具有粘合剂层的光学构件叠层体及其制造方法 |
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| 申请号 | CN201580000676.3 | 申请日 | 2015-01-16 | 公开(公告)号 | CN105190367A | 公开(公告)日 | 2015-12-23 |
| 申请人 | 日东电工株式会社; | 发明人 | 梅本彻; 形见普史; 鹰尾宽行; 野中崇弘; 保井淳; 疋田贵巳; | ||||
| 摘要 | 本 发明 提供一种叠层体结构，其使用能够容易且廉价地制造的 粘合剂 层，能够有效地抑制光学构件叠层体中的内部反射。通过在从粘合剂层的表面起沿厚度方向的某一范围形成具有比粘合剂层的 基础 材料更高折射率的折射率调整分区来抑制光学构件叠层体的内部反射。本发明还提供一种用于将透明的第1光学构件与第2光学构件接合的光学构件叠层体，该光学构件叠层体是透明的，且具备具有特定结构的粘合剂层。具有特定结构的该粘合剂层包含从面向第1光学构件的一侧的第1主面起沿厚度方向实质上由透明的粘合剂基础材料形成的基础粘合剂分区、以及从该粘合剂层的面向第2光学构件的一侧的第2主面起沿厚度方向形成的透明的粘合性折射率调整用分区。而且，该折射率调整用分区具有比粘合剂基础材料的折射率更高的折射率。 | ||||||
| 权利要求 | 1.一种光学构件叠层体，其具备用于将透明的第1光学构件与第2光学构件接合的透明粘合剂层，其中， |
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| 说明书全文 | 具有粘合剂层的光学构件叠层体及其制造方法技术领域[0001] 本发明涉及具有粘合剂层的光学构件叠层体及其制造方法。特别是，本发明涉及具有用于将透明的光学构件与其它光学构件接合的粘合剂层的光学构件叠层体及其制造方法。 背景技术[0002] 例如，对于液晶显示装置或有机EL显示装置这样的显示装置而言，为了将偏振膜、相位差膜、盖玻璃等透明盖片构件、以及各种透明光学构件接合到其它的光学构件上，会使用粘合剂。即，将粘合剂层配置于待接合的2个光学构件之间，通过将所述2个光学构件相互挤压而接合，从而形成光学构件叠层体。在显示装置中，这样构成的光学构件叠层体以透明光学构件侧为可视侧的方式进行配置。对于该构成而言，存在当外部光从可视侧的透明光学构件入射时，入射光在粘合剂层与非可视侧的光学构件的界面处反射而返回可视侧的问题。这个问题在外部光的入射角小时变得尤其明显。 [0003] 另外，对于具备近年来有增加倾向的触摸面板的显示装置而言，在待接合透明光学构件的被接合侧光学构件的表面形成经过了图案化的ITO(铟/锡氧化物)这样的透明的导电层。对于这样的显示装置而言，指出了存在所谓的的“图案可见”的问题，所谓“图案可见”是指，由于粘合剂层与透明导电层之间的界面处入射光的内部反射的影响，从可视侧能够看到透明导电层的图案。 [0004] 在任何情况下，内部反射都是由粘合剂与被接合侧光学构件及透明导电层的折射率差所引起的。日本专利第4640740号公报(专利文献1)对于应对该问题的方法给出了启示。即，该专利文献1公开了一种粘合剂组合物，其能够降低在透明光学构件与粘合剂层之间的界面、以及在粘合剂层与被接合侧光学构件之间的界面的光的全反射。在专利文献1中对公开的组合物进行了说明，其在干燥后和/或固化后的折射率高，接近于透明光学构件及被接合侧光学构件的折射率。该专利文献1的启示在于，使接合2个光学构件的粘合剂层整体具有的折射率接近于该2个光学构件的折射率。 [0005] 根据该专利文献1所启示的方法，虽然可能在抑制界面反射方面有效果，但由于使用特定的单体成分，因此存在组合物自身的价格高的问题。 [0006] 日本专利第5564748号公报(专利文献2)公开了一种折射率经过调整的粘合剂，该粘合剂的构成为：使分散平均粒径为1nm以上且20nm以下的氧化锆或氧化钛粒子分散于由丙烯酸类树脂形成的透明粘合剂的整个厚度上。对于该粘合剂而言，可认为由于将作为高折射率材料的氧化锆或氧化钛粒子混合于透明粘合剂中，因此粘合剂层整体的折射率增高，从而能够抑制上述的界面反射。但是，对于专利文献2的方法而言，需要大量使用高折射率材料，存在作为粘合剂的特性降低的隐患，并且价格高。另外，使用的高折射率材料为无机物质的粒子，因此难以分散，存在因散射而产生白浊的问题。因此，也考虑使用有机材料的粒子，但在该情况下，难以解决着色的问题。 [0007] 为了改善专利文献2中记载的方法，日本专利第5520752号公报(专利文献3)提出了将分散于粘合剂中的金属氧化物粒子用高分子包覆的方案。专利文献3的启示在于，由于专利文献2的粘合剂层中金属氧化物露出到粘合剂层的表面，存在粘合性降低的问题，因此用高分子包覆该金属氧化物粒子可以解决该问题。由该专利文献3提出的方法或许能够在某种程度上改善粘合剂层的粘合性，但专利文献2中涉及且被指出的大部分问题未被解决。特别是，专利文献3所记载的构成是由特定的高分子包覆金属氧化物粒子，因此与专利文献2的结构相比，其价格更高。 [0008] 现有技术文献 [0009] 专利文献 [0010] 专利文献1：日本专利第4640740号公报 [0011] 专利文献2：日本专利第5564748号公报 [0012] 专利文献3：日本专利第5520752号公报 发明内容[0013] 发明要解决的课题 [0014] 本发明的主要目的在于提供一种叠层体结构，其使用能够容易且廉价地制造的粘合剂层，可以有效地抑制光学构件叠层体的内部反射。 [0015] 本发明的其它目的还在于，通过具有粘合剂层的光学构件叠层体的结构来有效地抑制该叠层体的内部反射，所述粘合剂层具有折射率调整分区。 [0016] 解决课题的方法 [0017] 简而言之，本发明为了实现上述目的，在从粘合剂层的表面起沿厚度方向的某个范围内形成具有比粘合剂层的基体材料折射率更高的折射率调整分区，由此抑制光学构件叠层体的内部反射。 [0018] 作为一个实施方式，本发明提供一种光学构件叠层体，其用于将透明的第1光学构件与第2光学构件接合，该光学构件叠层体是透明的，且具备粘合剂层，所述粘合剂层具有特定的结构。具有特定的结构的该粘合剂层包含基础粘合剂分区和透明的粘合性折射率调整用分区，所述基础粘合剂分区是从面向第1光学构件一侧的第1主面起沿厚度方向实质上由透明的粘合剂基础材料形成的，所述透明的粘合性折射率调整用分区是从该粘合剂层的面向第2光学构件一侧的第2主面起沿厚度方向形成的。而且，该折射率调整用分区具有比粘合剂基础材料的折射率更高的折射率。在该结构中，粘合剂层的折射率调整用分区可以具有比第2光学构件的折射率更低的折射率。 [0019] 作为本发明的另一实施方式，在第2光学构件的面向粘合剂层一侧形成给定图案的透明导电层。而且，折射率调整用分区与该透明导电层和该第2光学构件两者相接，使得填埋该透明导电层与第2光学构件之间的高低差，该折射率调整用分区具有比透明导电层的折射率更低的折射率。在该结构中，在第2光学构件的面向粘合剂层一侧的表面形成折射率低于透明导电层的折射率的折射率调整层，粘合剂层的折射率调整用分区可以具有比在该第2光学构件的表面形成的该折射率调整层的折射率更高的折射率。 [0020] 折射率调整用分区优选使厚度为20nm～600nm。折射率调整用分区如下构成：将具有比该粘合性材料更高折射率的高折射率材料的粒子分散于与粘合剂基础材料相同的粘合性材料中，从而能够通过该高折射率材料粒子提高该折射率调整用分区的平均折射率。 [0021] 对于在第2光学构件上形成了给定图案的透明导电层的结构而言，折射率调整用分区是在与粘合剂基础材料相同的粘合性材料中分散了具有比该粘合性材料更高折射率的高折射率材料粒子而提高了该折射率调整用分区的平均折射率的构成，当透明导电层的折射率为1.75～2.14、粘合剂基础材料的折射率为1.40～1.55的情况下，优选高折射率材料粒子的折射率为1.60～2.74。对于高折射率材料的粒子而言，优选用TEM观察的平均初级粒径为3nm～100nm。另外，高折射率材料可以是选自TiO2、ZrO2、CeO2、Al2O3、BaTiO3、Nb2O5、及SnO2中的1种或多种化合物。在折射率调整用分区与第2光学构件之间的接合面处形成高折射材料粒子接触第2光学构件的区域、以及该折射率调整用分区的粘合材料接触该第2光学构件的基质区域。在该情况下，优选以面积比30～99％的范围来形成高折射材料粒子接触第2光学构件的区域。另外，优选高折射率材料的粒子与粘合剂基础材料的折射率之差为0.2～1.3。 [0022] 折射率调整用分区可以通过在与粘合剂基础材料相同的粘合性材料中包含具有比该粘合性材料更高折射率的粒子、聚合物或低聚物形态的有机材料而构成，使得能够提高该折射率调整用分区的平均折射率。另外，在将该结构的粘合剂层应用于在第2光学构件上形成有透明导电层的结构的情况下，优选透明导电层的折射率为1.75～2.14、粘合剂基础材料的折射率为1.40～1.55、有机材料的折射率为1.59～2.04。作为这里使用的具有高折射率的有机材料，没有特别限定，可以列举苯乙烯类这样的具有芳香环的树脂，以及含有硫、氮等杂原子的树脂(例如含有巯基、三嗪环的聚合物)。另外，作为粒子，包含纳米尺寸的有机纳米粒子、球状高分子，粒径优选采用TEM观察的平均初级粒径为3nm～100nm。 [0023] 粘合剂层优选总光线透射率为80％以上。高折射率材料的粒子可以包含以多个粒子凝聚而成的凝聚体的形态存在的部分。另外，折射率调整用分区中含有的高折射材料的粒子通常在粘合剂层的厚度方向上存在于不规则的深度。 [0024] 作为本发明的另一方式，提供一种抑制光学构件叠层体内的内部反射的方法，该方法包括：在用于将透明的第1光学构件接合于形成有给定图案的透明导电层的第2光学构件的粘合剂层中，在面向该粘合剂层的第2光学构件及透明导电层的一侧形成透明的粘合性折射率调整用分区，所述透明的粘合性折射率调整用分区具有的折射率高于粘合剂层的粘合剂基础材料的折射率、且低于透明导电层的折射率，以该透明的粘合性折射率调整用分区面向透明导电层及第2光学构件、且粘合剂层的相反侧的面面向第1光学构件的状态，将该透明的粘合性折射率调整用分区接合于该透明导电层及该第2光学构件上，并将粘合剂层的该相反侧的面与第1光学构件接合，使折射率调整用分区处于与该透明导电层和该第2光学构件两者相接的状态，从而填埋该透明导电层与上述第2光学构件之间的高低差，透过第1光学构件入射的外部光在粘合剂基材层和折射率调整用分区的界面处的反射光与其在折射率调整用分区和透明导电层的界面处的反射光通过光学干涉而至少部分相互抵消。 [0025] 在本发明的该内部反射抑制方法中，透过第1光学构件入射的外部光在粘合剂层中实质上由粘合剂基础材料形成的分区和折射率调整用分区的界面处的反射光、与其在折射率调整用分区和第2光学构件的界面处的反射光通过光学干涉可以至少部分相互抵消。 [0026] 作为本发明的另一方式，提供一种光学构件叠层体的制造方法，所述光学构件叠层体具备用于将透明的第1光学构件与第2光学构件接合的透明粘合剂层，该方法包括形成带有折射率调整分区的粘合剂层的阶段，该阶段通过如下工序进行：分别准备实质上由透明的粘合剂基础材料形成的粘合剂层和涂敷液，所述涂敷液含有折射率调整材料的粒子，所述折射率调整材料的粒子的折射率高于该粘合剂基础材料的折射率，在该粘合剂层的一面涂布该涂敷液，使该涂敷液含有的折射率调整材料的粒子从粘合剂层的一面起沿厚度方向浸渗，并通过使该粘合剂层干燥而使该涂敷液的液体部分蒸发。