispiel 119a

Die Mischung gemäß Beispiel 119 enthält zusätzlich

0,01 %

Beispiel 120

CC-3-V

30,50 %

CC-3-V1

4,50 %

CCY-3-O1

6,00 %

CCY-3-O2

8,00 %

CLY-3-O2

8,00 %

CPY-2-O2

8,00 %

CPY-3-O2

12,00 %

CY-3-O2

15,00 %

PY-3-O2

8,00 %

Klärpunkt [°C]:

80,1

Δn [589 nm, 20°C]:

0,1033

Δε [1 kHz, 20°C]:

-4,0

ε [1 kHz, 20°C]:

3,6

ε [1 kHz, 20°C]:

7,6

γ1 [mPa·s, 20°C]:

113

K1 [pN, 20°C]:

14,4

K3 [pN, 20°C]:

17,0

V0 [20°C, V]:

2,16

Beispiel 120a

Die Mischung aus Beispiel 120 enthält zusätzlich

0,3 %

Beispiel 121

CC-3-V

28,50 %

CC-3-V1

7,00 %

CCY-3-O2

12,50 %

CCY-4-O2

5,25 %

CPY-3-O2

9,75 %

CY-3-O2

15,00 %

CY-3-O4

4,75 %

CY-5-O2

1,00 %

PCH-301

3,25 %

PPGU-3-F

0,50 %

PYP-2-3

12,50 %

Klärpunkt [°C]:

74,6

Δn [589 nm, 20°C]:

0,1040

Δε [1 kHz, 20°C]:

-3,0

ε [1 kHz, 20°C]:

3,5

ε [1 kHz, 20°C]:

6,5

γ1 [mPa·s, 20°C]:

98

K1 [pN, 20°C]:

13,2

K3 [pN, 20°C]:

15,5

V0 [20°C, V]:

2,4

Beispiel 121a

Die Mischung aus Beispiel 121 enthält zusätzlich mit 0,001 % Irganox® 1076 (Octadecyl-3-(3,5-di-tert. butyl-4-hydroxyphenyl)-proprionat, Fa. BASF) und 0,45 % RM-1.

Beispiel 122

Beispiel 123

BCH-32

4,50 %

CCH-23

14,00 %

CCH-301

7,00 %

CCH-34

9,00 %

CCH-35

5,50 %

CCP-3-1

10,00 %

CY-3-O2

5,00 %

CY-V-O2

7,00 %

CCY-3-O1

5,00 %

CCY-3-O2

9,00 %

CPY-V-O2

10,00 %

PCH-302

5,00 %

PY-V2-O2

9,00 %

Klärpunkt [°C]:

75,5

Δn [589 nm, 20°C]:

0,0938

Δε [1 kHz, 20°C]:

-2,5

ε [1 kHz, 20°C]:

3,3

ε [1 kHz, 20°C]:

5,8

γ1 [mPa·s, 20°C]:

89

K1 [pN, 20°C]:

13,5

K3 [pN, 20°C]:

14,5

V0 [20°C, V]:

2,54

Beispiel 124

BCH-32

1,50 %

CC-3-V

37,00 %

CCP-3-1

8,00 %

CY-3-O2

15,00 %

CCY-3-O1

7,00 %

CCY-3-O2

9,50 %

CPY-3-O2

8,50 %

PCH-302

5,50 %

PY-V-O2

8,00 %

Klärpunkt [°C]:

75

Δn [589 nm, 20°C]:

0,0960

Δε [1 kHz, 20°C]:

-2,6

ε [1 kHz, 20°C]:

3,4

ε [1 kHz, 20°C]:

6,0

γ1 [mPa·s, 20°C]:

79

K1 [pN, 20°C]:

13,0

K3 [pN, 20°C]:

16,0

V0 [20°C, V]:

2,6

Beispiel 125

BCH-32

1,00 %

CC-3-V

41,00 %

CCP-3-1

8,50 %

CY-3-O2

13,00 %

CCY-3-O1

6,50 %

CCY-3-O2

8,50 %

CPY-3-O2

6,00 %

PCH-302

7,00 %

PY-1V-O2

8,50 %

Klärpunkt [°C]:

75

Δn [589 nm, 20°C]:

0,0948

Δε [1 kHz, 20°C]:

-2,3

ε [1 kHz, 20°C]:

3,2

ε [1 kHz, 20°C]:

5,5

γ1 [mPa·s, 20°C]:

70

K1 [pN, 20°C]:

13,4

K3 [pN, 20°C]:

16,5

V0 [20°C, V]:

2,84

Beispiel 126

PY-3-O2

7,50 %

PY-1V-O2

4,00 %

CY-3-O2

14,50 %

CCY-3-O1

3,00 %

CCY-3-O2

9,00 %

CPY-2-O2

7,50 %

CPY-3-O2

9,00 %

CC-3-V

37,00 %

BCH-32

8,00 %

PPGU-3-F

0,50 %

Klärpunkt [°C]:

74

Δn [589 nm, 20°C]:

0,1094

Δε [1 kHz, 20°C]:

-3,0

ε [1 kHz, 20°C]:

3,6

ε [1 kHz, 20°C]:

6,6

γ1 [mPa·s, 20°C]:

85

K1 [pN, 20°C]:

12,9

K3 [pN, 20°C]:

14,6

V0 [20°C, V]:

2,34

Beispiel 127

Beispiel 128

PY-V2-O2

12,00 %

CY-V-O2

9,00 %

CCY-3-O1

9,00 %

CCY-V2-O2

8,00 %

CPY-2-O2

8,00 %

CPY-V-O2

10,50 %

CC-3-V

36,50 %

BCH-32

6,50 %

PPGU-3-F

0,50 %

Klärpunkt [°C]:

76

Δn [589 nm, 20°C]:

0,1087

Δε [1 kHz, 20°C]:

-3,1

ε [1 kHz, 20°C]:

3,7

ε [1 kHz, 20°C]:

6,9

γ1 [mPa·s, 20°C]:

83

K1 [pN, 20°C]:

12,4

K3 [pN, 20°C]:

14,7

V0 [20°C, V]:

2,28

Beispiel 129

PY-V2-O2

11,50 %

CY-3-O2

11,00 %

CCY-3-O1

9,00 %

CCY-3-O2

4,00 %

CPY-2-O2

12,00 %

CPY-3-O2

9,00 %

CC-3-V

37,00 %

BCH-32

6,00 %

PPGU-3-F

0,50 %

Klärpunkt [°C]:

75,5

Δn [589 nm, 20°C]:

0,1074

Δε [1 kHz, 20°C]:

-3,1

ε [1 kHz, 20°C]:

3,7

ε [1 kHz, 20°C]:

6,8

γ1 [mPa·s, 20°C]:

87

K1 [pN, 20°C]:

13,0

K3 [pN, 20°C]:

14,7

V0 [20°C, V]:

2,29

Beispiel 130

PY-1V-O2

10,50 %

CY-3-O2

18,00 %

CCY-3-O1

7,00 %

CCY-3-O2

5,00 %

CPY-2-O2

7,00 %

CPY-3-O2

8,00 %

CC-3-V

41,00 %

BCH-32

3,00 %

PPGU-3-F

0,50 %

Klärpunkt [°C]:

72

Δn [589 nm, 20°C]:

0,1068

Δε [1 kHz, 20°C]:

-3,1

ε [1 kHz, 20°C]:

3,6

ε [1 kHz, 20°C]:

6,7

γ1 [mPa·s, 20°C]:

78

K1 [pN, 20°C]:

12,6

K3 [pN, 20°C]:

14,6

V0 [20°C, V]:

2,30

Beispiel 131

PY-V2-O2

10,50 %

CY-3-O2

10,00 %

CCY-3-O1

6,00 %

CCY-3-O2

9,00 %

CPY-2-O2

8,00 %

CPY-3-O2

12,00 %

CC-3-V

35,00 %

BCH-32

6,50 %

PPGU-3-F

0,50 %

Y-4O-O4

2,50 %

Klärpunkt [°C]:

75

Δn [589 nm, 20°C]:

0,1070

Δε [1 kHz, 20°C]:

-3,3

ε [1 kHz, 20°C]:

3,7

ε [1 kHz, 20°C]:

7,0

γ1 [mPa·s, 20°C]:

90

K1 [pN, 20°C]:

12,7

K3 [pN, 20°C]:

14,5

V0 [20°C, V]:

2,23

LTS (bulk) [-20°C]:

> 1000 h

LTS (bulk) [-30°C]:

> 1000 h

Beispiel 132

Beispiel 133

PY-V2-O2

11,50 %

CY-3-O2

10,00 %

CCY-3-O1

4,50 %

CCY-3-O2

11,00 %

CPY-2-O2

7,00 %

CPY-3-O2

12,50 %

CC-3-V

34,50 %

BCH-32

6,00 %

PPGU-3-F

0,50 %

Y-4O-O4

2,50 %

Klärpunkt [°C]:

74,5

Δn [589 nm, 20°C]:

0,1071

Δε [1 kHz, 20°C]:

-3,4

ε [1 kHz, 20°C]:

3,8

ε [1 kHz, 20°C]:

7,1

γ1 [mPa·s, 20°C]:

91

K1 [pN, 20°C]:

12,7

K3 [pN, 20°C]:

14,6

V0 [20°C, V]:

2,2

Beispiel 134

PY-V2-O2

14,00 %

CY-3-O2

10,50 %

CCY-3-O1

5,00 %

CCY-3-O2

10,00 %

CPY-2-O2

9,00 %

CPY-3-O2

12,00 %

CC-3-V

36,50 %

BCH-32

2,50 %

PPGU-3-F

0,50 %

Klärpunkt [°C]:

74,5

Δn [589 nm, 20°C]:

0,1075

Δε [1 kHz, 20°C]:

-3,2

ε [1 kHz, 20°C]

3,6

ε [1 kHz, 20°C]:

6,8

γ1 [mPa·s, 20°C]:

90

K1 [pN, 20°C]:

11,7

K3 [pN, 20°C]:

14,1

V0 [20°C, V]:

2,21

Beispiel 135

PY-3V-O2

10,50 %

CY-3-O2

15,00 %

CCY-3-O1

7,50 %

CCY-3-O2

4,00 %

CPY-2-O2

11,00 %

CPY-3-O2

8,00 %

CC-3-V

40,50 %

BCH-32

3,00 %

PPGU-3-F

0,50 %

Klärpunkt [°C]:

74,5

Δn [589 nm, 20°C]:

0,1073

Δε [1 kHz, 20°C]:

-3,0

ε [1 kHz, 20°C]:

3,6

ε [1 kHz, 20°C]:

6,6

γ1 [mPa·s, 20°C]:

84

K1 [pN, 20°C]:

12,8

K3 [pN, 20°C]:

14,1

V0 [20°C, V]:

