化合物及二向色性色素以及偏光膜 |
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| 申请号 | CN201310064833.X | 申请日 | 2013-02-28 | 公开(公告)号 | CN103333083B | 公开(公告)日 | 2017-11-21 |
| 申请人 | 住友化学株式会社; | 发明人 | 大川春树; 幡中伸行; | ||||
| 摘要 | 本 发明 的课题是提供在 波长 400~520nm具有最大吸收、可形成二色性比高的偏光膜的新型化合物及含有所述新型化合物的偏光膜等。本发明提供式（1）所表示的化合物、含有所述化合物和 液晶 性化合物的组合物、由所述组合物形成的偏光膜等。[式（1）中，Y是式（Y1）或式（Y2）所表示的基团。R1是式（R1‑1）~式（R1‑3）的任意一个所表示的基团。R2是式（R2‑1）~式（R2‑6）的任意一个所表示的基团。 | ||||||
| 权利要求 | 1.一种偏光膜，其特征在于，由含有式(1)表示的化合物和式(2)表示的聚合性液晶化合物的组合物形成、含有近晶型液晶相状态的聚合性液晶化合物的聚合物，式(1)中， |
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| 说明书全文 | 化合物及二向色性色素以及偏光膜技术领域[0001] 本发明涉及新型化合物及二向色性色素以及使用了所述二向色性色素的偏光膜等。 背景技术[0002] 用于液晶显示装置的起偏器通常使用着由用碘染色了的聚乙烯醇构成的薄膜。另一方面，最近的液晶显示装置对其薄膜化要求强烈，也此相应，起偏器也追求着更薄型的起 偏器。作为薄型起偏器所具有的偏光膜，已知含有二向色性色素的偏光膜。 [0003] 例如，专利文献1中，虽然记载着通过蒸镀特定的多偶氮系色素材料来形成的偏光膜，但此偏光膜的形成需要像蒸镀装置这样的特殊的装置，故不能说是在工业上有利的方 法。另一方面，专利文献2中，虽然记载着由含有具有高度近晶型Sx相的聚合性液晶化合物 和二向色性色素的组合物形成的偏光膜，但皆未记载在波长400 520nm具有最大吸收的二 ~ 向色性色素、含有所述二向色性色素的组合物、由所述组合物形成的偏光膜。作为在波长 400 520nm具有最大吸收的黄色 橙色的二向色性色素，专利文献3中记载着具有1,4-萘基 ~ ~ 结构的双偶氮系色素。 [0004] [现有技术文献] [0005] [专利文献] [0006] [专利文献1]日本专利第3687130号 [0007] [专利文献2]日本专利第4719156号 [0008] [专利文献3]日本专利第1454637号 发明内容[0009] 发明要解决的问题 [0010] 然而，本发明人研究的结果是明确了：使专利文献3记载的二向色性色素（双偶氮系色素）与高度近晶型液晶化合物组合时，在分散于由所述高度近晶型液晶化合物形成的 紧密的分子链之间的状态下，只能制得二色性比低、偏光性能差的偏光膜。本发明的目的在 于提供在波长400 520nm具有最大吸收，可形成二色性比高的偏光膜的化合物、以所述化 ~ 合物为有效成分的二向色性色素、含有所述二向色性色素和聚合性液晶化合物的组合物以 及由所述组合物形成的偏光膜。 [0011] 解决问题的手段 [0012] 本发明包括以下的发明。 [0013] [1]一种化合物，其特征在于，以式（1）表示。 [0014] [0015] [式（1）中， [0016] Y是式（Y1）或式（Y2）所表示的基团。 [0017] [0019] R1是式（R1-1）、式（R1-2）或式（R1-3）所表示的基团。 [0020] [0022] R2是式（R2-1）、式（R2-2）、式（R2-3）、式（R2-4）、式（R2-5）或式（R2-6）所表示的基团。 [0023] [0024] （式中，mb是0 10的整数。*表示键合位置。）]~ [0025] [2]一种二向色性色素，其特征在于，以[1]记载的化合物为有效成分。 [0026] [3]一种组合物，其特征在于，含有[1]记载的化合物和聚合性液晶化合物。 [0027] [4]根据[3]记载的组合物，其特征在于，所述聚合性液晶化合物是显示近晶型液晶相的化合物。 [0028] [5]根据[3]或[4]记载的组合物，其特征在于，进一步含有溶剂。 [0029] [6]根据[3] [5]的任意一项记载的组合物，其特征在于，进一步含有聚合引发剂。~ [0030] [7]一种偏光膜，其特征在于，由[3] [6]的任意一项记载的组合物形成。~ [0031] [8]根据[7]记载的偏光膜，其特征在于，偏光膜的最大吸收波长（λmax1）移动至比二向色性色素的最大吸收波长（λmax2）还长的波长。 [0032] [9]根据[7]或[8]记载的偏光膜，其特征在于，偏光膜的最大吸收波长（λmax1）与二向色性色素的最大吸收波长（λmax2）之差在20nm以上。 [0034] [11]一种起偏器，其特征在于，具有[7] [10]的任意一项记载的偏光膜和透明基~ 材。 [0035] [12]一种起偏器的制造方法，其特征在于，具有：准备在透明基材上取向膜积层而成的积层体的工序、 [0036] 在所述积层体的所述取向膜上涂布[3] [6]的任意一项记载的组合物来形成涂布~ 膜的工序和 [0037] 使所述涂布膜中包含的所述聚合性液晶化合物聚合的工序。 [0038] [13]一种起偏器的制造方法，其特征在于，具有：在透明基材上形成光取向膜来形成积层体的工序、 [0039] 在所述积层体的所述光取向膜上涂布[3] [6]的任意一项记载的组合物来形成涂~ 布膜的工序和、 [0040] 使所述涂布膜中包含的所述聚合性液晶化合物聚合的工序。 [0041] [14]一种液晶显示装置，其特征在于，具备[7] [10]的任意一项记载的偏光膜。~ [0042] [15]一种圆偏振板，其特征在于，具有[7] [10]的任意一项记载的偏光膜和1/4波~ 长板，满足以下的（A1）及（A2）的必要条件。 [0043] （A1）所述偏光膜的吸光轴与所述1/4波长板的慢轴所成的角度约为45°； [0045] [16]一种有机EL显示装置，具备[15]记载的圆偏振板和有机EL元件。 [0046] 发明效果 [0047] 根据本发明，可提供在波长400 520nm具有最大吸收、可形成二色性比高的偏光膜~ 的化合物、以所述化合物为有效成分的二向色性色素、含有所述二向色性色素和聚合性液 晶化合物的组合物以及由所述组合物形成的偏光膜。 附图说明 [0048] [图1]是包含本发明的偏光膜的起偏器（本起偏器）的连续的制造方法的示意图。 [0049] [图2]是表示光取向膜的取向方向D2和薄膜的搬运方向D1之间的关系的示意图。 [0050] [图3]是表示使用了本发明的偏光膜的液晶显示装置的截面构成的示意图。 [0051] [图4]是表示用于图3的液晶显示装置的本起偏器的层序的示意图。 [0052] [图5]是表示用于图3的液晶显示装置的本起偏器的层序的示意图。 [0053] [图6]是表示使用了本发明的偏光膜的EL显示装置的截面构成的示意图。 [0054] [图7]是表示包含本发明的偏光膜的本起偏器的实施方式的截面构成的示意图。 [0055] [图8]是表示包含本发明的偏光膜的圆偏振板（本圆偏振板）的连续的制造方法的一个例子的示意图。 [0056] [图9]是表示用于图6的EL显示装置的本圆偏振板的层序的示意图。 [0057] [图10]是表示使用本发明的偏光膜的EL显示装置的截面构成的示意图。 [0058] [图11]是显示使用了本发明的偏光膜的投射型液晶显示装置的构成的概略图。 [0059] 符号说明 [0060] 1透明基材 [0061] 2光取向膜 [0062] 3本偏光膜 [0063] 100本起偏器 [0064] 210第1辊 210A卷芯 [0065] 220第2辊 220A卷芯 [0066] 230第3辊 230A卷芯 [0067] 240第4辊 240A卷芯 [0068] 211A、211B涂布装置 [0069] 212A、212B干燥炉 [0070] 213A偏振光UV照射装置 [0071] 213B光照射装置 [0072] 300辅助辊 [0073] 10液晶显示装置 [0074] 12a、12b起偏器 [0075] 13a、13b相位差层 [0076] 14a、14b基板 [0077] 15滤色器 [0079] 17液晶层 [0080] 18层间绝缘膜 [0081] 19背光模组 [0082] 20黑点矩阵 [0083] 21薄膜晶体管 [0085] 23垫片 [0086] 30EL显示装置 [0087] 31圆偏振板 [0088] 32相位差膜 [0089] 33基板 [0090] 34层间绝缘膜 [0091] 35像素电极 [0092] 36有机功能层 [0094] 38干燥剂 [0095] 39密封盖 [0096] 40薄膜晶体管 [0097] 41肋（Rib） [0098] 42薄膜密封膜 [0099] 44EL显示装置 [0101] 112第1透镜阵列 [0102] 112a透镜 [0103] 113第2透镜阵列 [0104] 114偏振光转换元件 [0105] 115复合透镜 [0106] 121、123、132分色镜 [0107] 122反射镜 [0108] 140R、140G、140B液晶面板 [0109] 142、143起偏器 [0110] 150十字分色棱镜（Crossdichroicprism） [0111] 170投射透镜 [0112] 180投影屏 具体实施方式[0113] 本发明提供所述式（1）所表示的化合物（以下，根据情况称之为“化合物（1）”。）、以化合物（1）为有效成分的二向色性色素（以下，根据情况称之为“二向色性色素（1）”。）、含有所述二向色性色素和聚合性液晶化合物的组合物（以下，根据情况称之为“偏光膜形成用组合物”。）、由偏光膜形成用组合物形成的偏光膜（以下，根据情况称之为“本偏光膜”。）。本偏光膜不仅可适宜地用于液晶显示装置，还使得制造适于有机EL显示装置的圆偏振板（以下， 根据情况称之为“本圆偏振板”。）成为可能。首先，对化合物（1）进行说明。 [0114] <化合物（1）> [0115] 化合物（1）是所述式（1）所表示的物质。 [0116] 化合物（1）的优选的形态通过列举所述式（1）的各基团等来说明。 [0117] 优选化合物（1）的偶氮苯部位的几何异构为反式。 [0118] 式（1）中的Y为所述式（Y1）或式（Y2）所表示的基团，优选为式（Y1）所表示的基团。