该方法还包括下述阶段：将该带有折射率调整分区的粘合剂层的该一面与该第2光学构件接合，并将另一面与该第1光学构件接合，所述另一面是与该一面相反侧的面。 [0027] 在该光学构件叠层体的制造方法中，折射率调整分区可以具有比第2光学构件的折射率更低的折射率。或者，使用在面向粘合剂层一侧形成了给定图案的透明导电层的光学构件作为该第2光学构件，该折射率调整分区以填埋该透明导电层与该第2光学构件之间的高低差的方式与该透明导电层和该第2光学构件两者接合，该折射率调整分区可以具有比透明导电层的折射率更低的折射率。 [0028] 发明的效果 [0029] 根据本发明，由于从粘合剂层的一面起在厚度方向上形成具有比粘合剂层的基础材料更高折射率的折射率调整分区，因此能够形成高折射率区域而不提高雾度值。高折射率区域可以调整其与第2光学构件之间的折射率差，由此，能够抑制粘合剂层与第2光学构件之间的界面的反射。另外，对于在第2光学构件侧形成了图案化的透明导电层的结构而言，能够通过调整粘合剂层的折射率调整分区的折射率相对于该透明导电层和第2光学构件的折射率来抑制界面反射。此外，通过该透明导电层的反射光与第2光学构件表面的反射光之间的相位差、以及粘合剂层内部产生的反射光之间的反射光彼此的相位差而产生的抵消效果，能够大幅降低返回到第1光学构件侧的反射光。附图说明 [0030] 图1是示出本发明最简单的实施方式的一例的光学构件叠层体的剖面图。 [0031] 图2是示出本发明的光学构件叠层体中使用的粘合剂层的一个实施方式的剖面图。 [0032] 图3是示出在形成有图案化透明导电层的结构中使用了图2所示的粘合剂层13的实施方式的剖面图。 [0033] 图4是示出与第2光学构件接触的粘合剂层的主面的状态的俯视图。 [0034] 图5是示出用于制作图2所示的粘合剂层的工序的图，图5(a)是示出分散液的涂布工序的示意图，图5(b)是示出高折射率材料粒子的浸渗工序的示意图，图5(c)是示出干燥工序的示意图。 [0035] 图6是示出在本发明的实施例中制作的第2光学构件的结构的图，图6(a)、图6(b)、图6(c)分别表示带ITO的第2光学构件(1)、(2)、(3)。 [0036] 图7是示出基于本发明实施例的光学构件叠层体的结构的图，图7(a)、图7(b)、图7(c)分别表示实施例1、2、3。 [0037] 图8是示出通过本发明的实施例制作的粘合剂层的折射率调整用分区的表面状态的20000倍SEM照片。 [0038] 图9(a)、图9(b)是示出分别根据本发明的不同实施例而得到的粘合剂层中折射率调整用分区的高折射率材料粒子分布的30000倍TEM剖面照片。 [0039] 符号说明 [0040] 1…光学构件叠层体 [0041] 2…第1光学构件 [0042] 3、13…透明粘合剂层 [0043] 3a、13a…基础粘合剂分区 [0044] 3b、13b…折射率调整用分区 [0045] 4…第2光学构件 [0046] 7…透明导电层 [0047] 17…高折射率材料粒子 [0048] 19…分散液 [0049] 20…粘合剂基础材料 [0050] 21、31…叠层体 [0051] 22…COP基材 [0052] 23…折射率调整层 [0053] 24…ITO层 [0054] 25…粘合剂层 [0055] 26…玻璃窗 具体实施方式[0056] 以下，参照附图对本发明的实施方式进行说明。图1是示出本发明的最简单的实施方式的一例的光学构件叠层体1的剖面图，该光学构件叠层体1由光学透明的第1光学构件2和第2光学构件4构成，所述第2光学构件4是隔着光学透明的粘合剂层3与该第1光学构件2接合。该透明的第1光学构件2可以由偏振膜、相位差膜、其它用于光学显示装置的光学膜或光学显示装置的可视侧盖玻璃这样的透明保护构件构成。第1光学构件2与粘合剂层3的第1主面5接合，第2光学构件4与粘合剂层3的第2主面6接合。 [0057] 在图示的光学构件叠层体1中，透明的粘合剂层3具有实质上由粘合剂基础材料形成的基础粘合剂分区3a、以及具有比该基础粘合剂分区3a更高折射率的折射率调整用分区3b。优选形成基础粘合剂分区3a的粘合剂基础材料具有与第1光学构件2的折射率相近的折射率。 [0058] 粘合剂基础材料只要是能够用于光学用途且具有粘合性的透明材料即可，没有特别限制。例如，可以从丙烯酸类粘合剂、橡胶类粘合剂、聚硅氧烷类粘合剂、聚酯类粘合剂、聚氨酯类粘合剂、环氧类粘合剂及聚醚类粘合剂中适当选择使用。从透明性、加工性及耐久性等观点考虑，优选使用丙烯酸类粘合剂。粘合剂基础材料可以单独使用上述粘合剂中的任一种，或者组合使用2种以上。作为丙烯酸类粘合剂的基础聚合物使用的丙烯酸类聚合物没有特别限定，优选以(甲基)丙烯酸烷基酯为主成分的单体的均聚物或共聚物。这里，“(甲基)丙烯酸”这样的用语表示的是“丙烯酸”及“甲基丙烯酸”中的任一者或两者，其它类似用语也同样。在本发明中，丙烯酸类聚合物这样的用语除了是指上述(甲基)丙烯酸烷基酯以外，还包含能够与其共聚的其它单体的意思。粘合剂基础材料的折射率通常为1.40～1.55。 [0059] 粘合剂层3的厚度没有特别限定，通常为5μm～500μm，优选为5μm～400μm，进一步优选为5μm～500μm。其中，折射率调整用分区3b的厚度优选为20nm～600nm，更优选为20nm～300nm，进一步优选为20nm～200nm。折射率调整分区3b与基础粘合剂分区3a的边界是不规则的凹凸形状，在本发明中，折射率调整分区3b的厚度可以通过将凹凸形状深度的测定值进行平均来确定。基础粘合剂分区的厚度为由粘合剂层3的厚度减去折射率调整分区3b的厚度而得到的值。粘合剂层3整体的总光线透射率以按照JISK7361测定的值计为80％以上，优选为90％以上。粘合剂层3的总光线透射率越高越优选。 [0060] 折射率调整用分区3b可以通过以下方式形成：例如，在由粘合剂基础材料形成的粘合剂层的一面涂布给定量的具有比粘合剂基础材料更高折射率的树脂材料的溶液，并使其干燥。作为能够用于该目的的树脂材料，包括例如专利文献1中记载的粘合剂组合物。或者可以使用以下方法：将具有比粘合剂基础材料更高折射率的有机物、例如苯乙烯低聚物以固体物质的形式分散的分散液涂布于粘合剂基础材料层的表面，并使其干燥。但是，在本发明中，优选如以下对图2所说明的那样，从由粘合剂基础材料形成的粘合剂层的一面起浸渗高折射率材料的粒子，使该高折射率材料的粒子分散于与粘合剂层的该面邻接的区域。 [0061] 以下，参照图2对本发明的一个实施方式的粘合剂层13的结构进行详细说明。 [0062] 与图1所示的实施方式的粘合剂层3相同，图2所示的本发明的实施方式的粘合剂层13的构成为：具有第1主面15和第2主面16，且具有实质上由粘合剂基础材料形成的基础粘合剂分区13a、以及具有比该基础粘合剂分区13a更高折射率的折射率调整用分区13b，在本实施方式中，折射率调整用分区13b从第2主面16起沿厚度方向的深度浸渗于粘合剂基础材料内，且包含分散于粘合剂基础材料内的高折射率材料的粒子17，由此，具有比基础粘合剂分区13a更高的折射率。 [0063] 优选折射率调整用分区13b中高折射率材料粒子17的折射率为1.7～2.7的范围。优选高折射率材料的粒子与粘合剂基础材料的折射率之差为0.2～1.3。作为能够在本发明的该实施方式中使用的高折射率材料，有TiO2、ZrO2、CeO2、Al2O3、BaTiO2、Nb2O5及SnO2，可以使用选自其中的1种或多种化合物来形成高折射率材料粒子17。高折射率材料粒子17的平均初级粒径为3nm～100nm即可，粒子以各自分散的状态、或部分凝聚的状态分布于折射率调整用分区13b内。折射率调整用分区13b与基础粘合剂分区13a的边界如图1中所说明的那样，是不规则的凹凸形状，在折射率调整用分区13b的厚度测定时，将各测定位置存在90％高折射率材料粒子17的深度范围作为该测定位置的分区13b的厚度测定值，将多个测定位置的测定值进行平均而作为折射率调整用分区13b的厚度。 [0064] 图3是示出在第2光学构件4的粘合剂层侧表面形成了例如图案化了的ITO膜这样的透明导电层7的结构中使用了图2所示的粘合剂层13的实施方式的剖面图，以构成触摸面板传感器。作为该情况下的第2光学构件4的例子，可以列举例如液晶显示装置或有机EL显示装置中的显示面板的玻璃基板。 [0065] 如图3所示，粘合剂层13的折射率调整用分区13b的主面16与第2光学构件4的粘合剂层侧表面和透明导电层7两者接合，使得填埋第2光学构件4与透明导电层7之间的高低差。图4是示出与第2光学构件4接触的粘合剂层13的主面16的状态的俯视图。如图4所示，高折射率材料粒子17在粘合剂基础材料的基质18中分散成岛状，形成了海岛结构，在粘合剂层13与第2光学构件4接触的面上，存在粘合剂基础材料与第2光学构件 4接触的部分、和高折射率材料粒子17与第2光学构件4接触的部分。该位置中的高折射率材料粒子17与粘合剂基础材料的面积比优选为30～99％的范围。在边长为10μm～ 200μm的方形区域内，将高折射率材料粒子17在该方形区域总面积中所占的比例作为面积比，对多个方形区域进行测定，并将其测定值进行平均，由此求出面积比。 [0066] 图5(a)、图5(b)、图5(c)是示意性地示出制造图2所示的粘合剂层13的工序的图。首先，准备将上述高折射率材料粒子17分散于溶剂中的分散液19和粘合剂基础材料层20。接着，如图5(a)所示，将该分散液19涂布于粘合剂基础材料层20的表面。用分散液19的溶剂使粘合剂基础材料层20的表面溶胀，在该过程中，分散液19内的高折射率材料粒子17沿厚度方向浸渗于粘合剂基础材料层20内。图5(b)示出了该状态。然后，通过干燥工序使粘合剂基础材料层20干燥，由此使分散液19的溶剂蒸发而得到图2所示的粘合剂层13。图5(c)示出了该状态。 [0067] 高折射率材料粒子17相对于粘合剂基础材料层20的浸渗深度由粘合剂基础材料与分散液19的溶剂的关系来确定。可以适当选择溶剂使得浸渗深度达到上述值。 [0068] 实施例 [0069] 以下，对本发明的实施例进行说明。 [0070] [制作粘合剂基体] [0071] 〈粘合剂A的制作〉 [0072] (丙烯酸低聚物) [0073] 将丙烯酸双环戊二烯酯(DCPMA、甲基丙烯酸双环戊二烯酯)60重量份、甲基丙烯酸甲酯(MMA、甲基丙烯酸甲酯)40重量份、作为链转移剂的α-硫代甘油3.5重量份、以及作为聚合溶剂的甲苯100重量份加入到四颈烧瓶中，并将它们在氮气氛围下于70℃搅拌了1小时。接着，将作为聚合引发剂的2,2’-偶氮二异丁腈0.2重量份加入到四颈烧瓶中，在 70℃下反应2小时，接下来在80℃反应了2小时。然后，将反应液投入130℃气体氛围下，干燥并除去甲苯、链转移剂及未反应单体，从而得到了固体形态的丙烯酸类聚合物。将这样得到的丙烯酸类聚合物称为“丙烯酸类聚合物(A-1)”。该丙烯酸类聚合物(A-1)的重均分 3 子量(Mw)为5.1×10。 [0074] (粘合剂A) [0075] 向由丙烯酸2-乙基己酯(2EHA)68重量份、N-乙烯基-2-吡咯烷酮(NVP)14.5重量份、以及丙烯酸2-羟基乙酯(HEA)17.5重量份构成的单体混合物中配合光聚合引发剂(商品名“IRGACURE 184”，BASF公司制造)0.035重量份、以及光聚合引发剂(商品名“IRGACURE 651”，BASF公司制造)0.035重量份，然后，照射紫外线，直至粘度(测量条件：BH粘度计No.5转子、10rpm、测定温度30℃)达到约20Pa·s，得到了上述单体成分部分聚合的预聚物组合物。 [0076] 接下来，向该预聚物组合物中添加上述丙烯酸类聚合物(B-1)5重量份、己二醇二丙烯酸酯(HDDA)0.15重量份、硅烷偶联剂(商品名“KBM-403”，信越化学工业株式会社制造)0.3重量份并混合，得到了丙烯酸类粘合剂组合物。将上述丙烯酸类粘合剂组合物涂布在剥离膜(商品名“MRF#38”，三菱树脂株式会社制造)的经过了剥离处理的面上，使得粘合剂层形成后的厚度为150μm，从而形成粘合剂组合物层，接着，在该粘合剂组合物层的表2 面贴合了剥离膜(商品名“MRN#38”，三菱树脂株式会社制造)。然后，以照度5mW/cm、光量 2 1500mJ/cm的条件进行紫外线照射，使粘合剂组合物层发生光固化，从而形成了粘合剂层。 [0077] 〈粘合剂B的制作〉 [0078] 将丙烯酸2-乙基己酯(2EHA)32重量份、丙烯酸异硬脂酯(ISTA)48重量份、丙烯酸2-羟基丙酯(2HPA)20重量份、2种光聚合引发剂(商品名：IRGACURE 184，BASF公司制造)0.05重量份及光聚合引发剂(商品名：IRGACURE 651，BASF公司制造)0.05重量份加入到四颈烧瓶中，制备了单体混合物。接着，将该单体混合物在氮气氛围下暴露于紫外线而使其部分发生光聚合，由此得到了聚合率约10重量％的部分聚合物(丙烯酸类聚合物粘液)。向这样得到的丙烯酸类聚合物粘液100重量份中添加三羟甲基丙烷三丙烯酸酯(TMPTA)0.02重量份、硅烷偶联剂(商品名“KBM-403”，信越化学工业株式会社制造)0.3份，然后将它们均匀混合，制备了单体成分。 [0079] 接下来，将如上所述制备的单体成分涂布于用聚硅氧烷对一面进行了剥离处理的厚度38μm的聚酯膜(商品名：Diafoil MRF，三菱树脂株式会社制造)的剥离处理面上，形成了涂布层，并使得最终厚度为100μm。接着，在涂布的单体成分的表面包覆用聚硅氧烷对一面进行了剥离处理的厚度38μm的聚酯膜(商品名：Diafoil MRE，三菱树脂株式会社制造)，并使得该膜的剥离处理面为涂布层侧。由此，使单体成分的涂布层与氧气隔绝。使2 用化学光源灯(东芝株式会社制造)以照度5mW/cm(用在约350nm处具有最大灵敏度的TOPCON UVR-T1测定)的紫外线对上述得到的具有涂布层的片照射360秒钟，使涂布层固化而形成粘合剂层，制作了在粘合剂层的两面设有剥离片的粘合片(无基材型，粘合剂层的厚度：100μm)。 [0080] 〈粘合剂C的制作〉 [0081] 在具备温度计、搅拌器、回流冷凝管及氮气导管的可分离式烧瓶中加入作为单体成分的丙烯酸丁酯(BA)99份、丙烯酸4-羟基丁酯(4HBA)1份，加入作为聚合引发剂的偶氮二异丁腈0.2份、以及作为聚合溶剂的乙酸乙酯，使得固体成分为30％，然后通入氮气，一边搅拌一边进行约1小时的氮气置换。然后将烧瓶加热至60℃，反应7小时，得到了重均分子量(Mw)110万的丙烯酸类聚合物。在该丙烯酸类聚合物的溶液(固体成分100份)中加入作为异氰酸酯类交联剂的三羟甲基丙烷苯二亚甲基二异氰酸酯(三井化学株式会社制造的“TAKENATE D110N”)0.1份，并加入硅烷偶联剂(信越化学工业株式会社制“KBM-403”)0.1份，制备了粘合剂组合物(溶液)。将上述制备的粘合剂溶液涂布在剥离片的脱模处理面上，使得干燥后的厚度为25μm，在常压下于60℃加热干燥1分钟以及于150℃加热干燥1分钟，再在23℃进行120小时的熟化，制作了粘合剂层。 [0082] [带有折射率调整层的粘合剂的制作] [0083] 〈使用粘合剂A/高折射率材料的纳米粒子分散液的实例〉 [0084] (使用粘合剂A/纳米粒子分散液(分散介质：乙醇)的实例) [0085] 粘合剂层的厚度为150μm，在该粘合剂层的两面被轻剥离PET剥离片保护的状态的粘合剂A(粘合剂层的折射率：1.49)的一个轻剥离PET剥离片剥离。用棒涂机RDS No.5在露出的粘合剂层的表面涂布作为含有高折射率粒子的分散液的含有氧化锆粒子(ZrO2，折射率：2.17，平均初级粒径：20nm)的涂布用处理液(分散介质：乙醇，粒子浓度：1.5重量％，分散液的透射率：75％，CIK Nanotech公司制造)，并使得折射率调整分区的厚度为20nm～300nm，用110℃的干燥烘箱干燥180秒钟。接着，在分散有氧化锆(ZrO2)粒子的粘合剂层表面贴合PET剥离片，得到了粘合剂片。需要说明的是，如上所述的氧化锆粒子的平均初级粒径可以通过TEM观察来测量。 [0086] 〈其它实例〉 [0087] 与上述实例同样地，使用下述粘合剂和高折射率材料的纳米粒子分散液，并同样地制作了粘合剂片。使用材料为粘合剂B(折射率1.48)、粘合剂C(折射率1.47)、ZrO2纳米粒子分散液(分散介质：乙醇，粒径20nm)、ZrO2纳米粒子分散液(分散介质：乙醇，粒径30nm)、以及ZrO2纳米粒子分散液(分散介质：正丙醇，粒径20nm)。 [0088] 〈使用苯乙烯低聚物溶液作为粘合剂A/高折射率材料的实例〉 [0089] 粘合剂层的厚度为150μm，在该粘合剂层的两面被轻剥离PET剥离片保护的状态的粘合剂A(粘合剂层的折射率：1.49)的一个轻剥离PET剥离片剥离。用棒涂机RDS No.5在露出的粘合剂层的表面涂布事先将苯乙烯低聚物分散于甲苯中使固体成分浓度为2重量％的溶液(折射率：1.60，安原化学株式会社制造，SX-100)，使折射率调整分区的厚度为20nm～300nm，用110℃的干燥烘箱干燥180秒钟。接着，在配置有苯乙烯的粘合剂层表面贴合PET剥离片，得到了粘合剂片。 [0090] [评价方法] [0091] ＜粘合剂层的表面状态的观察＞ [0092] 使用FE-SEM在加速电压2kV下以观察倍率500倍、2,000倍、5,000倍及20,000倍对各实施例的粘合剂层中具有高折射率材料粒子一侧的表面进行了观察。