2,29

Beispiel 136

CC-3-V

36,50 %

CY-3-O2

10,00 %

CCY-3-O1

6,50 %

CCY-3-O2

11,00 %

CCY-4-O2

6,00 %

CPY-3-O2

8,50 %

PY-3-O2

4,00 %

PY-3V-O2

6,50 %

PY-1-O4

4,50 %

PYP-2-3

3,00 %

PP-1-2V1

3,50 %

Klärpunkt [°C]:

73

Δn [589 nm, 20°C]:

0,1081

Δε [1 kHz, 20°C]:

-3,3

ε kHz, 20°C]:

3,5

ε [1 kHz, 20°C]:

6,8

γ1 [mPa·s, 20°C]:

90

K1 [pN, 20°C]:

13,2

K3 [pN, 20°C]:

15,0

V0 [20°C, V]:

2,25

Beispiel 137

Beispiel 138

PY-V-O2

5,00 %

PY-V2-O2

5,00 %

PY-3-O2

3,00 %

CY-V-O2

4,00 %

CY-3-O2

3,00 %

CCY-3-O1

3,50 %

CCY-3-O2

7,00 %

CCY-4-O2

5,00 %

CPY-2-O2

8,00 %

CPY-3-O2

10,00 %

CC-3-V

38,00 %

BCH-32

6,00 %

PPGU-3-F

0,50 %

Y-4O-O4

2,00 %

Klärpunkt [°C]:

75

Δn [589 nm, 20°C]:

0,1087

Δε [1 kHz, 20°C]:

-3,1

ε [1 kHz, 20°C]:

3,7

ε [1 kHz, 20°C]:

6,8

γ1 [mPa·s, 20°C]:

83

K1 [pN, 20°C]:

12,6

K3 [pN, 20°C]:

14,2

V0 [20°C, V]:

2,28

LTS (bulk) [-20°C]:

> 1000 h

Beispiel 139

Beispiel 140

PY-V-O2

5,50 %

PY-3-O2

4,50 %

CY-3-O2

11,00 %

CCY-3-O2

10,50 %

CPY-2-O2

10,00 %

CPY-3-O2

11,00 %

CC-3-V

37,00 %

BCH-32

8,00 %

PPGU-3-F

0,50 %

Y-4O-O4

2,00 %

Klärpunkt [°C]:

74,5

Δn [589 nm, 20°C]:

0,1098

Δε [1 kHz, 20°C]:

-3,0

ε [1 kHz, 20°C]:

3,7

ε [1 kHz, 20°C]:

6,7

γ1 [mPa·s, 20°C]:

85

K1 [pN, 20°C]:

12,9

K3 [pN, 20°C]:

14,5

V0 [20°C, V]:

2,31

LTS (bulk) [-20°C]:

> 1000 h

LTS (bulk) [-30°C]:

> 1000 h

Beispiel 141

PY-3-O2

6,00 %

PY-V2-O2

6,00 %

CY-3-O2

12,00 %

CCY-3-O1

4,00 %

CCY-3-O2

9,50 %

CPY-2-O2

9,50 %

CPY-3-O2

10,00 %

CC-3-V

35,50 %

BCH-32

7,00 %

PPGU-3-F

0,50 %

Klärpunkt [°C]:

75

Δn [589 nm, 20°C]:

0,1079

Δε [1 kHz, 20°C]:

-3,2

ε [1 kHz, 20°C]:

3,7

ε [1 kHz, 20°C]:

6,9

γ1 [mPa·s, 20°C]:

91

K1 [pN, 20°C]:

13,1

K3 [pN, 20°C]:

14,9

V0 [20°C, V]:

2,29

LTS (bulk) [-20°C]:

> 1000 h

LTS (bulk) [-30°C]:

> 1000 h

Beispiel 142

PY-3-O2

6,00 %

PY-1V2-O2

6,50 %

CY-3-O2

13,00 %

CCY-3-O2

12,00 %

CPY-2-O2

8,00 %

CPY-3-O2

12,00 %

CC-3-V

36,00 %

BCH-32

6,00 %

PPGU-3-F

0,50 %

Klärpunkt [°C]:

75

Δn [589 nm, 20°C]:

0,1088

Δε [1 kHz, 20°C]:

-3,3

ε [1 kHz, 20°C]:

3,7

ε [1 kHz, 20°C]:

6,9

γ1 [mPa·s, 20°C]:

93

K1 [pN, 20°C]:

13,5

K3 [pN, 20°C]:

15,6

V0 [20°C, V]:

2,32

Beispiel 143

PY-3-O2

4,50 %

PY-V2-O2

6,00 %

CY-3-O2

10,00 %

CCY-3-O1

2,00 %

CCY-3-O2

11,00 %

CPY-2-O2

8,00 %

CPY-3-O2

12,00 %

CC-3-V

36,00 %

BCH-32

8,00 %

PPGU-3-F

0,50 %

Y-4O-O4

2,00 %

Klärpunkt [°C]:

75

Δn [589 nm, 20°C]:

0,1078

Δε [1 kHz, 20°C]:

-3,1

ε [1 kHz, 20°C]:

3,7

ε [1 kHz, 20°C]:

6,8

γ1 [mPa·s, 20°C]:

88

K1 [pN, 20°C]:

13,0

K3 [pN, 20°C]:

14,8

V0 [20°C, V]:

2,31

LTS (bulk) [-30°C]

> 1000 h

Beispiel 143a

Die Mischung gemäß Beispiel 143 enthält zusätzlich

0,01 %

Beispiel 144

BCH-32

6,00 %

CCH-23

16,00 %

CCH-301

3,50 %

CCH-34

6,00 %

CCH-35

6,00 %

CCP-3-1

12,00 %

CY-3-O2

15,00 %

CCY-3-O1

5,00 %

CCY-3-O2

7,00 %

CPY-3-O2

8,50 %

PCH-302

6,00 %

PY-V2-O2

9,00 %

Klärpunkt [°C]:

77

Δn [589 nm, 20°C]:

0,0953

Δε [1 kHz, 20°C]:

-2,5

ε [1 kHz, 20°C]:

3,3

ε [1 kHz, 20°C]:

5,8

γ1 [mPa·s, 20°C]:

96

K1 [pN, 20°C]:

14,6

K3 [pN, 20°C]:

15,6

V0 [20°C, V]:

2,66

LTS (bulk) [-20°C]

> 1000 h

LTS (bulk) [-30°C]

> 1000 h

Beispiel 145

Beispiel 146

BCH-32

6,50 %

CCH-23

16,00 %

CCH-301

4,50 %

CCH-34

8,00 %

CCH-35

6,00 %

CCP-3-1

8,50 %

CY-3-O2

15,00 %

CCY-3-O1

5,50 %

CCY-3-O2

8,00 %

CPY-3-O2

9,00 %

PCH-302

4,50 %

PY-V2-O2

8,50 %

Klärpunkt [°C]:

76,5

Δn [589 nm, 20°C]:

0,0933

Δε [1 kHz, 20°C]:

-2,5

ε [1 kHz, 20°C]:

3,3

ε [1 kHz, 20°C]:

5,8

γ1 [mPa·s, 20°C]:

96

K1 [pN, 20°C]:

14,3

K3 [pN, 20°C]:

15,0

V0 [20°C, V]:

2,57

Beispiel 147

Beispiel 148

BCH-32

7,00 %

CCH-23

16,00 %

CCH-301

3,50 %

CCH-34

6,50 %

CCH-35

6,50 %

CCP-3-1

9,50 %

CY-3-O2

7,50 %

CY-V1-O2

7,00 %

CCY-3-O1

6,00 %

CCY-3-O2

9,00 %

CPY-3-O2

7,00 %

PCH-302

5,00 %

PY-V2-O2

9,50 %

Klärpunkt [°C]:

75

Δn [589 nm, 20°C]:

0,0930

Δε [1 kHz, 20°C]:

-2,5

ε [1 kHz, 20°C]:

3,3

ε [1 kHz, 20°C]:

5,8

γ1 [mPa·s, 20°C]:

93

K1 [pN, 20°C]:

13,7

K3 [N, 20°C]:

14,1

V0 [20°C, V]:

2,52

LTS (bulk) [-20°C]

> 1000 h

Beispiel 149

BCH-32

7,00 %

CCH-23

15,00 %

CCH-301

4,00 %

CCH-34

8,00 %

CCH-35

7,00 %

CCP-3-1

8,00 %

CY-3-O2

9,00 %

CY-V1-O2

7,00 %

CCY-3-O1

9,00 %

CCY-3-O2

7,00 %

CPY-1V-O1

7,00 %

PCH-302

4,00 %

PY-V2-O2

8,00 %

Klärpunkt [°C]:

74

Δn [589 nm, 20°C]:

0,0921

Δε [1 kHz, 20°C]:

-2,5

ε [1 kHz, 20°C]:

3,4

ε [1 kHz, 20°C]:

5,9

γ1 [mPa·s, 20°C]:

95

K1 [pN, 20°C]:

13,4

K3 [pN, 20°C]:

14,1

V0 [20°C, V]:

2,49

Beispiel 150

BCH-32

7,00 %

CCH-23

13,00 %

CCH-301

3,00 %

CCH-34

10,00 %

CCH-35

6,00 %

CCP-3-1

10,50 %

CY-3-O2

8,50 %

CY-V1-O2

5,50 %

CCY-3-O1

10,00 %

CCY-3-O2

6,00 %

CPY-1V-O1

5,50 %

PCH-302

6,00 %

PY-V2-O2

9,00 %

Klärpunkt [°C]:

77

Δn [589 nm, 20°C]:

0,0935

Δε [1 kHz, 20°C]:

-2,4

ε [1 kHz, 20°C]:

3,3

ε [1 kHz, 20°C]:

5,7

γ1 [mPa·s, 20°C]:

97

K1 [pN, 20°C]:

14,1

K3 [pN, 20°C]:

14,6

V0 [20°C, V]:

2,62

Beispiel 151

CY-3-O2

9,50 %

PY-V-O2

9,50 %

CCY-3-O2

9,00 %

CCY-4-O2

6,00 %

CPY-2-O2

5,00 %

CPY-3-O2

9,50 %

CCH-34

10,00 %

CCH-23

21,00 %

PYP-2-3

7,00 %

CCP-3-1

3,00 %

PCH-301

10,50 %

Klärpunkt [°C]:

75

Δn [589 nm, 20°C]:

0,1101

Δε [1 kHz, 20°C]:

-3,0

ε [1 kHz, 20°C]:

3,5

ε [1 kHz, 20°C]:

6,5

γ1 [mPa·s, 20°C]:

100

K1 [pN, 20°C]:

13,4

K3 [pN, 20°C]:

14,3

V0 [20°C, V]:

2,31

Beispiel 152

Beispiel 153

CY-3-O2

10,00 %

PY-V-O2

9,00 %

CCY-3-O2

9,00 %

CCY-4-O2

7,00 %

CPY-2-O2

7,00 %

CPY-3-O2

9,00 %

CCH-34

11,00 %

CCH-23

20,00 %

PYP-2-3

7,00 %

CCP-3-1

1,00 %

PCH-301

10,00 %

Klärpunkt [°C]:

75

Δn [589 nm, 20°C]:

0,1099

Δε [1 kHz, 20°C]:

-3,2

ε [1 kHz, 20°C]:

3,5

ε [1 kHz, 20°C]:

6,7

γ1 [mPa·s, 20°C]:

104

K1 [pN, 20°C]:

13,2

K3 [pN, 20°C]:

14,1

V0 [20°C, V]:

2,24

Beispiel 154

Beispiel 155

PY-3-O2

12,00 %

PY-V-O2

5,00 %

CCY-3-O2

10,00 %

CCY-4-O2

9,50 %

CPY-2-O2

6,00 %

CPY-3-O2

9,00 %

CCH-34

5,50 %

CCH-23

21,00 %

PYP-2-3

4,50 %

CCH-35

4,00 %

PCH-301

12,00 %

BCH-32

1,50 %

Klärpunkt [°C]:

75

Δn [589 nm, 20°C]:

0,1112

Δε [1 kHz, 20°C]:

-3,1

ε [1 kHz, 20°C]:

3,5

ε [1 kHz, 20°C]:

6,6

γ1 [mPa·s, 20°C]:

107

K1 [pN, 20°C]:

13,7

K3 [pN, 20°C]:

14,4

V0 [20°C, V]:

2,29

Beispiel 156

Beispiel 157

PY-3-O2

5,00 %

PY-V2-O2

6,50 %

CY-3-O2

12,00 %

CCY-3-O1

5,00 %

CCY-3-O2

10,00 %

CPY-V-O2

9,00 %

CPY-V-O4

10,00 %

CC-3-V

35,00 %

BCH-32

7,00 %

PPGU-3-F

0,50 %

Klärpunkt [°C]:

76

Δn [589 nm, 20°C]:

0,1082

Δε [1 kHz, 20°C]:

-3,2

ε [1 kHz, 20°C]:

3,7

ε [1 kHz, 20°C]:

6,9

γ1 [mPa·s, 20°C]:

89

K1 [pN, 20°C]:

12,6

K3 [pN, 20°C]:

14,6

V0 [20°C, V]:

2,26

Beispiel 157a

Die Mischung gemäß Beispiel 157 enthält zusätzlich

0,01 %

Beispiel 157b

Die Mischung gemäß Beispiel 157 enthält zusätzlich

0,01 %

Beispiel 158

PY-V-O2

5,00 %

PY-V2-O2

5,00 %

PY-3-O2

3,00 %

CY-V-O2

4,00 %

CY-3-O2

3,00 %

CCY-3-O1

3,00 %

CCY-3-O2

6,00 %

CCY-4-O2

5,00 %

CPY-2-O2

7,50 %

CPY-3-O2

10,00 %

CC-3-V

39,00 %

BCH-32

7,00 %

PPGU-3-F

0,50 %

Y-4O-O4

2,00 %

Klärpunkt [°C]:

73,5

Δn [589 nm, 20°C]:

0,1074

Δε [1 kHz, 20°C]:

-2,9

ε [1 kHz, 20°C]:

3,7

ε [1 kHz, 20°C]:

6,6

γ1 [mPa·s, 20°C]:

78

K1 [pN, 20°C]:

12,5

K3 [pN, 20°C]:

14,0

V0 [20°C, V]:

2,33

Beispiel 159

Beispiel 160

APUQU-2-F

9,00 %

APUQU-3-F

8,50 %

CC-3-V

43,50 %

CCP-30CF3

7,50 %

CCP-V-1

7,00 %

DPGU-4-F

3,50 %

PGP-2-2V

4,00 %

PGUQU-4-F

4,50 %

PUQU-3-F

8,50 %

PY-3V-O2

4,00 %

Klärpunkt [°C]:

77,5

Δn [589 nm, 20°C]:

0,1087

Δε [1 kHz, 20°C]:

9,9

ε [1 kHz, 20°C]:

13,7

ε [1 kHz, 20°C]:

3,8

γ1 [mPa·s, 20°C]:

68

K1 [pN, 20°C]:

12,4

K3 [pN, 20°C]:

13,1

V0 [20°C, V]:

1,18

LTS (bulk) [-20°C]:

> 1000 h

LTS (bulk [-30°C]:

> 1000 h

Beispiel 161

PY-1V-O2

4,50 %

PY-V2-O2

5,00 %

CY-3-O2

10,00 %

CY-V-O2

4,50 %

CCY-3-O1

6,00 %

CCY-3-O2

3,00 %

CPY-2-O2

9,00 %

CPY-3-O2

10,00 %

CC-3-V

39,50 %

BCH-32

8,00 %

PPGU-3-F

0,50 %

Klärpunkt [°C]:

73,5

Δn [589 nm, 20°C]:

0,1074

Δε [1 kHz, 20°C]:

-2,8

ε∥ [1 kHz, 20°C]:

3,6

ε [1 kHz, 20°C]:

6,4

γ1 [mPa·s, 20°C]:

78

K1 [pN, 20°C]:

12,5

K3 [pN, 20°C]:

14,3

V0 [20°C, V]:

2,40

Beispiel 162

PY-V2-O2

5,50 %

PY-3-O2

6,00 %

CY-V2-O2

5,00 %

CY-3-O2

4,00 %

CCY-3-O1

3,00 %

CCY-3-O2

3,00 %

CCY-4-O2

6,00 %

CPY-2-O2

8,00 %

CPY-3-O2

12,00 %

CC-3-V

36,50 %

BCH-32

8,50 %

PPGU-3-F

0,50 %

Y-4O-O4

2,00 %

Klärpunkt [°C]:

74

Δn [589 nm, 20°C]:

0,1074

εΔ [1 kHz, 20°C]:

-2,9

ε [1 kHz, 20°C]:

3,7

ε [1 kHz, 20°C]:

6,6

γ1 [mPa·s, 20°C]:

85

K1 [pN, 20°C]:

12,6

K3 [pN, 20°C]:

13,9

V0 120°C, V]:

2,30

Beispiel 163

PY-V2-O2

6,00 %

PY-3-O2

6,00 %

CY-1V2-O2

4,50 %

CY-3-O2

4,00 %

CCY-3-O1

3,00 %

CCY-3-O2

3,00 %

CCY-4-O2

6,00 %

CPY-2-O2

8,00 %

CPY-3-O2

12,00 %

CC-3-V

37,00 %

BCH-32

8,00 %

PPGU-3-F

0,50 %

Y-4O-O4

2,00 %

Klärpunkt [°C]:

74,5

Δn [589 nm, 20°C]:

0,1086

Δε [1 kHz, 20°C]:

-2,9

ε [1 kHz, 20°C]:

3,6

ε [1 kHz, 20°C]:

6,5

γ1 [mPa·s, 20°C]:

86

K1 [pN, 20°C]:

12,8

K3 [pN, 20°C]:

14,2

V0 [20°C, V]:

2,33

Beispiel 164

PY-V2-O2

6,50 %

CY-3-O2

11,00 %

CY-V2-O2

6,50 %

CCY-3-O1

6,00 %

CCY-3-O2

2,00 %

CPY-2-O2

10,00 %

CPY-3-O2

12,00 %

CC-3-V

36,00 %

BCH-32

9,50 %

PPGU-3-F

0,50 %

Klärpunkt [°C]:

74

Δn [589 nm, 20°C]:

0,1068

Δε [1 kHz, 20°C]:

-2,8

ε [1 kHz, 20°C]:

3,6

ε [1 kHz, 20°C]:

6,4

γ1 [mPa·s, 20°C]:

85

K1 [pN, 20°C]:

12,3

K3 [pN, 20°C]:

14,1

V0 [20°C, V]:

2,35

Beispiel 165

PCH-504FF

10,00 %

PCH-502FF

8,00 %

PCH-304FF

4,00 %

CCP-V2-1

6,00 %

BCH-32

7,00 %

CCH-35

5,00 %

CC-5-V

7,00 %

CC-3-V1

10,00 %

CPY-2-O2

10,00 %

CPY-3-O2

13,00 %

PY-V2-O2

20,00 %

Klärpunkt [°C]:

72

Δn [589 nm, 20°C]:

0,1216

Δε [1 kHz, 20°C]:

-4,0

ε [1 kHz, 20°C]:

3,9

ε [1 kHz, 20°C]:

7,9

γ1 [mPa·s, 20°C]:

125

K1 [pN, 20°C]:

14,6

K3 [pN, 20°C]:

14,7

V0 [20°C, V]:

2,03

Beispiel 166

Beispiel 167

CY-3-O2

18,00 %

PY-1V2-O2

6,00 %

CCY-3-O2

8,00 %

CCY-4-O2

4,00 %

CPY-2-O2

7,00 %

CPY-3-O2

10,00 %

CCH-34

8,00 %

CCH-23

22,00 %

CCP-3-3

7,00 %

CCP-3-1

7,00 %

PCH-301

3,00 %

Klärpunkt [°C]:

80,5

Δn [589 nm, 20°C]:

0,0949

Δε [1 kHz, 20°C]:

-3,1

ε [1 kHz, 20°C]:

3,4

ε [1 kHz, 20°C]:

6,4

γ1 [mPa·s, 20°C]:

113

K1 [pN, 20°C]:

14,9

K3 [pN, 20°C]:

16,0

V0 [20°C, V]:

2,41

LTS (bulk) [-20°C]:

> 1000 h

Beispiel 168

Beispiel 169

CY-1V-O1V

20,00 %

PY-1V2-O2

5,00 %

CY-3-O2

7,00 %

CCY-3-O2

6,00 %

CCY-3-O1

6,00 %

CPY-3-O2

8,00 %

CCH-34

10,00 %

CC-3-V1

11,00 %

CC-2-V1

11,00 %

CCP-3-1

8,00 %

PCH-301

2,00 %

CCVC-3-V

6,00 %

Klärpunkt [°C]:

81

Δn [589 nm, 20°C]:

0,0953

Δε [1 kHz, 20°C]:

-3,0

ε [1 kHz, 20°C]:

3,4

ε [1 kHz, 20°C]:

6,4

γ1 [mPa·s, 20°C]:

106

K1 [pN, 20°C]:

14,5

K3 [pN, 20°C]:

18,6

V0 [20°C, V]:

2,63

LTS (bulk) [-20°C]:

> 1000 h

Beispiel 170

Beispiel 171

CY-1V-O1V

20,00 %

PY-1V2-O2

5,00 %

CY-3-O2

12,00 %

CCY-3-O2

6,00 %

CCY-4-O2

6,00 %

CPY-3-O2

8,00 %

CCH-34

7,00 %

CC-3-V1

11,00 %

CC-2-V1

11,00 %

CCP-3-1

6,00 %

CCVC-3-V

8,00 %

Klärpunkt [°C]:

80,5

Δn [589 nm, 20°C]:

0,0962

Δε [1 kHz, 20°C]:

-3,4

ε [1 kHz, 20°C]:

3,5

ε [1 kHz, 20°C]:

6,9

γ1 [mPa·s, 20°C]:

112

K1 [pN, 20°C]:

14,3

K3 [pN, 20°C]:

18,5

V0 [20°C, V]:

2,45

Beispiel 172

CY-1V-O1V

20,00 %

PY-1V2-O2

7,00 %

CY-3-O2

7,50 %

CCY-3-O2

10,50 %

CCY-4-O2

10,00 %

CC-3-V2

11,00 %

CC-3-V1

11,00 %

CC-2-V1

11,00 %

CCP-3-1

6,00 %

CCVC-3-V

6,00 %

Klärpunkt [°C]:

81,5

Δn [589 nm, 20°C]:

0,0932

Δε [1 kHz, 20°C]:

-3,3

ε [1 kHz, 20°C]:

3,4

ε [1 kHz, 20°C]:

6,7

γ1 [mPa·s, 20°C]:

104

K1 [pN, 20°C]:

14,9

K3 [pN, 20°C]:

19,0

V0 [20°C, V]:

2,55

LTS (bulk) [-20°C]

> 1000 h

Beispiel 173

CY-3-O2

12,00 %

PY-1V2-O2

11,00 %

CCY-3-O2

10,00 %

CCY-4-O2

10,00 %

CPY-3-O2

10,00 %

CCH-34

8,00 %

CCH-23

22,00 %

CCP-3-3

3,00 %

CCP-3-1

7,00 %

PCH-301

7,00 %

Klärpunkt [°C]:

80,0

Δn [589 nm, 20°C]:

0,0950

Δε [1 kHz, 20°C]:

-3,1

ε [1 kHz, 20°C]:

3,3

ε [1 kHz, 20°C]:

6,4

γ1 [mPa·s, 20°C]:

111

K1 [pN, 20°C];

15,1

K3 [pN, 20°C]:

16,6

V0 [20°C, V]:

2,46

LTS (bulk) [-20°C]

> 1000 h

Beispiel 174

CY-1V-O1V

18,00 %

PY-1V2-O2

4,00 %

CY-3-O2

15,00 %

CCY-3-O2

8,00 %

CCY-4-O2

7,00 %

CPY-3-O2

7,00 %

CCH-34

7,00 %

CC-3-V1

11,00 %

CC-2-V1

11,00 %

CCP-3-1

3,00 %

CCVC-3-V

9,00 %

Klärpunkt [°C]:

80,5

Δn [589 nm, 20°C]:

0,0943

Δε [1 kHz, 20°C]:

-3,6

ε [1 kHz, 20°C]:

3,5

ε [1 kHz, 20°C]:

7,2

γ1 [mPa·s, 20°C]:

112

K1 [pN, 20°C]:

14,2

K3 [pN, 20°C]:

18,2

V0 [20°C, V]:

2,37

Beispiel 175

Beispiel 176

PY-3-O2

11,00 %

PY-V2-O2

6,50 %

CCY-3-O2

9,00 %

CCY-4-O2

3,00 %

CCY-3-O1

5,00 %

CPY-2-O2

6,50 %

CPY-3-O2

10,00 %

CCH-34

10,00 %

CCH-23

21,00 %

PYP-2-3

6,00 %

CCP-3-1

3,00 %

PCH-301

9,00 %

Klärpunkt [°C]:

75

Δn [589 nm, 20°C]:

0,1105

Δε [1 kHz, 20°C]:

-3,1

ε [1 kHz, 20°C]:

3,5

ε [1 kHz, 20°C]:

6,6

γ1 [mPa·s, 20°C]:

105

K1 [pN, 20°C]:

13.9

K3 [pN, 20°C]:

14,3

V0 [20°C, V]:

2,28

LTS (bulk) [-20°C]

> 1000 h

Beispiel 177

Beispiel 178

PY-3-O2

11,00 %

PY-1V2-O2

8,00 %

CY-3-O2

3,00 %

CCY-3-O2

9,00 %

CCY-3-O1

6,00 %

CPY-2-O2

6,50 %

CPY-3-O2

10,00 %

CCH-34

10,00 %

CCH-23

21,00 %

PYP-2-3

5,00 %

CCP-3-1

4,00 %

PCH-301

6,50 %

Klärpunkt [°C]:

74

Δn [589 nm, 20°C]:

0,1119

Δε [1 kHz, 20°C]:

-3,3

ε [1 kHz, 20°C]:

3,5

ε [1 kHz, 20°C]:

6,8

γ1 [mPa·s, 20°C]:

108

K1 [pN, 20°C]:

14,3

K3 [pN, 20°C]:

15,0

V0 [20°C, V]:

2,26

LTS (bulk) [-20°C]

> 1000 h

Beispiel 179

CC-3-V

39,00 %

CC-3-V1

3,00 %

CCP-V-1

8,00 %

CCP-V2-1

12,00 %

PGP-2-2V

3,50 %

PP-1-2V1

9,00 %

PPGU-3-F

1,00 %

PUQU-3-F

15,50 %

CCY-3-O2

9,00 %

Klärpunkt [°C]:

74,5

Δn [589 nm, 20°C]:

0,1017

Δε [1 kHz, 20°C]:

3,2

γ1 [mPa·s, 20°C]:

64

K1 [pN, 20°C]:

13

K3 [pN, 20°C]:

15,4

V0 [20°C, V]:

2,13

Beispiel 180

BCH-32

5,00 %

CC-3-V

41,50 %

CC-3-V1

8,50 %

CCH-35

2,00 %

CCP-3-1

3,00 %

CCY-3-O2

7,00 %

CPY-2-O2

5,50 %

CPY-3-O2

12,50 %

PY-3-O2

15,00 %

Klärpunkt [°C]:

75,3

Δn [589 nm, 20°C]:

0,0989

Δε [1 kHz, 20°C]:

-1,9

ε [1 kHz, 20°C]:

3,2

ε [1 kHz, 20°C]:

5,0

γ1 [mPa·s, 20°C]:

69

K1 [pN, 20°C]:

14,2

K3 [pN, 20°C]:

15,5

V0 [20°C, V]:

3,02

Beispiel 180a

Die Mischung gemäß Beispiel 180 enthält zusätzlich 0,001 % Irganox® 1076 (Octadecyl-3-(3,5-di-tert. butyl-4-hydroxyphenyl)-proprionat, Fa. BASF) und 0,3 % RM-1.

Beispiel 181

CCY-3-O1

8,00 %

CCY-4-O2

7,50 %

CPY-2-O2

10,00%

CPY-3-O2

10,00 %

CC-3-V

15,00 %

PY-1-O4

5,00 %

PY-3-O2

9,00 %

PY-4-O2

5,00 %

CC-3-V1

9,00 %

CCY-3-O2

6,50 %

PCH-301

15,00%

Klärpunkt [°C]:

74,9

Δn [589 nm, 20°C]:

0,1123

Δε [1 kHz, 20°C]:

-3,7

ε [1 kHz, 20°C]:

3,7

ε [1 kHz, 20°C]:

7,5

γ1 [mPa·s, 20°C]:

121

K1 [pN, 20°C]:

13,2

K3 [pN, 20°C]:

15,5

V0 [20°C, V]:

2,15

Beispiel 181a

Die Mischung gemäß Beispiel 181 enthält zusätzlich

0,01 %

Beispiel 182

CY-3-O2

10,00 %

CY-3-O4

20,00 %

CY-5-O4

20,00 %

CCY-3-O2

6,00 %

CCY-3-O3

6,00 %

CCY-4-O2

6,00 %

CCY-5-O2

6,00 %

CH-33

3,00 %

CH-35

3,50 %

CH-43

3,50 %

CH-45

3,50 %

CCPC-33

4,00 %

CCPC-34

4,50 %

CCPC-35

4,00 %

Klärpunkt [°C]:

100

Δn [589 nm, 20°C]:

0,0865

Δε [1 kHz, 20°C]:

-5,4

ε [1 kHz, 20°C]:

3,9

ε[1 kHz, 20°C]:

9,3

γ1 [mPa·s, 20°C]:

347

K1 [pN, 20°C]:

15,6

K3 [pN, 20°C]:

16,6

V0 [20°C, V]:

1,84

Beispiel 183

Beispiel 184

CY-3-O2

14,00 %

CY-3-O4

4,00 %

CY-5-O2

7,00 %

CCY-3-O1

4,00 %

CCY-3-O2

5,00 %

CCY-4-O2

8,00 %

CCY-5-O2

3,00 %

CPY-2-O2

9,00 %

CPY-3-O2

9,00 %

PYP-2-3

6,00 %

CC-3-V

22,00 %

CC-3-V1

3,50 %

CCP-V-1

5,00 %

PPGU-3-F

0,50 %

Klärpunkt [°C]:

84,7

Δn [589 nm, 20°C]:

0,1068

Δε [1 kHz, 20°C]:

-4,0

γ1 [mPa·s, 20°C]:

138

K1 [pN, 20°C]:

14,1

K3 [pN, 20°C]:

16,2

V0 [20°C, V]:

2,13

Beispiel 185

Beispiel 185a

Die Mischung gemäß Beispiel 185 enthält zusätzlich 0,25 % RM-35.

und

0,025 %

Beispiel 186

Beispiel 186a

Die Mischung gemäß Beispiel 186 enthält zusätzlich

0,03 %

Beispiel 186b

Die Mischung gemäß Beispiel 186 enthält zusätzlich

0,03 %

Beispiel 187

Y-4O-O4

4,50 %

PYP-2-3

2,00 %

CC-3-V

25,00 %

CC-4-V

10,00 %

CCP-V-1

14,00 %

PTP-302FF

10,00 %

CPTP-302FF

10,00 %

CPTP-302FF

10,00 %

PPTUI-3-2

14,50 %

Klärpunkt [°C]:

100

Δn [589 nm, 20°C]:

0,1716

Δε [1 kHz, 20°C]:

-1,5

ε [1 kHz, 20°C]:

3,4

ε [1 kHz, 20°C]:

4,9

γ1 [mPa·s, 20°C]:

114

K1 [pN, 20°C]:

15,2

K3 [pN, 20°C]:

18,5

V0 [20°C, V]:

3,76

Beispiel 188

CCH-23

25,00 %

CC-3-V

4,50 %

PCH-53

25,00 %

CCY-2-1

12,00 %

CCY-3-1

12,00 %

CCY-3-O2

12,00 %

CCY-3-O3

5,00 %

CBC-33F

4,50 %

Klärpunkt [°C]:

70,3

Δn [589 nm, 20°C]:

0,0737

Δε [1 kHz, 20°C]:

-1,1

ε [1 kHz, 20°C]:

2,8

ε [1 kHz, 20°C]:

3,9

K1 [pN, 20°C]:

11,7

K3 [pN, 20°C]:

13,1

Beispiel 189

Beispiel 189a

Die Mischung gemäß Beispiel 189 enthält zusätzlich 0,01 % Irganox® 1076 (Octadecyl-3-(3,5-di-tert. butyl-4-hydroxyphenyl)-proprionat, Fa. BASF) und 0,3 % RM-1.