式（Y1）及式（Y2）中，两端的直线表示键合位置，左侧的键合位置与具有偶氮基的亚苯基键合，右侧的键合位置与具有R2的亚苯基键合。L为氧原子或-NR-，R为氢原子或碳原子数1 4 ~ 的烷基。作为所述烷基，可列举出甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、异丁基及叔丁基等。 其中，优选L为氧原子或-NH-，进一步优选为氧原子。 [0119] R1为所述式（R1-1）、式（R1-2）或式（R1-3）所表示的基团，优选为式（R1-2）及式（R1-3）所表示的基团。式（R1-2）所表示的基团中的2个ma可以分别相同或不同，优选为相同。进一步优选ma为0 5的整数。 ~ [0120] R2为所述式（R2-1）、式（R2-2）、式（R2-3）、式（R2-4）、式（R2-5）或式（R2-6）所表示的基团，更优选为式（R2-2）、式（R2-5）或式（R2-6）所表示的基团，进一步优选为式（R2-6）所表示的基团。R2为式（R2-1）、式（R2-2）、式（R2-3）、式（R2-5）或式（R2-6）所表示的基团时，优选所述基团中包含的mb为0 5的整数，进一步优选为0 3的整数。~ ~ [0121] 作为优选的化合物（1），可列举出下述式（1-1）式（1-8）所表示的化合物等。~ [0122] [0123] 其中，优选式（1-1）、式（1-2）、式（1-3）、式（1-5）、式（1-7）及式（1-8）所表示的化合物，特别优选为式（1-1）、式（1-2）、式（1-3）及式（1-7）所表示的化合物。 [0124] 此处，对化合物（1）的制备方法进行说明。化合物（1）可以由例如式（1X）所表示的化合物[化合物（1X）]和式（1Y）所表示的化合物[化合物（1Y）]通过下述图式所显示的反应来制备。 [0125] [0126] 所述图式中，R1、R2及Y与上述意思相同，Re1及Re2是互相反应而成为Y所表示的基团的基团。作为Re1及Re2的组合，可列举如：羧基及羟基的组合、羧基及氨基（这样的氨基可以被R取代）的组合、碳酰卤基及羟基的组合、碳酰卤基及氨基（这样的氨基可以被R取代）的组合、碳酰氧基烷基及羟基的组合、碳酰氧基烷基及氨基（这样的氨基可以被R取代）的组合等。此外，此处虽然对具有R1的化合物（1X）及具有R2的化合物（1Y）进行说明，但是也可以使通过适当的保护基保护R1而成的化合物和通过适当的保护基保护R2而成的化合物互相反 应，之后，通过进行适当的脱保护反应来制造化合物（1）。 [0127] 使化合物（1X）及化合物（1Y）反应时的反应条件可以根据使用的化合物（1X）及化合物（1Y）的种类来适当选择最适的公知的条件。 [0128] 例如，作为Re1为羧基、Re2为羟基、Y为-C（=O）-O-时的反应条件，可列举如：在溶剂中，在酯化缩合剂的存在下进行缩合的条件。作为溶剂，可列举出氯仿等可同时溶解化合物（1X）及化合物（1Y）的溶剂。作为酯化缩合剂，可列举出二异丙基碳化二亚胺（IPC）等。此处，进一步优选并用二甲基氨基吡啶（DMAP）等的碱。反应温度可以根据化合物（1X）及化合物 （1Y）的种类来选择，但可列举如-15 70℃的范围，优选为0 40℃的范围。反应时间可列举如~ ~ 15分钟 48小时的范围。 ~ [0129] 还可以对反应过程中的反应混合物进行适当抽样，通过液相色谱法或气相色谱法等公知的分析方法，确认化合物（1X）及化合物（1Y）的消失的程度、化合物（1）的生成的程度，从而确定反应时间。 [0130] 通过重结晶、再沉淀、萃取及各种色谱法等公知的方法或通过组合这些操作，可以从反应后的反应混合物提取出化合物（1）。 [0131] 化合物（1）作为用于偏光膜的二向色性色素而有用。只要这样的二向色性色素处于不显著损害在400 520nm的范围具有最大吸收的程度，就可以含有化合物（1）以外的化合 ~ 物，但优选仅由化合物（1）构成的二向色性色素。二向色性色素（1）进一步优选为其 最大吸收为430 520nm，特别优选为440 510nm。而且，若二向色性色素（1）为显示所述范围的最大~ ~ 吸收的物质，则所述二向色性色素（1）就可以含有多种化合物（1）。 [0132] <偏光膜形成用组合物> [0133] 接着，对本发明的偏光膜形成用组合物进行说明。偏光膜形成用组合物含有聚合性液晶化合物。 [0134] 相对于聚合性液晶化合物100质量份，优选偏光膜形成用组合物中的二向色性色素（1）的含量在50质量份以下，更优选为0.1质量份以上、10质量份以下的范围，进一步优选为0.1质量份以上、5质量份以下的范围。若在所述范围内，则二向色性色素（1）对溶剂的溶解性充分，易制得没有产生缺陷的本偏光膜。此外，若二向色性色素（1）的含量在上述范围内，则在偏光膜的形成中，聚合性液晶化合物的取向不易混乱从而优选。 [0135] 对本发明的偏光膜形成用组合物中的二向色性色素（1）以外的构成成分进行说明。 [0136] <聚合性液晶化合物> [0137] 通过将含有二向色性色素（1）和聚合性液晶化合物的偏光膜形成用组合物在使聚合性液晶化合物取向的状态下聚合，形成本偏光膜。所谓聚合性液晶化合物是分子内具有 聚合性基团的液晶化合物，特别优选所述聚合性基团为自由基聚合性基团。自由基聚合性 基团是指参与自由基聚合反应的基团。 [0138] 本发明的偏光膜形成用组合物中包含的聚合性液晶化合物可以是显示向列型液晶相的化合物，也可以是显示近晶型液晶相的化合物，还可以是显示向列型液晶相及近晶 型液晶相两者的化合物，但优选为至少显示近晶型液晶相的聚合性近晶型液晶化合物。从 可获得偏光性能更优异的本偏光膜方面考虑，优选含有聚合性近晶型液晶化合物的偏光膜 形成用组合物，进一步，因二向色性色素（1）即使处于由聚合性近晶型液晶化合物形成的、分散于紧密的分子链之间的状态，也可制得二色性比极高的本偏光膜，故可更进一步获得 所述二向色性色素（1）的效果。 [0139] 作为聚合性近晶型液晶化合物所显示的近晶型液晶相，更优选为多维近晶型液晶相。此处所述的多维近晶型液晶相是指近晶B相、近晶D相、近晶E相、近晶F相、近晶G相、近晶H相、近晶I相、近晶J相、近晶K相及近晶L相，其中，更优选为近晶B相、近晶F相及近晶I相。若聚合性液晶化合物所显示的近晶型液晶相为这些多维近晶型液晶相，则可制造取向有序度 更高的本偏光膜。此外，像这样由取向有序度高的多维近晶型液晶相制作的本偏光膜在X射 线衍射测定中可得到来源于六角相或结晶相这样的多维结构的 布拉格峰。所述布拉格峰 是指来源于分子取向的面周期结构的峰，通过本发明的偏光膜形成用组合物，可制得周期 间隔为 的本偏光膜。 [0140] 偏光膜形成用组合物中包含的聚合性液晶化合物是否显示向列型液晶性或近晶型液晶性，例如可以如下进行确认。准备适当的基材，在所述基材上涂布偏光膜形成用组合 物形成涂布膜后，在聚合性液晶化合物不会聚合的条件下通过加热处理或减压处理来除去 涂布膜中含有的溶剂。接着，将在基材上形成的涂布膜加热至各向同性相温度，通过使用偏 振光显微镜进行的纹理观察、X射线衍射测定或差示扫描热量测定来检查通过缓缓冷却而 显现出的液晶相。