图8示出了20,000倍的照片。可知，高折射率材料粒子被均匀地分散了。 [0093] ＜分层结构的观察＞ [0094] 使用透射电子显微镜(TEM)以倍率30,000倍对实施例的粘合剂层中具有高折射率材料粒子一侧表面附近的截面进行了观察。将其结果示于图9(a)、图9(b)。可知对于图9(a)而言，高折射率材料粒子基本均匀地分布于折射率调整用分区的几乎整个厚度上，而对于图9(b)的例子而言，粘合剂层中高折射率材料粒子在粘合剂层的表面处分布最多，且具有沿着粘合剂层的厚度方向逐渐减少的分布。 [0095] ＜平均表面折射率＞ [0096] 实施例和比较例中得到的粘合片的平均表面折射率是使用分光椭圆偏振仪(EC-400，JA.Woolam公司制造)测定的钠D线(589nm)的折射率。对于实施例和比较例的粘合片而言，以剥离两面剥离片且将黑板贴合于未涂布粒子的面上的状态测定了涂有粒子的面的平均折射率。比较例的粘合片以剥离两个剥离片且将黑板贴合于一面的状态测定了粘合剂层表面的平均折射率。 [0097] ＜折射率调整层的厚度的测定＞ [0098] 调整粘合剂层深度方向的截面并进行了TEM观察。从得到的TEM图像(直接倍率3000～30000倍)进行了折射率调整层厚度的测定。折射率调整层的厚度为粘合剂基材层与调整层的界面的凹凸的平均值，在难以辨别与粘合剂基材层的界面的情况下，用图像处理软件(ImageJ)对表面TEM图像进行二值化图像处理，以90％的纳米粒子存在的区域的深度作为调整层的厚度。 [0099] ＜高折射率粒子的面积比率＞ [0100] 使用FE-SEM在加速电压2kV下以观察倍率500倍、2,000倍、5,000倍对粘合剂层的粒子涂布侧的表面进行了观察。通过用图像处理软件(ImageJ)对得到的表面SEM图像进行二值化图像处理，求出了高折射率粒子占长边23μm、短边18μm的长方形区域的总面积的面积比率(％)。 [0101] ＜总光线透射率、雾度值＞ [0102] 对于实施例及比较例中得到的粘合片，将粒子涂布侧的剥离片剥离，贴合于载玻片(商品名：白研磨No.1，厚度：0.8～1.0mm，总光线透射率：92％，雾度：0.2％，松浪硝子工业株式会社制造)上。再剥离另一个剥离片，制作了具有粘合剂层/载玻片的层结构的试验片。另外，对于比较例的粘合片而言，将一个剥离片剥离并贴合于载玻片(商品名：白研磨No.1，厚度：0.8～1.0mm，总光线透射率：92％，雾度：0.2％，松浪硝子工业株式会社制造)上，再剥离另一个剥离片，制作了具有粘合剂层/载玻片的层结构的试验片。使用雾度仪(装置名：HM-150，株式会社村上色彩技术研究所制造)测定了上述试验片在可见光范围的总光线透射率、雾度值。 [0103] ＜180度剥离粘接力(对玻璃板的180度剥离粘接力)＞ [0104] 由实施例及比较例中得到的粘合片切出长100mm、宽20mm的片。接着，将实施例及比较例的片上未涂布粒子侧的剥离片剥离并粘贴了PET膜(衬底)(商品名：Lumirror S-10，厚度：25μm，东丽株式会社制造)。另外，对于比较例1、2的片而言，剥离一个剥离片并粘贴了PET膜(衬底)(商品名：Lumirror S-10，厚度：25μm，东丽株式会社制造)。接下来，剥离另一个剥离片，用2kg辊在往复1次的压接条件下对作为试验板的玻璃板(商品名：钠钙玻璃#0050，松浪硝子工业株式会社制造)进行压接，制作了由试验板/粘合剂层/PET膜构成的样品。 [0105] 对得到的样品进行高压釜处理(50℃、0.5MPa、15分钟)，然后在23℃、50％R.H.的气体氛围下自然冷却30分钟。自然冷却后，使用拉伸试验机(装置名：Autograph AG-IS，株式会社岛津制作所制造)并基于JIS Z0237标准在23℃、50％R.H.的气体氛围中于拉伸速度300mm/分、剥离角度180°的条件下从试验板上剥离粘合片(粘合剂层/PET膜)，测定了180°剥离粘接力(N/20mm)。另外，制作各实施例、比较例中未涂布高折射率粒子的粘合片，也与上述同样地对这些未涂布高折射率粒子的粘合片测定180度剥离粘接力(基础粘合剂层的粘接力)，并计算出各样品的180度剥离粘接力相对于基础粘合剂层的粘接力的比率(％)。 [0106] ＜含有高折射率粒子的分散液的透射率＞ [0107] 用光电比色计(AC-114、OPTIMA公司制造)并使用530nm的滤光片测定了含有高折射率粒子的分散液的透射率。将单独的分散溶剂的透射率设为100％，测定了各实施例、比较例中使用的分散液的透射率(％)。 [0108] ＜反射抑制率的测定＞ [0109] 将实施例及比较例的光学构件叠层体的一面作为反射率测定面，在相反侧的面上粘贴带有黑色PET基材的胶带(琳得科株式会社制造的PET75NBPET38)，制成了反射率测定用的试料。用反射式分光光度计(U4100，Hitachi High-Tech公司制造)测定了光学构件叠层体的反射率测定面侧的反射率(Y值)。在对透明导电层进行了蚀刻的部分和未蚀刻的部分两者的位置均进行了测定。即，对透明导电层进行了刻蚀的部分(开口部)的测定表示的是粘合剂层的折射率调整层与光学构件叠层体的折射率调整层的界面的反射率，未刻蚀部分(图案部)的测定表示的是粘合剂层的折射率调整层与透明导电层界面的反射率。 [0110] 分别对于刻蚀的部分和未刻蚀的部分基于下式计算出反射抑制率。需要说明的是，下式中的“无粒子时的反射率(％)”是指比较例(未使用粒子时)的光学构件叠层体的反射率。即，反射抑制率是表示通过具有折射率调整层能够在多大程度上降低反射率的指标。 [0111] 反射抑制率(％)＝反射率(％)－无粒子时的反射率(％) [0112] [带折射率调整层的粘合剂与透明导电层的叠层体的制作] [0113] ＜使用ZEONOR(COP)作为基材的透明导电层的制作＞ [0114] 使用棒涂机在厚度100μm的环烯烃聚合物膜(商品名：“ZEONOR ZF16”，面内双折射率：0.0001，日本瑞翁株式会社制造)的两面涂布涂敷液，所述涂敷液是在粘合剂树脂(商品名：“UNIDIC RS29-120”，DIC公司制造)100份中添加了直径3μm的多个粒子(商品名：“SSX105”，积水树脂株式会社制造)0.07份而得到的涂敷液，在80℃的烘箱中干燥1分钟后，分别照射累积光量300mJ的紫外线(高压水银灯)，由此形成了在两面具有防粘连层的膜(以下称为COP基材)。接着，用棒涂机在COP基材的一面涂布折射率调整剂(商品名：“Opstar KZ6661”，JSR株式会社制造)，在80℃的烘箱中干燥1分钟后，照射累积光量300mJ的紫外线(高压水银灯)，由此形成了厚度100nm、折射率1.65的折射率调整层。用卷取式溅射装置在得到的COP基材的折射率调整层的表面叠层了作为透明导电层的厚度 23nm的铟锡氧化物层(ITO)。 [0115] ＜使用PET作为基材的透明导电层的制作＞ [0116] 使用棒涂机在厚度50μm的PET膜(商品名：Lumirror U40，东丽株式会社制造)的一面涂布涂敷液，所述涂敷液是在粘合剂树脂(商品名：“UNIDIC RS29-120”，DIC公司制造)100份中添加了直径3μm的多个粒子(商品名：“SSX105”，积水树脂株式会社制造)0.1份而得到的涂敷液，在80℃的烘箱中干燥1分钟后，照射累积光量300mJ的紫外线(高压水银灯)，由此在一面形成了膜厚1.5μm的防粘连层。接着，使用棒涂机在与之前涂敷过的面的反面涂布涂敷液，所述涂敷液是用MIBK将棒涂用树脂(商品名：“Opstar KZ7540(含二氧化硅纳米粒子)”、JSR株式会社制造)调节成固体成分10％的涂敷液，在80℃的烘箱中干燥1分钟后，照射累积光量300mJ的紫外线(高压水银灯)，由此形成了具有膜厚1.5μm的硬涂层的膜(以下称为PET基材)。 [0117] 接下来，使用棒涂机在之前得到的硬涂层上涂布涂敷液，所述涂敷液是用MIBK将折射率调整剂(商品名：“Opstar H0001(含氧化锆纳米粒子)”、JSR株式会社制造)调节成固体成分10％的涂敷液，在80℃的烘箱中干燥1分钟后，照射累积光量300mJ的紫外线(高压水银灯)，由此形成了膜厚35nm、折射率1.63的折射率调整层2。接着，使用棒涂机在上述折射率调整层2上涂布涂敷液，所述涂敷液是用MIBK将折射率调整剂(商品名：“L-005(含中空纳米二氧化硅粒子)”、JSR株式会社制造)调节为固体成分1.5％的涂敷液，在80℃的烘箱中干燥1分钟后，照射累积光量300mJ的紫外线(高压水银灯)，由此形成了膜厚40nm、折射率1.49的折射率调整层1。然后，将具有折射率调整层1、2的PET基材投入到卷取式溅射装置中，在折射率调整层1的表面叠层了作为透明导电层的厚度23nm的铟锡氧化物层(ITO)。 [0118] ＜使用玻璃作为基材的透明导电层的制作＞ [0119] 通过溅射法在无碱玻璃(折射率1.53)的一面形成ITO膜，制作了具有非结晶化ITO膜(折射率1.85)的透明导电性基材。该非结晶性ITO薄膜的Sn比率为3重量％。需要说明的是，ITO薄膜的Sn比率是由Sn原子的重量/(Sn原子的重量+In原子的重量)算出的。 [0120] ＜发挥作为触摸面板传感器的功能的光学构件叠层体的制造＞ [0121] 在上述透明导电层上的一部分形成了光致抗蚀膜后，将其在25℃、5重量％的盐酸(氯化氢水溶液)中浸渍1分钟，进行了透明导电层的蚀刻。由此，制作了存在相当于电极布线图案的透明导电层的部分(图案部)、以及被除去的部分(开口部)。将上述粘合剂片的具有高折射率材料粒子一侧的PET剥离片剥离，在形成了图案的透明导电层上叠层该粘合剂片，使得该粘合剂片的粘合剂层(上述具有高折射率粒子一侧)与该透明导电层相接触。在剥离粘合剂片相反侧的PET剥离片后，贴合用于表面保护及光学测定的载玻片或厚度100μm的环烯烃聚合物膜(商品名：“ZEONOR ZF16”，面内双折射率：0.0001，日本瑞翁株式会社制造)。 [0122] [第2光学构件的制作] [0123] 作为第2光学构件4，准备了如图6(a)所示的叠层体21和如图6(b)所示的叠层体31。如图6(a)所示的叠层体21具有如下结构：在折射率1.53的COP基材22的一个表面上形成了折射率1.65的折射率调整层23，并且在该折射率调整层23上形成了图案化ITO层24。ITO的折射率为1.9。将该叠层体21称为“带ITO的第2光学构件(1)”。 [0124] 如图6(b)所示的叠层体31具有如下结构：在折射率1.57的PET基材32的一个表面上形成了折射率1.63的折射率调整层33，在该折射率调整层33上进一步形成了折射率1.49的另一折射率调整层33a，在该折射率调整层33a上形成了图案化的ITO层34。在这种情况下，ITO的折射率为1.9。将该叠层体31称为“带ITO的第2光学构件(2)”。 [0125] 此外，制作了如图6(c)所示的被称为“带ITO的第2光学构件(3)”的叠层体41。该带ITO的第2光学构件(3)的叠层体41具有在折射率1.53的玻璃基板42上形成有不带图案的ITO层44的结构。 [0126] [实施例1] [0127] 如图7(a)所示，将带有ITO的第2光学构件(1)隔着本发明的一个实施方式的粘合剂层25与构成第1光学构件2的玻璃窗26接合。玻璃窗26的折射率为1.53。粘合剂层25具有由粘合剂A形成的折射率1.49的基础粘合剂分区25a、以及折射率1.68的折射率调整用分区25b。折射率调整用分区25b可以如下获得：将平均粒径20nm的氧化锆粒子分散于乙醇溶液中，形成氧化锆粒子1.5重量％的分散液，将该分散液涂布到由粘合剂A形成的粘合剂层的表面，使氧化锆粒子从粘合剂层的一个表面沿厚度方向浸渗，并使其干燥。