Beispiel 190

BCH-3F.F

10,00 %

BCH-3F.F.F

12,00 %

CBC-33

3,00 %

CBC-33F

3,00 %

CCGU-3-F

8,00 %

CCH-34

10,00 %

CCH-35

6,50 %

CCP-1F.F.F

10,00 %

CCP-2F.F.F

10,00 %

CCP-3-1

2,50 %

CCP-3F.F.F

8,00 %

CPGP-4-3

3,00 %

CPGP-5-2

2,00 %

CPGP-5-3

1,00 %

PUQU-2-F

1,00 %

PUQU-3-F

10,00 %

Klärpunkt [°C]:

99,6

Δn [589 nm, 20°C]:

0,1122

Δε [1 kHz, 20°C]:

10,1

ε [1 kHz, 20°C]:

13,8

ε [1 kHz, 20°C]:

3,6

γ1 [mPa·s, 20°C]:

164

K1 [pN, 20°C]:

11,8

K3 [pN, 20°C]:

15,9

V0 [20°C, V]:

1,14

Beispiel 191

Beispiel 192

Beispiel 193

APUQU-2-F

2,50 %

APUQU-3-F

5,00 %

PUQU-3-F

12,50 %

PGUQU-3-F

5,00 %

PGUQU-4-F

4,00 %

PGUQU-5-F

4,00 %

DPGU-4-F

4,00 %

PPGU-3-F

0,50 %

CDUQU-3-F

0,05 %

CC-3-V

34,95 %

CCP-V-1

7,00 %

CCP-V2-1

6,00 %

CCP-3-1

2,50 %

CCPC-33

2,00 %

CY-3-O2

5,00 %

CCY-3-O2

5,00 %

Klärpunkt [°C]:

85,8

Δn [589 nm, 20°C]:

0,1105

Δε [1 kHz, 20°C]:

10,6

ε [1 kHz, 20°C]:

14,8

ε [1 kHz, 20°C]:

4,2

γ1 [mPa·s, 20°C]:

98

K1 [pN, 20°C]:

12,7

K3 [pN, 20°C]:

15,1

Beispiel 194

Beispiel 195

APUQU-2-F

3,00 %

APUQU-3-F

5,00 %

PUQU-3-F

12,00 %

PGUQU-3-F

5,00 %

PGUQU-4-F

4,00 %

PGUQU-5-F

3,00 %

PPGU-3-F

0,50 %

CDUQU-3-F

0,05 %

CC-3-V

38,95 %

CCP-V-1

10,50 %

CCP-V2-1

9,00 %

PGP-2-3

2,00 %

CCY-3-O2

3,50 %

CPY-3-O2

3,50 %

Klärpunkt [°C]:

85,7

Δn [589 nm, 20°C]:

0,1097

Δε [1 kHz, 20°C]:

8,7

ε [1 kHz, 20°C]:

12,4

ε [1 kHz, 20°C]:

3,7

γ1 [mPa·s, 20°C]:

82

K1 [pN, 20°C]:

12,9

K3 [pN, 20°C]

15,7

V0 [20°C, V]:

1,29

Beispiel 196

Beispiel 196a

Die Mischung gemäß Beispiel 196 enthält zusätzlich

0,04 %

und

0,015 %

Beispiel 197

CC-3-V

33,00 %

CCY-3-O1

7,00 %

CCY-3-O2

7,00 %

CCY-4-O2

5,00 %

CLY-3-O3

11,00 %

CPY-2-O2

9,00 %

CPY-3-O2

8,00 %

PP-1-2V1

1,50 %

PY-1-O4

8,50 %

PY-3-O2

10,00 %

Klärpunkt [°C]:

84

Δn [589 nm, 20°C]:

0,1111

Δε [1 kHz, 20°C]:

-4,0

ε [1 kHz, 20°C]:

3,7

ε [1 kHz, 20°C]:

7,6

γ1 [mPa·s, 20°C]:

119

K1 [pN, 20°C]:

14,8

Beispiel 197a

Die Mischung gemäß Beispiel 197 enthält zusätzlich

0,04 %

und

0,015 %

Beispiel 198

APUQU-2-F

4,00 %

APUQU-3-F

7,00 %

PUQU-3-F

5,00 %

PGUQU-3-F

4,00 %

PGUQU-4-F

3,00 %

PGUQU-5-F

3,00 %

CCP-V-1

16,00 %

CC-3-V

40,00 %

CC-3-V1

4,00 %

CC-4-V

3,00 %

PGP-2-3

4,00 %

PGP-2-4

1,00 %

PPGU-3-F

1,00 %

CCOC-4-3

5,00 %

Klärpunkt [°C]:

85,6

Δn [589 nm, 20°C]:

0,1021

Δε [1 kHz, 20°C]:

6,9

ε [1 kHz, 20°C]:

10,0

ε [1 kHz, 20°C]:

3,1

γ1 [mPa·s, 20°C]:

71

K1 [pN, 20°C]:

13,1

K3 [pN, 20°C]:

15,3

V0 [20°C, V]:

1,45

Beispiel 198a

Die Mischung gemäß Beispiel 198 enthält zusätzlich 0,25 % RM-41

Beispiel 198b

Die Mischung gemäß Beispiel 198 enthält zusätzlich mit 0,3 % RM-17

Beispiel 199

Y-4O-O4

12,00 %

CY-3-O2

14,00 %

CCY-3-O1

5,00 %

CCY-3-O2

6,00 %

CCY-3-O3

6,00 %

CCY-4-O2

6,00 %

CPY-2-O2

2,50 %

PTP-302FF

10,00 %

CPTP-302FF

10,00 %

CPTP-502FF

10,00 %

CC-4-V

2,50 %

CCP-V-1

11,50 %

CCPC-33

4,50 %

Klärpunkt [°C]:

101

Δn [589 nm, 20°C]:

0,1504

Δε [1 kHz, 20°C]:

-6,2

ε [1 kHz, 20°C]:

4,5

ε [1 kHz, 20°C]:

10,7

γ1 [mPa·s, 20°C]:

281

K1 [pN, 20°C]:

15,7

K3 [pN, 20°C]:

19,9

V0 [20°C, V]:

1,90

Beispiel 200

Y-4O-O4

12,00 %

CCY-3-O1

5,00 %

CCY-3-O2

6,00 %

CCY-3-O3

6,00 %

CCY-4-O2

2,00 %

CC-4-V

15,00 %

CCP-V-1

11,00 %

CCP-V2-1

5,00 %

BCH-32

5,00 %

PTP-302FF

10,00 %

PTP-502FF

3,00 %

CPTP-302FF

10,00 %

CPTP-502FF

10,00 %

Klärpunkt [°C]:

100

Δn [589 nm, 20°C]:

0,1496

Δε [1 kHz, 20°C]:

-4,1

ε [1 kHz, 20°C]:

4,0

ε [1 kHz, 20°C]:

8,1

γ1 [mPa·s, 20°C]:

180

K1 [pN, 20°C]:

16,1

K3 [pN, 20°C]:

18,5

V0 [20°C, V]:

2,25

Beispiel 201

Y-4O-O4

10,00 %

CCY-3-O1

2,50 %

PTP-302FF

10,00 %

PTP-502FF

3,50 %

CPTP-302FF

10,00 %

CPTP-502FF

3,50 %

CC-4-V

15,00 %

CC-3-V1

8,00 %

CCP-V-1

12,00 %

CCP-V2-1

12,00 %

BCH-32

5,00 %

CPTP-3-1

5,00 %

CPTP-3-2

3,50 %

Klärpunkt [°C]:

100

Δn [589 nm, 20°C]:

0,1515

Δε [1 kHz, 20°C]:

-2,1

ε [1 kHz, 20°C]:

3,5

ε [1 kHz, 20°C]:

5,6

γ1 [mPa·s, 20°C]:

125

K1 [pN, 20°C]:

16,6

K3 [pN, 20°C]:

18,7

V0 [20°C, V]:

3,13

Beispiel 202

Y-4O-O4

12,00 %

CY-3-O2

6,00 %

CY-3-O4

15,00 %

CCY-3-O2

6,00 %

CCY-3-O3

6,00 %

CCY-4-O2

6,00 %

CLY-3-O2

5,00 %

CPY-2-O2

8,00 %

CPY-3-O2

8,00 %

CPTP-302FF

4,00 %

CPTP-502FF

4,00 %

CCP-V-1

11,00 %

CCPC-33

4,50 %

CCPC-34

4,50 %

Klärpunkt [°C]:

101

Δn [589 nm, 20°C]:

0,1218

Δε [1 kHz, 20°C]:

-6,2

ε [1 kHz, 20°C]:

4,5

ε [1 kHz, 20°C]:

10,7

γ1 [mPa·s, 20°C]:

302

K1 [pN, 20°C]:

15,7

K3 [pN, 20°C]:

18,9

V0 [20°C, V]:

1,83

Beispiel 203

Y-4O-O4

15,00 %

CCY-3-O2

5,00 %

CCY-3-O3

5,00 %

CCY-4-O2

5,00 %

CLY-3-O2

4,00 %

CPY-2-O2

8,00 %

CPY-3-O2

8,00 %

CPTP-302FF

5,00 %

CPTP-502FF

5,00 %

CC-4-V

13,50 %

CCP-V-1

11,50 %

CCP-V2-1

10,00 %

BCH-32

5,00 %

Klärpunkt [°C]:

101

Δn [589 nm, 20°C]:

0,1216

Δε [1 kHz, 20°C]:

-4,0

ε [1 kHz, 20°C]:

4,0

ε [1 kHz, 20°C]:

8,0

γ1 [mPa·s, 20°C]:

167

K1 [pN, 20°C]:

16,1

K3 [pN, 20°C]:

17,3

V0 [20°C, V]:

2,19

Beispiel 204

Y-4O-O4

10,00 %

CCY-3-O2

5,00 %

CCY-3-O3

3,50 %

CPY-3-O2

5,50 %

PTP-302FF

3,50 %

CPTP-302FF

5,00 %

CPTP-502FF

5,00 %

CCH-301

5,00 %

CC-4-V

15,00 %

CC-3-V1

8,00 %

CCP-V-1

13,00 %

CCP-V2-1

13,00 %

BCH-32

5,00 %

CPTP-3-1

3,50 %

Klärpunkt [°C]:

