一种用于计算机硬盘的抛光液及其制备方法 |
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申请号 | CN201410792152.X | 申请日 | 2014-12-19 | 公开(公告)号 | CN105086834A | 公开(公告)日 | 2015-11-25 |
申请人 | 李立群; | 发明人 | 李立群; | ||||
摘要 | 本 发明 公开了一种用于计算机 硬盘 的 抛光 液 ,其特征是包括按重量份计:离子 水 15~25份、 氧 化剂2~5份、有机络合剂3~6份和 研磨 剂65~80份;所述 氧化剂 为过氧 醋酸 、超氯酸盐、 硝酸 铁 或过氧异丁酸中的至少一种,所述有机络合剂为有机胺、 有机酸 或有机磷中的至少一种,所述研磨剂为氧化镁溶胶。本发明组分形成中性及 碱 性的抛光液,采用低硬度的研磨剂的方法来提高抛光效果,大大降低了对硬盘边缘的抛光损失,且对抛光机没有任何 腐蚀 效应,增加了抛光机的寿命。 | ||||||
权利要求 | 1.一种用于计算机硬盘的抛光液,其特征是包括按重量份计:离子水15~25份、氧化剂2~5份、有机络合剂3~6份和研磨剂65~80份;所述氧化剂为过氧醋酸、超氯酸盐、硝酸铁或过氧异丁酸中的至少一种,所述有机络合剂为有机胺、有机酸或有机磷中的至少一种,所述研磨剂为氧化镁溶胶。 |
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说明书全文 | 一种用于计算机硬盘的抛光液及其制备方法技术领域[0001] 本发明涉及一种抛光液及其制备方法,尤其涉及一种用于计算机硬盘的抛光液及其制备方法。 背景技术[0003] 抛光可以分为机械抛光、化学抛光和电化学抛光,抛光液主要用于化学抛光和电化学抛光。机械抛光主要利用的是抛光轮与抛光膏的精细磨料对零件进行轻微切削和研磨,除去基体表面的细微不平,达到降低表面粗糙度的目的。抛光膏是由磨料和油脂两大部分组成的,由于所用的磨料不同,油脂种类的差异,使抛光膏形成了多种不同的产品,使用在不同的场合。 [0004] 化学抛光时金属表面上微观的凸起处在化学抛光液中的溶解速度比在微观凹下去处的快,结果表面逐渐整平而获得光滑、光亮表面的过程。 [0005] 电化学抛光是对金属制品表面进行精加工的一种电化学方法,即把金属工件置于所组成的电抛光液中,作为阳极进行处理,降低工件表面微观结构的粗糙度,从而获得镜面般的光泽表面。一般对于难以用机械、化学方式抛光的或形状较为复杂且光洁度要求高的工件多采用电化学抛光。 [0006] 现有的抛光液为酸性,具有一定的腐蚀性,应用于计算机硬盘时容易对计算机硬盘的边缘产生损伤,且容易影响抛光机的寿命。 发明内容[0007] 本发明的目的是针对现有技术的不足,提供一种能够不对计算机硬盘的边缘产生损伤的抛光液。 [0008] 本发明采用的技术方案是:一种用于计算机硬盘的抛光液,其特征是包括按重量份计:离子水15~25份、氧化剂2~5份、有机络合剂3~6份和研磨剂65~80份;所述氧化剂为过氧醋酸、超氯酸盐、硝酸铁或过氧异丁酸中的至少一种,所述有机络合剂为有机胺、有机酸或有机磷中的至少一种,所述研磨剂为氧化镁溶胶。 [0009] 一种用于计算机硬盘的抛光液的制备方法,其特征是在去离子水中加入氧化剂、有机络合剂和研磨剂,搅拌均匀,调节PH值至7~10。 [0010] 作为本发明的进一步改进,所述有机胺为三乙胺或二异丁基胺。 [0012] 作为本发明的进一步改进,在调节PH值前加入表面活性剂,在调节PH值至7~10。 |