粘合剂层25的厚度为150μm，折射率调整用分区25b的厚度为150nm。将该实施例1的折射率调整用分区25b的表面照片示于图8、将其剖面照片示于图9(a)。为了测定反射率，在COP基材22的背面(与折射率调整层23相反侧的面)粘贴了黑色的PET膜27。对如上所述得到的光学构件叠层体的光学特性进行了测定。将结果示于表1。 [0128] [实施例2] [0129] 如图7(b)所示，将带有ITO的第2光学构件(2)隔着本发明的另一实施方式的粘合剂层35与构成第1光学构件2的玻璃窗36接合。玻璃窗36的折射率为1.53。粘合剂层35具有由粘合剂B形成的折射率1.48的基础粘合剂分区35a、以及折射率1.62的折射率调整用分区35b。折射率调整用分区35b可以如下获得：将平均粒径20nm的氧化锆粒子分散于正丙醇溶液中，形成氧化锆粒子2.0重量％的分散液，将该分散液涂布到由粘合剂B形成的粘合剂层的表面，使氧化锆粒子从粘合剂层的一个表面沿厚度方向浸渗，并使其干燥。粘合剂层35的厚度为100μm，折射率调整用分区35b的厚度为500nm。将该实施例2的折射率调整用分区35b的剖面照片示于图9(b)。为了测定反射率，在PET基材32的背面(与折射率调整层33相反侧的面)粘贴黑色的PET膜37。对如上所述得到的光学构件叠层体的光学特性进行了测定。将结果示于表1。 [0130] [实施例3] [0131] 如图7(c)所示，将带有ITO的第2光学构件(3)隔着本发明的另一实施方式的粘合剂层45与构成第1光学构件2的窗46接合。窗46是由ZEONOR膜(ZF14-100、注册商标)制作的折射率1.53的透明构件。粘合剂层45具有由粘合剂C形成的折射率1.46的基础粘合剂分区45a、以及折射率1.70的折射率调整用分区45b。折射率调整用分区45b可以如下获得：将平均粒径30nm的氧化锆粒子分散于乙醇溶液中，形成氧化锆粒子1.5重量％的分散液，将该分散液涂布到由粘合剂C形成的粘合剂层的表面，使氧化锆粒子从粘合剂层的一个表面沿厚度方向浸渗并干燥。粘合剂层45的厚度为25μm，折射率调整用分区45b的厚度为200nm。为了测定反射率，在玻璃基板42的背面(与ITO层44相反侧的面)粘贴了黑色的PET膜47。对如上所述得到的光学构件叠层体的光学特性进行了测定。将结果示于表1。 [0132] [实施例4] [0133] 使用与实施例1不同结构的粘合剂层制作了与图7(a)所示相同的光学构件叠层体。在该实施例中，将带有ITO的第2光学构件(1)隔着本发明的另一实施方式的粘合剂层25与构成第1光学构件2的玻璃窗26接合。玻璃窗26的折射率为1.53。粘合剂层25具有由粘合剂A形成的折射率1.49的基础粘合剂分区25a、以及折射率1.65的折射率调整用分区25b。折射率调整用分区25b可以如下获得：将平均粒径20nm的氧化钛粒子分散于正丁醇溶液中，形成氧化钛粒子0.5重量％的分散液，将该分散液涂布到由粘合剂A形成的粘合剂层的表面，使氧化钛粒子从粘合剂层的一个表面沿厚度方向浸渗并干燥。该实施例的粘合剂层25的厚度为150μm，折射率调整用分区25b的厚度为130nm。为了测定反射率，在COP基材22的背面(与折射率调整层23相反侧的面)粘贴了黑色的PET膜27。对如上所述得到的光学构件叠层体的光学特性进行了测定。将结果示于表1。 [0134] [实施例5] [0135] 使用折射率1.60的苯乙烯低聚物形成折射率调整用分区，由此制作了与图7(a)所示相同的光学构件叠层体。在该实施例中，将带有ITO的第2光学构件(1)隔着本发明的另一实施方式的粘合剂层25与构成第1光学构件2的玻璃窗26接合。玻璃窗26的折射率为1.53。粘合剂层25具有由粘合剂A形成的折射率1.49的基础粘合剂分区25a、以及折射率1.55的折射率调整用分区25b。折射率调整用分区25b可以如下获得：将折射率1.60的苯乙烯低聚物作为固体成分分散于甲苯溶液中，形成固体成分2重量％的分散液，将该分散液涂布到由粘合剂A形成的粘合剂层的表面，使固体成分从粘合剂层的一个表面沿厚度方向浸渗并干燥。该实施例的粘合剂层25的厚度为150μm，折射率调整用分区25b的厚度为300nm。为了测定反射率，在COP基材22的背面(与折射率调整层23相反侧的的面)粘贴了黑色的PET膜27。对如上所述得到的光学构件叠层体的光学特性进行了测定。 将结果示于表1。 [0136] [比较例1] [0137] 将带有ITO的第2光学构件(1)隔着仅由粘合剂A构成的粘合剂层与构成第1光学构件2的折射率1.53的玻璃窗26接合，制作了比较例1的光学构件叠层体。 [0138] [比较例2] [0139] 将带有ITO的第2光学构件(2)隔着仅由粘合剂B构成的粘合剂层与构成第1光学构件2的折射率1.53的玻璃窗26接合，制作了比较例2的光学构件叠层体。 [0140] [比较例3] [0141] 将带有ITO的第2光学构件(3)隔着仅由粘合剂C构成的粘合剂层与构成第1光学构件2的折射率1.53的玻璃窗26接合，制作了比较例3的光学构件叠层体。 [0142] [表1] [0143] [0144] 工业实用性 [0145] 如上所述，对于本发明而言，在与第1光学构件和第2光学构件接合的粘合剂层中，从第2光学构件侧的面沿厚度方向设置了具有比粘合剂基础材料的折射率更高折射率的折射率调整分区，因此，能够抑制外部光的内部反射光透过第1光学构件而返回。本发明可以应用于液晶显示装置及有机EL显示装置这样的光学显示装置。本发明可以特别优选应用于具有触摸传感器的触摸面板方式的显示装置。 |
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