100

Δn [589 nm, 20°C]:

0,1203

Δε [1 kHz, 20°C]:

-2,0

ε [1 kHz, 20°C]:

3,4

ε [1 kHz, 20°C]:

5,4

γ1 [mPa·s, 20°C]:

117

K1 [pN, 20°C]:

15,6

K3 [pN, 20°C]:

18,5

V0 20°C, V]:

3,17

Beispiel 205

BCH-32

16,00 %

BCH-52

6,50 %

CCY-3-O1

5,00 %

CCY-3-O2

8,00 %

CCY-3-O3

6,00 %

CCY-4-O2

8,00 %

CCY-5-O2

7,00 %

CY-3-O4

13,00 %

PY-3-O2

5,50 %

PY-4-O2

9,00 %

PYP-2-3

8,00 %

PYP-2-4

8,00 %

Klärpunkt [°C]:

10,5

Δn [589 nm, 20°C]:

0,1503

Δε [1 kHz, 20°C]:

-4,2

[1 kHz, 20°C]:

3,8

ε [1 kHz, 20°C]:

8,0

γ1 [mPa·s, 20°C]:

297

K1 [pN, 20°C]:

18,3

K3 [pN, 20°C]:

17,3

V0 [20°C, V]:

2,13

Beispiel 205a

Die Mischung gemäß Beispiel 205 enthält zusätzlich

0,015 %

0,015 %

Beispiel 206

CC-3-V

35,50 %

CCY-3-O2

6,00 %

CCY-3-O3

6,00 %

CCY-4-O2

6,00 %

CCY-5-O2

3,50 %

CPY-2-O2

10,00 %

CPY-3-O2

9,00 %

CY-3-O4

10,00 %

CY-5-O2

9,00 %

PGIGI-3-F

5,00 %

Klärpunkt [°C]:

79,8

Δn [589 nm, 20°C]:

0,0962

Δε [1 kHz, 20°C]:

-3,4

ε [1 kHz, 20°C]:

3,6

ε [1 kHz, 20°C]:

7,0

γ1 [mPa·s, 20°C]:

111

K1 [pN, 20°C]:

13,3

K3 [pN, 20°C]:

15,2

V0 [20°C, V]:

2,23

Beispiel 207

CC-3-V

31,50 %

CCP-V-1

5,00 %

CCY-3-O2

6,00 %

CCY-3-O3

6,00 %

CCY-4-O2

5,50 %

CPY-2-O2

10,00 %

CPY-3-O2

10,00 %

CY-3-O4

7,00 %

CY-5-O2

7,00 %

PGIGI-3-F

5,00 %

PY-3-O2

7,00 %

Klärpunkt [°C]:

79,6

Δn [589 nm, 20°C]:

0,1044

Δε [1 kHz, 20°C]:

-3,4

ε [1 kHz, 20°C]:

3,6

ε [1 kHz, 20°C]:

7,0

γ1 [mPa·s, 20°C]:

115

K1 [pN, 20°C]:

13,3

K3 [pN, 20°C]:

15,2

V0 [20°C, V]:

2,24

Beispiel 208

CC-3-V

36,50 %

CCP-V-1

3,00 %

CCY-3-O1

6,50 %

CCY-3-O2

3,50 %

CCY-4-O2

5,00 %

CLY-3-O3

9,00 %

CPY-2-O2

11,00 %

CPY-3-O2

9,00 %

CY-3-O2

3,00 %

PY-3-O2

13,50 %

Klärpunkt [°C]:

84,9

Δn [589 nm, 20°C]:

0,1054

Δε [1 kHz, 20°C]:

-3,5

ε [1 kHz, 20°C]:

3,5

ε [1 kHz, 20°C]:

7,0

γ1 [mPa·s, 20°C]:

108

K1 [pN, 20°C]:

14,4

K3 [pN, 20°C]:

15,7

V0 [20°C, V]:

2,24

Beispiel 209

Beispiel 210

CC-3-V

38,50 %

CCY-3-O1

4,50 %

CCY-3-O2

4,00 %

CCY-4-O2

8,00 %

CLY-3-O2

8,00 %

CPY-2-O2

10,00 %

CPY-3-O2

9,00 %

PY-1-O4

7,50 %

PY-3-O2

6,00 %

Y-4O-O4

4,50 %

Klärpunkt [°C]:

74,9

Δn [589 nm, 20°C]:

0,1012

Δε [1 kHz, 20°C]:

-3,7

ε [1 kHz, 20°C]:

3,7

ε [1 kHz, 20°C]:

7,4

γ1 [mPa·s, 20°C]:

94

K1 [pN, 20°C]:

13,4

K3 [pN, 20°C]:

14,4

V0 [20°C, V]:

2,08

LTS (bulk) [-20°C]

> 1000 h

Beispiel 210a

Die Mischung gemäß Beispiel 210 enthält zusätzlich

0,25 %

und

0,25 %

Beispiel 211

CC-3-V

40,50 %

CC-3-V1

5,00 %

CCPC-33

3,00 %

CCY-3-O2

9,00 %

CPY-2-O2

9,00 %

CPY-3-O2

9,50 %

PP-1-2V1

6,00 %

PY-3-O2

7,00 %

PYP-2-3

8,00 %

Y-4O-O4

3,00 %

Klärpunkt [°C]:

74,8

Δn [589 nm, 20°C]:

0,1073

Δε [1 kHz, 20°C]:

-1,9

ε [1 kHz, 20°C]:

3,2

ε [1 kHz, 20°C]:

5,2

γ1 [mPa·s, 20°C]:

63

K1 [pN, 20°C]:

12,6

K3 [pN, 20°C]:

14,1

V0 [20°C, V]:

2,86

Beispiel 211a

Die Mischung gemäß Beispiel 211 enthält zusätzlich

0,04 %

und

0,02 %

Beispiel 212

APUQU-2-F

2,50 %

APUQU-3-F

7,00 %

PGUQU-3-F

4,00 %

PGUQU-4-F

4,00 %

PUQU-3-F

4,00 %

CCP-V-1

6,00 %

CCP-V2-1

14,00 %

CCGU-3-F

3,50 %

CCQU-3-F

10,00 %

PCH-302

6,50 %

CC-3-V

25,00 %

CC-3-V1

8,00 %

CCP-30CF3

5,00 %

PPGU-3-F

0,50 %

Klärpunkt [°C]:

97,5

Δn [589 nm, 20°C]:

0,1000

Δε [1 kHz, 20°C]:

8,0

ε [1 kHz, 20°C]:

11,1

ε [1 kHz, 20°C]:

3,1

γ1 [mPa·s, 20°C]:

93

K1 [pN, 20°C]:

15,3

K3 [pN, 20°C]:

17,6

V0 [20°C, V]:

1,45

Beispiel 212a

Die Mischung gemäß Beispiel 212 enthält zusätzlich

0,25 %

Beispiel 213

Beispiel 213a

Die Mischung gemäß Beispiel 213 enthält zusätzlich

0,2 %

Beispiel 214

CY-3-O2

10,50 %

PY-1-O4

5,00 %

PY-3-O2

7,50 %

PY-4-O2

4,00 %

CCY-3-O1

5,50 %

CCY-3-O2

5,00 %

CCY-4-O2

4,00 %

CLY-3-O2

9,00 %

CPY-2-O2

9,00 %

CPY-3-O2

9,00 %

CC-3-V

23,50 %

CC-3-V1

7,00 %

CBC-33F

1,00 %

Klärpunkt [°C]:

79,7

Δn [589 nm, 20°C]:

0,1113

Δε [1 kHz, 20°C]:

-4,4

K1 [pN, 20°C]:

14,5

K3 [pN, 20°C]:

16,7

V0 [20°C, V]:

2,05

Beispiel 215

APUQU-3-F

3,00 %

CC-3-V1

7,75 %

CC-4-V

10,00 %

CC-5-V

9,25 %

CCGU-3-F

7,00 %

CCH-34

3,00 %

CCP-30CF3

2,50 %

CCP-V-1

14,00 %

CCP-V2-1

9,50 %

PCH-301

11,00 %

PGP-2-2V

2,00 %

PGUQU-3-F

5,00 %

PPGU-3-F

0,50 %

PUQU-3-F

12,00 %

APUQU-2-F

3,50 %

Klärpunkt [°C]:

90,5

Δn [589 nm, 20°C]:

0,1057

Δε [1 kHz, 20°C]:

7,4

γ1 [mPa·s, 20°C]:

91

K1 [pN, 20°C]:

13,6

K3 [pN, 20°C]:

15,5

V0 [20°C, V]:

1,43

Beispiel 216

CC-3-V

27,00 %

CCY-3-1

9,50 %

CCP-3-1

8,00 %

CLY-3-O2

6,00 %

CPY-2-O2

10,50 %

CPY-3-O2

10,50 %

CY-3-O2

15,00 %

PY-3-O2

13,50 %

Klärpunkt [°C]:

74,9

Δn [589 nm, 20°C]:

0,1093

Δε [1 kHz, 20°C]:

-3,8

ε [1 kHz, 20°C]:

3,7

ε [1 kHz, 20°C]:

7,5

γ1 [mPa·s, 20°C]:

108

K1 [pN, 20°C]:

14,1

K3 [pN, 20°C]:

15,8

V0 [20°C, V]:

2,16

Beispiel 217

Beispiel 217a

Die Mischung gemäß Beispiel 217 enthält zusätzlich

0,04 %

Beispiel 218

Beispiel 218a

Die Mischung gemäß Beispiel 218 enthält zusätzlich

0,04 %

Beispiel 219

BCH-32

1,50 %

CC-3-V

19,50 %

CC-3-V1

5,50 %

CCP-3-1

8,00 %

CCP-3-3

4,50 %

CLY-3-O2

6,00 %

CPY-2-O2

10,50 %

CPY-3-O2

10,50 %

CY-3-O2

15,00 %

CY-5-O2

9,00 %

PY-3-O2

10,00 %

Klärpunkt [°C]:

74,3

Δn [589 nm, 20°C]:

0,1089

Δε [1 kHz, 20°C]:

-3,8

ε [1 kHz, 20°C]:

3,7

ε [1 kHz, 20°C]:

7,5

γ1 [mPa·s, 20°C]:

115

K1 [pN, 20°C]:

13,7

K3 [pN, 20°C]:

16,1

V0 [20°C, V]:

2,18

Beispiel 220

CY-3-O2

15,00 %

CY-5-O2

6,50 %

CCY-3-O2

11,00 %

CPY-2-O2

5,50 %

CPY-3-O2

10,50 %

CC-3-V

28,50 %

CC-3-V1

10,00 %

PYP-2-3

12,50 %

PPGU-3-F

0,50 %

Klärpunkt [°C]:

74,7

Δn [589 nm, 20°C]:

0,1082

Δε [1 kHz, 20°C]:

-3,0

ε [1 kHz, 20°C]:

3,6

ε [1 kHz, 20°C]:

6,6

γ1 [mPa·s, 20°C]:

97

K1 [pN, 20°C]:

12,9

K3 [pN, 20°C]:

15,7

V0 [20°C, V]:

2,42

Beispiel 221

PGUQU-3-F

5,00 %

CCQU-3-F

8,00 %

CCQU-5-F

4,00 %

PUQU-3-F

13,50 %

APUQU-2-F

3,00 %

APUQU-3-F

6,00 %

CC-3-V

25,50 %

CC-3-V1

6,00 %

CCP-V-1

13,00 %

CCP-V2-1

6,00 %

PPGU-3-F

0,50 %

BCH-3F.F

7,50 %

BCH-2F.F

2,00 %

Klärpunkt [°C]:

84,8

Δn [589 nm, 20°C]:

0,1035

Δε [1 kHz, 20°C]:

10,1

ε[1 kHz, 20°C]:

13,5

ε [1 kHz, 20°C]:

3,4

γ1 [mPa·s, 20°C]:

86

K1 [pN, 20°C]:

12,3

K3 [pN, 20°C]:

15,0

V0 [20°C, V]:

1,17

Beispiel 221a

Die Mischung gemäß Beispiel 221 enthält zusätzlich

0,25 %

Beispiel 222

CY-3-O2

12,00 %

CY-5-O2

12,00 %

CCY-3-O3

5,00 %

CCY-4-O2

5,00 %

CPY-2-O2

10,00 %

CPY-3-O2

10,00 %

CCY-2-1

4,00 %

CC-3-V

16,00 %

CCH-23

10,00 %

CCH-34

4,00 %

CCP-V-1

4,00 %

PGP-2-5

2,00 %

CPGP-5-2

3,00 %

CPGP-5-3

3,00 %

Klärpunkt [°C]:

85,4

Δn[589 nm, 20°C]:

0,1039

Beispiel 223

CC-3-V

41,50 %

CCY-3-O1

2,50 %

CCY-3-O2

11,50 %

CCY-3-O3

5,00 %

CPY-2-O2

5,00 %

CPY-3-O2

12,00 %

CY-3-O2

9,50 %

PY-3-O2

7,00 %

PY-4-O2

3,00 %

PYP-2-3

3,00 %

Klärpunkt [°C]:

74,5

Δn [589 nm, 20°C]:

0,0984

Δε [1 kHz, 20°C]:

-3,3

ε [1 kHz, 20°C]:

3,5

ε [1 kHz, 20°C]:

6,7

γ1 [mPa·s, 20°C]:

89

K1 [pN, 20°C]:

13,2

K3 [pN, 20°C]:

15,2

V0 [20°C, V]:

2,29

Beispiel 223a

Die Mischung gemäß Beispiel 223 enthält zusätzlich 0,001 % Irganox® 1076 (Octadecyl-3-(3,5-di-tert. butyl-4-hydroxyphenyl)-proprionat, Fa. BASF) und

0,4 %

Beispiel 224

CC-3-V

30,50 %

CC-3-V1

4,50 %

CCY-3-O1

6,00 %

CCY-3-O2

8,00 %

CLY-3-O2

8,00 %

CPY-2-O2

8,00 %

CPY-3-O2

12,00 %

CY-3-O2

15,00 %

PY-3-O2

8,00 %

Klärpunkt [°C]:

80,1

Δn [589 nm, 20°C]:

0,1033

Δε [1 kHz, 20°C]:

-4,0

ε [1 kHz, 20°C]:

3,6

ε [1 kHz, 20°C]:

7,6

γ1 [mPa·s, 20°C]:

113

K1 [pN, 20°C]:

14,4

K3 [pN, 20°C]:

17,0

V0 [20°C, V]:

2,16

Beispiel 225

Beispiel 226

CC-3-V

26,00 %

CCY-3-O2

6,00 %

CCY-3-O3

6,00 %

CCY-4-O2

6,00 %

CCY-5-O2

6,00 %

CPY-2-O2

6,00 %

CPY-3-O2

6,00 %

PYP-2-3

7,00 %

CY-3-O2

15,00 %

CY-5-O2

12,00 %

BCH-32

4,00 %

Klärpunkt [°C]:

80,5

Δn [589 nm, 20°C]

0,1040

Δε [1 kHz, 20°C]:

-4,0

ε [1 kHz, 20°C]:

3,7

ε [1 kHz, 20°C]:

7,7

γ1 [mPa·s, 20°C]:

133

K1 [pN, 20°C]:

13,6

K3 [pN, 20°C]:

15,4

V0 [20°C, V]:

2,07

LTS (bulk) [-20°C]

> 1000 h

Beispiel 226a

Die Mischung gemäß Beispiel 226 enthält zusätzlich

0,3 %

Beispiel 227

Beispiel 227a

Die Mischung gemäß Beispiel 227 enthält zusätzlich

0,04 %

und

0,015 %

Beispiel 228

Beispiel 229

APUQU-3-F

1,50 %

CC-3-V

35,50 %

CCP-30CF3

4,00 %

CCP-V-1

12,00 %

CCP-V2-1

4,50 %

CCVC-3-V

4,00 %

CPGP-5-2

5,00 %

CPGP-5-3

5,00 %

DGUQU-4-F

3,00 %

PGP-2-3

4,00 %

PGP-2-4

2,00 %

PGUQU-3-F

5,00 %

PGUQU-4-F

3,50 %

PGUQU-5-F

3,00 %

PPGU-3-F

0,50 %

PUQU-3-F

5,00 %

PP-1-2V1

2,50 %

Klärpunkt [°C]:

110

Δn [589 nm, 20°C]:

0,1257

Δε [1 kHz, 20°C]:

6,3

ε [1 kHz, 20°C]:

9,3

ε f1 kHz, 20°Cl:

3,0

γ1 [mPa·s, 20°C]:

104

K1 [pN, 20°C]:

16,1

K3 [pN, 20°C]:

18,7

V0 [20°C, V]:

1,69

Beispiel 230

CY-3-O2

5,00 %

CY-3-O4

15,00 %

CCY-3-O2

6,00 %

CCY-3-O3

6,00 %

CPY-2-O2

3,00 %

PTP-102

5,00 %

PPTUI-3-2

15,00 %

PPTUI-3-4

11,00 %

PTP-302FF

12,00 %

PTP-502FF

12,00 %

CPTP-302FF

5,00 %

CPTP-502FF

5,00 %

Klärpunkt [°C]:

102

Δn [589 nm, 20°C]:

0,2503

Δε [1 kHz, 20°C]:

-4,0

ε [1 kHz, 20°C]:

4,3

ε [1 kHz, 20°C]:

8,3

γ1 [mPa·s, 20°C]:

392

K1 [pN, 20°C]:

19,5

K3 [pN, 20°C]:

24,0

V0 [20°C, V]:

2,57

Beispiel 231

CC-3-V

35,00 %

CCP-3-1

7,50 %

CCPC-33

2,00 %

CCY-3-O2

7,00 %

CCY-4-O2

7,50 %

CPY-2-O2

8,50 %

CPY-3-O2

9,00 %

PP-1-2V1

5,50 %

PY-3-O2

8,00 %

PYP-2-3

5,00 %

Y-4O-O4

5,00 %

Klärpunkt [°C]:

79,6

Δn [589 nm, 20°C]:

0,1095

Δε [1 kHz, 20°C]:

-2,6

ε [1 kHz, 20°C]:

3,5

ε [1 kHz, 20°C]:

6,1

γ1 [mPa·s, 20°C]:

92

K1 [pN, 20°C]:

14,5

Beispiel 231a

Die Mischung gemäß Beispiel 231 enthält zusätzlich

0,04 %

und

0,02 %

Beispiel 232

CY-3-O4

25,00 %

CY-5-O2

9,00 %

CCY-3-O2

7,00 %

CCY-3-O3

4,50 %

CPY-2-O2

10,00 %

CPY-3-O2

10,00 %

PYP-2-3

14,00 %

PYP-2-4

10,00 %

CCP-V-1

3,00 %

BCH-32

2,00 %

PP-1-2V1

3,50 %

PGP-2-3

2,00 %

Klärpunkt [°C:]

81,2

Δn [589 nm, 20°C]:

0,1531

Δε [1 kHz, 20°C]:

-5,0

ε [1 kHz, 20°C]:

4,1

ε [1 kHz, 20°C]:

9,1

γ1 [mPa·s, 20°C]:

298

K1 [pN, 20°C]:

13,1

K3 [pN, 20°C]:

15,9

V0 [20°C, V]:

1,89

Beispiel 232a

Die Mischung gemäß Beispiel 232 enthält zusätzlich

10 %

Beispiel 233

CC-3-V

29,00 %

CCY-3-O1

8,00 %

CCY-3-O2

6,00 %

CCY-4-O2

2,00 %

CLY-3-O2

8,50 %

CLY-3-O3

7,50 %

CPY-2-O2

10,00 %

CPY-3-O2

7,50 %

CY-3-O2

6,50 %

PY-3-O2

10,00 %

Y-4O-O4

5,00 %

Klärpunkt [°C]:

80,1

Δn [589 nm, 20°C]:

0,1033

Δε [1 kHz, 20°C]:

-4,5

ε [1 kHz, 20°C]:

4,0

ε [1 kHz, 20°C]:

8,4

γ1 [mPa·s, 20°C]:

98

K1 [pN, 20°C]:

13,2

K3 [pN, 20°C]:

14,6

V0 [20°C, V]:

1,91

Beispiel 233a

Die Mischung gemäß Beispiel 233 enthält zusätzlich

0,04 %

und

0,02 %

Beispiel 234

CC-3-V

34,00 %

CCPC-33

1,00 %

CCY-3-1

4,00 %

CCY-3-O2

10,00 %

CCY-4-O2

9,50 %

CPY-2-O2

9,00 %

CPY-3-O2

10,00 %

PP-1-2V1

1,50 %

PY-3-O2

10,00 %

PYP-2-3

6,00 %

Y-4O-O4

5,00 %

Klärpunkt [°C]:

79,7

Δn [589 nm, 20°C]:

0,1095

Δε [1 kHz, 20°C]:

-3,5

ε [1 kHz, 20°C]:

3,7

ε [1 kHz, 20°C]:

7,2

γ1 [mPa·s, 20°C]:

105

K1 [pN, 20°C]:

14,0

Beispiel 234a

Die Mischung gemäß Beispiel 234 enthält zusätzlich

0,04 %

und

0,02 %

Beispiel 235

CC-3-V

19,00 %

CCY-3-O1

5,00 %

CCY-3-O2

7,00 %

CCY-3-O3

12,00 %

CCY-4-O2

8,00 %

CPY-2-O2

9,50 %

CPY-3-O2

10,00 %

CY-3-O2

12,00 %

CY-3-O4

3,50 %

PP-1-3

7,00 %

PP-1-4

7,00 %

Klärpunkt [°C]:

80,2

Δn 589 nm, 20°C]:

0,1104

Δε [1 kHz, 20°C]:

-3,7

ε [1 kHz, 20°C]:

3,6

ε [1 kHz, 20°C]:

7,3

γ1 [mPa·s, 20°C]:

143

K1 [pN, 20°C]:

12,9

K3 [pN, 20°C]:

14,5

V0 [20°C, V]:

2,09

Beispiel 236

Beispiel 236a

Die Mischung gemäß Beispiel 236 enthält zusätzlich

0,015 %

Beispiel 237

Beispiel 237a

Die Mischung gemäß Beispiel 237 enthält zusätzlich

0,015 %

Beispiel 238

APUQU-3-F

4,00 %

CC-3-V

41,00 %

CC-3-V1

6,50 %

CCP-V-1

12,00 %

CCP-V2-1

11,00 %

CPGP-5-3

2,50 %

PGUQU-3-F

5,00 %

PGUQU-4-F

4,00 %

PGUQU-5-F

3,50 %

PUQU-3-F

10,50 %

Klärpunkt [°C]:

85,7

Δn [589 nm, 20°C]:

0,1004

Δε [1 kHz, 20°C]:

6,8

ε [1 kHz, 20°C]:

9,8

ε [1 kHz, 20°C]:

3,0

γ1 [mPa·s, 20°C]:

69

K1 [pN, 20°C]:

13,0

K3 [pN, 20°C]:

16,6

V0 [20°C, V]:

1,47

Beispiel 239

CC-3-V

32,50 %

CC-3-V1

1,50 %

CCY-3-O1

8,50 %

CCY-3-O2

5,50 %

CLY-3-O2

10,00 %

CPY-3-O2

9,50 %

PY-3-O2

10,50 %

CY-3-O2

14,00 %

PYP-2-3

8,00 %

Klärpunkt [°C]:

74,7

Δn [589 nm, 20°C]:

0,1090

Δε [1 kHz, 20°C];

-3,8

ε [1 kHz, 20°C]:

3,7

ε [1 kHz, 20°C]:

7,5

γ1 [mPa·s, 20°C]:

102

K1 [pN, 20°C]:

13,8

K3 [pN, 20°C]:

15,7

V0 [20°C, V]:

2,15

Beispiel 240

CC-3-V

33,00 %

CCY-3-O1

6,00 %

CCY-3-O2

8,00 %

CCY-4-O2

2,50 %

CPY-2-O2

8,00 %

CPY-3-O2

12,00 %

CLY-3-O2

8,00 %

PY-1-O4

1,50 %

PY-3-O2

10,00 %

PY-4-O2

8,00 %

CY-3-O2

3,00 %

Klärpunkt [°C]:

80,2

Δn [589 nm, 20°C]:

0,1116

Δε [1 kHz, 20°C]:

-4,1

ε [1 kHz, 20°C]:

3,7

ε [1 kHz, 20°C]:

7,8

γ1 [mPa·s, 20°C]:

119

K1 [pN, 20°C]:

14,5

K3 [pN, 20°C]:

16,1

V0 [20°C, V]:

2,09

Beispiel 240a

Die Mischung gemäß Beispiel 240 enthält zusätzlich

0,008 %

Beispiel 241

BCH-3F.F

5,00 %

BCH-3F.F.F

8,50 %

CC-3-V1

10,00 %

CC-4-V

12,50 %

CCG-V-F

9,00 %

CCP-2F.F.F

3,50 %

CCP-3-1

4,50 %

CCP-3F.F.F

10,00 %

CCP-V-1

12,00 %

CCP-V2-1

7,00 %

ECCP-5F.F

13,00 %

PUQU-3-F

5,00 %

Klärpunkt [°C]:

101

Δn 589 nm, 20°C]:

0,0925

Δε [1 kHz, 20°C]:

5,3

ε [1 kHz, 20°C]:

8,3

γ1 [mPa·s, 20°C]:

119

K1 [pN, 20°C]:

14,2

K3 [pN, 20°C]:

19,9

V0 [20°C, V]:

1,73

Beispiel 242

Beispiel 242a

Die Mischung gemäß Beispiel 242 enthält zusätzlich 0,25 % RM-41

Beispiel 243

Y-4O-O4

9,00 %

CY-3-O4

12,00 %

CCY-3-O1

5,00 %

CCY-3-O2

5,50 %

CCY-3-O3

5,50 %

CC-4-V

15,00 %

CC-5-V

5,50 %

CC-3-V1

6,50 %

CCP-V-1

11,00 %

CCP-V2-1

10,00 %

CH-33

3,00 %

CH-35

3,00 %

CCPC-33

4,50 %

CCPC-34

4,50 %

Klärpunkt [°C]:

96

Δn [589 nm, 20°C]:

0,0796

Δε [1 kHz, 20°C]:

-2,3

ε [1 kHz, 20°C]:

3,4

ε [1 kHz, 20°C]:

5,7

K1 [pN, 20°C]:

14,8

K3 [pN, 20°C]:

16,6

V0 [20°C, V]:

2,85

Beispiel 244

Y-4O-O4

11,50 %

CCY-3-O1

4,00 %

CCY-3-O2

5,00 %

CCY-3-O3

2,50 %

CPY-3-O2

4,00 %

CC-4-V

10,00 %

CCP-V-1

6,00 %

CCP-V2-1

12,00 %

BCH-32

5,00 %

PTP-302FF

12,00 %

PTP-502FF

12,00 %

CPTP-302FF

8,00 %

CPTP-502FF

8,00 %

Klärpunkt [°C];

95

Δn [589 nm, 20°C]:

0,1697

Δε [1 kHz, 20°C]:

-4,4

ε [1 kHz, 20°C]:

4,1

ε [1 kHz, 20°C]:

8,5

γ1 [mPa·s, 20°C]:

193

K1 [pN, 20°C]:

16,8

K3 [pN, 20°C]:

19,5

V0 [20°C, V]:

2,23

Beispiel 245

CY-3-O2

10,00 %

PY-1-O4

5,00 %

PY-3-O2

6,50 %

PY-4-O2

3,00 %

CCY-3-O1

5,00 %

CCY-3-O2

5,00 %

CCY-4-O2

3,00 %

CLY-3-O2

8,00 %

CPY-2-O2

10,00 %

CPY-3-O2

10,00 %

CCH-301

8,50 %

CCH-23

12,00 %

CCH-34

4,50 %

CCH-35

3,00 %

BCH-32

6,50 %

Klärpunkt [°C]:

80,7

Δn [589 nm, 20°C]:

0,1123

Δε [1 kHz, 20°C]:

-4,2

ε [1 kHz, 20°C]:

3,8

ε [1 kHz, 20°C]:

8,0

γ1 [mPa·s, 20°C]:

150

K1 [pN, 20°C]:

14,6

K3 [pN, 20°C]:

15,2

V0 [20°C, V]:

2,01

Beispiel 246

PCH-3N.F.F

7,00 %

CP-1V-N

18,00 %

CP-V2-N

16,00 %

CC-4-V

12,00 %

CCP-V-1

9,00 %

PPTUI-3-2

18,00 %

PPTUI-3-4

20,00 %

Klärpunkt [°C]:

91

Δn [589 nm, 20°C]:

0,2003

Δε [1 kHz, 20°C]:

10,3

ε [1 kHz, 20°C]:

14,3

ε [1 kHz, 20°C]:

4,0

Beispiel 247

BCH-32

8,00 %

CC-3-V

24,50 %

CCP-V-1

8,00 %

CCY-2-1

2,00 %

CCY-3-O1

6,00 %

CCY-3-O3

2,00 %

CLY-3-O2

5,00 %

CLY-3-O3

5,00 %

CPY-2-O2

6,50 %

CPY-3-O2

6,00 %

CY-3-O2

6,00 %

CY-3-O4

3,00 %

CY-5-O2

5,00 %

PYP-2-3

6,50 %

PYP-2-4

6,50 %

Klärpunkt [°C]:

96

Δn [589 nm, 20°C]:

0,1195

Δε [1 kHz, 20°C]:

-2,7

ε [1 kHz, 20°C]:

3,3

Beispiel 247a

Die Mischung gemäß Beispiel 247 enthält zusätzlich

0,03 %

und

0,4 %

Beispiel 248

BCH-32

2,00 %

CC-3-V

31,00 %

CCY-3-O1

4,50 %

CCY-3-O2

6,00 %

CCY-4-O2

7,00 %

CLY-3-O2

8,00 %

CPY-2-O2

7,50 %

CPY-3-O2

10,00 %

CY-3-O2

6,25 %

PY-3-O2

5,75 %

PY-1-O4

6,00 %

PY-4-O2

6,00 %

Klärpunkt [°C]:

80

Δn 589 nm, 20°C]:

0,1083

Δε [1 kHz, 20°C]:

-3,9

ε [1 kHz, 20°C]:

3,7

γ1 [mPa·s, 20°C]:

120

K1 [pN, 20°C]:

12,7

K3 [pN, 20°C]:

15,1

V0 [20°C, V]:

2,07

Beispiel 248a

Die Mischung gemäß Beispiel 248 enthält zusätzlich

0,005 %

Beispiel 249

CC-3-V

37,00 %

CCY-3-O1

5,00 %

CCY-3-O2

5,00 %

CCY-4-O2

4,00 %

CLY-3-O2

7,00 %

CPY-2-O2

9,00 %

CPY-3-O2

10,00 %

CY-3-O2

11,50 %

PY-3-O2

11,50 %

Klärpunkt [°C]:

75,2

Δn [589 nm, 20°C]:

0,1016

Δε [1 kHz, 20°C]:

-3,7

ε [1 kHz, 20°C]:

3,7

γ1 [mPa·s, 20°C]:

99

V0 [20°C, V]:

2,13

Beispiel 249a

Die Mischung gemäß Beispiel 249 enthält zusätzlich

0,015 %

Beispiel 249b

Die Mischung gemäß Beispiel 249 enthält zusätzlich

0,005 %

Beispiel 250

PUQU-3-F

8,00 %

APUQU-2-F

6,00 %

APUQU-3-F

6,00 %

CDUQU-3-F

6,00 %

DPGU-4-F

6,00 %

CCGU-3-F

4,00 %

CC-3-V

36,00 %

CC-3-V1

8,00 %

CCP-V-1

12,00 %

CCP-V2-1

6,00 %

CBC-33F

1,50 %

PPGU-3-F

0,50 %

Klärpunkt [°C]:

96,3

Δn [589 nm, 20°C]:

0,0994

Δε [1 kHz, 20°C]:

9,6

γ1 [mPa·s, 20°C]:

87

K1 [pN, 20°C]:

14,5

K3 [pN, 20°C]:

16,6

V0 [20°C, V]:

1,29

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