在该检查中，特别优选为例如，通过冷却而显示向列型液晶相，进一步冷 却而显示近晶型液晶相的聚合性液晶化合物。在向列型液晶相及近晶型液晶相中，例如，通 过使用各种显微镜进行的表面观察或使用雾度仪进行的散射度测定可以确认聚合性液晶 化合物和二向色性色素(1)没有发生相分离。 [0141] 以下，列举出作为在偏光膜形成用组合物中使用的聚合性液晶化合物优选的化合物的具体例。 [0142] 作为优选的聚合性液晶组合物，可列举如式(2)所表示的化合物(以下，根据情况称之为“化合物(2)”)。 [0143] U1-V1-W1-X1-Y1-X2-Y2-X3-W2-V2-U2 (2) [0144] [式(2)中， [0145] X1、X2及X3互相独立地表示具有或不具有取代基的1，4-亚苯基或具有或不具有取代基的1，4-亚环己基。但是，X1、X2及X3之中至少1个为具有或不具有取代基的1，4-亚苯基。 构成具有或不具有取代基的1，4-亚环己基的-CH2-可以被-O-、-S-或-NR-取代。R为碳原子 数1～6的烷基或苯基。 [0146] Y1及Y2互相独立地表示-CH2CH2-、-CH2O-、-COO-、-OCOO-、单键、-N＝N-、-CRa=CRb-、-C≡C-或-CRa＝N-。Ra及Rb互相独立地表示氢原子或碳原子数1～4的烷基。 [0147] U1表示氢原子或聚合性基团。 [0148] U2表示聚合性基团。 [0149] W1及W2互相独立地表示单键、-O-、-S-、-COO-或-OCOO-。 [0150] V1及V2互相独立地表示具有或不具有取代基的碳原子数1～20的亚烷基，构成所述亚烷基的-CH2-可以被-O-、-S-或-NH-取代。] [0151] 化合物(2)中，X1、X2及X3之中，优选至少2个为具有或不具有取代基的1，4-亚苯基。 [0152] 优选具有或不具有取代基的1,4-亚苯基未取代。优选具有或不具有取代基的1,4-环亚己基为具有或不具有取代基的反式-1,4-环亚己基，更优选具有或不具有取代基的反 式-1,4-环亚己基未取代。 [0153] 作为具有或不具有取代基的1,4-亚苯基或具有或不具有取代基的1,4-环亚己基任意具有的取代基，可列举出甲基、乙基及丁基等碳原子数1 4的烷基；氰基；卤原子等。 ~ [0154] 优选化合物（2）的Y1为-CH2CH2-、-COO-或单键，优选Y2为-CH2CH2-或-CH2O-。 [0155] U2为聚合性基团。U1为氢原子或聚合性基团，优选为聚合性基团。优选U1及U2皆为聚合性基团，更优选皆为光聚合性基团。此处，光聚合性基团是指通过由后述光聚合引发剂 产生的活性自由基或酸等可参与聚合反应的基团。具有光聚合性基团的聚合性液晶化合物 在可在更低温条件下聚合的方面有利。 [0156] 化合物（2）中，U1及U2的聚合性基团可以互相不同，但优选为相同种类的基团。作为聚合性基团，可列举出乙烯基、乙烯基氧基、1-氯乙烯基、异丙烯基、4-乙烯基苯基、丙烯酰氧基、甲基丙烯酰氧基、环氧乙基、氧杂环丁基等。其中，优选为丙烯酰氧基、甲基丙烯酰氧基、乙烯基氧基、环氧乙基及氧杂环丁基，更优选为丙烯酰氧基。 [0157] 作为V1及V2所表示的具有或不具有取代基的碳原子数1 20的亚烷基中的碳原子数~ 1 20的亚烷基，可列举出亚甲基、亚乙基、1,3-亚丙基、1,3-亚丁基、1,4-亚丁基、1,5-亚戊~ 基、1,6-亚己基、1,7-亚庚基、1,8-亚辛基、1,10-亚癸基、1,14-亚十四烷基及1,20-亚二十烷基等。优选V1及V2为碳原子数2 12的亚烷基，更优选为碳原子数6 12的亚烷基。 ~ ~ [0158] 作为具有或不具有取代基的碳原子数1 20的亚烷基任意具有的取代基，虽然可列~ 举出氰基及卤原子等，但优选所述亚烷基未取代，更优选未取代并且直链状的亚烷基。 [0159] W1及W2互相独立地优选为单键或-O-。 [0160] 作为化合物（2），可列举出式（2-1）式（2-43）所表示的化合物等。这样的化合物~（2）的具体例具有1,4-环亚己基时，优选这样的1,4-环亚己基为反式体。 [0161] [0162] [0163] [0164] [0165] 聚合性液晶化合物可以单独或2种以上混合用于偏光膜形成用组合物中。此外，混合2种以上时，优选至少1种为化合物（2）。作为混合2种聚合性液晶化合物时的混合比，通常为1:99 50:50，优选为5:95 50:50，更优选为10:90 50:50。 ~ ~ ~ [0166] 举例示出的化合物（2）之中，优选为式（2-5）、式（2-6）、式（2-7）、式（2-8）、式（2-9）、式（2-10）、式（2-11）、式（2-12）、式（2-13）、式（2-14）、式（2-15）、式（2-22）、式（2-24）、式（2-25）、式（2-26）、式（2-27）、式（2-28）及式（2-29）所表示的化合物。通过这些化合物与其他聚合性液晶化合物的相互作用，在低于结晶相转变温度的温度条件下，即在充分保持高 度近晶相的液晶状态的状态下，可容易地聚合。具体地，这些化合物在70℃以下，优选为60 ℃以下的温度条件下，在充分保持高度近晶相的液晶状态的状态下可进行聚合。 [0167] 相对于偏光膜形成用组合物的固态成分，优选偏光膜形成用组合物中的聚合性液晶化合物的含有比例为50 99.9质量%，更优选为80 99.9质量%。若聚合性液晶化合物的含 ~ ~ 有比例在上述范围内，则有聚合性液晶化合物的取向性变高的倾向从而优选。此处，固态成 分是指，从偏光膜形成用组合物除去溶剂等挥发性成分后的成分的总量。 [0168] 聚合性液晶化合物可以根据例如Lub et al.Recl.Trav.Chim.Pays-Bas，115，321-328（1996）或日本专利第4719156号等中记载的公知方法来制备。 [0169] <溶剂> [0170] 优选本发明的偏光膜形成用组合物含有溶剂。作为溶剂，优选为可完全溶解聚合性液晶化合物以及二向色性色素（1）的溶剂。此外，优选为对偏光膜形成用组合物中包含的聚合性液晶化合物的聚合反应呈惰性的溶剂。 [0171] 作为溶剂，可列举出甲醇、乙醇、乙二醇、异丙醇、丙二醇、乙二醇甲醚、乙二醇丁醚及丙二醇单甲醚等醇溶剂；乙酸乙酯、乙酸丁酯、乙二醇甲醚乙酸酯、γ-丁内酯或丙二醇甲醚乙酸酯及乳酸乙酯等酯溶剂；丙酮、甲基乙基酮、环戊酮、环己酮、2-庚酮及甲基异丁基酮等酮溶剂；戊烷、己烷及庚烷等脂肪族烃溶剂；甲苯及二甲苯等芳香族烃溶剂；乙腈等腈溶剂；四氢呋喃及二甲氧基乙烷等醚溶剂；氯仿及氯苯等含氯溶剂；等。这些溶剂可以单独使 用，也可以多种组合使用。 [0172] 相对于偏光膜形成用组合物的总量，优选溶剂的含有比例为50 98质量%。换言之，~ 优选偏光膜形成用组合物中的固态成分为2 50质量%。若固态成分为2质量%以上，则有易制 ~ 得薄型的本偏光膜的倾向从而优选。此外，若所述固态成分为50质量%以下，则因偏光膜形 成用组合物的粘度变低，通过偏光膜的厚度变得大致均一，有在所述偏光膜中变得不易产 生不均匀的倾向从而优选。此外，可以考虑偏光膜的厚度来确定这样的固态成分。 [0173] <聚合反应助剂> [0174] 优选本发明的偏光膜形成用组合物含有聚合引发剂。聚合引发剂是可以引发聚合性液晶化合物的聚合反应的化合物。作为聚合引发剂，在低温条件下可引发所述聚合反应 方面，优选为光聚合引发剂。具体地，通过光的作用产生活性自由基或酸的化合物可用作光 聚合引发剂。光聚合引发剂之中，更优选为通过光的作用产生活性自由基的物质。 [0175] 作为聚合引发剂，可列举如：安息香化合物、二苯甲酮化合物、烷基苯基酮化合物、酰基氧化膦化合物、三嗪化合物、碘鎓盐及锍盐等。 [0176] 作为安息香化合物，可列举如：安息香、安息香甲醚、安息香乙醚、安息香异丙醚及安息香异丁醚等。 [0177] 作为二苯甲酮化合物，可列举如：二苯甲酮、邻苯甲酰苯甲酸甲酯、4-苯基二苯甲酮、4-苯甲酰基-4’-甲基二苯基硫化物、3,3’,4,4’-四（叔丁基过氧羰基）二苯甲酮及2,4, 6-三甲基二苯甲酮等。 [0178] 作为烷基苯酮化合物，可列举如：二乙氧基苯乙酮、2-甲基-2-吗啉基-1-（4-甲基硫基苯基）-1-丙酮、2-苄基-2-二甲基氨基-1-（4-吗啉基苯基）-1-丁酮、2-羟基-2-甲基-1-苯基-1-丙酮、1,2-二苯基-2,2-二甲氧基-1-乙酮、2-羟基-2-甲基-1-[4-（2-羟基乙氧基） 苯基]-1-丙酮、1-羟基环己基苯基酮及2-羟基-2-甲基-1-[4-（1-甲基乙烯基）苯基]-1-丙 酮的低聚物等。 [0179] 作为酰基氧化膦化合物，可列举出2,4,6-三甲基苯甲酰基二苯基氧化膦及双（2,4,6-三甲基苯甲酰基）苯基氧化膦等。 [0180] 作为三嗪化合物，可列举如：2,4-双（三氯甲基）-6-（4-甲氧基苯基）-1,3,5-三嗪、2,4-双（三氯甲基）-6-（4-甲氧基萘基）-1,3,5-三嗪、2,4-双（三氯甲基）-6-（4-甲氧基苯乙烯基）-1,3,5-三嗪、2,4-双（三氯甲基）-6-[2-（5-甲基-2-呋喃基）乙烯基]-1,3,5-三嗪、2, 4-双（三氯甲基）-6-[2-（2-呋喃基）乙烯基]-1,3,5-三嗪、2,4-双（三氯甲基）-6-[2-（4-二乙氨基-2-甲基苯基）乙烯基]-1,3,5-三嗪及2,4-双（三氯甲基）-6-[2-（3,4-二甲氧基苯 基）乙烯基]-1,3,5-三嗪等。 [0181] 聚合引发剂还可以使用市售的物品。作为市售的聚合引发剂，可列举出“艳佳固（Irgacure）907”、“艳佳固184”、“艳佳固651”、“艳佳固819”、“艳佳固250”、“艳佳固369”（汽巴·日本（株））；“Seikuol（セイクオ一ル）BZ”、“Seikuol Z”、“Seikuol BEE”（精工化学（株））；“kayacure（カヤキユア一）BP100”（日本化药（株））；“kayacure UV I-6992”（陶氏公司制）；“Adeka Optomer（アデカオプトマ一）SP-152”，“Adeka Optomer SP-170”（（株）艾迪科）；“TAZ-A”、“TAZ-PP”（日本大昌华嘉社）；及“TAZ-104”（三和化学社）等。 [0182] 偏光膜形成用组合物含有聚合引发剂时，其含量可以根据偏光膜形成用组合物中含有的聚合性液晶化合物的种类及其量做适当调整，通常，相对于聚合性液晶化合物的含 量100质量份，聚合引发剂的含量为0.1 30质量份，优选为0.5 10质量份，更优选为0.5 8质 ~ ~ ~ 量份。若聚合引发剂的含量在所述范围内，则因可在不会使聚合性液晶化合物的取向混乱 的情况下使其聚合故而优选。 [0183] 偏光膜形成用组合物含有光聚合引发剂时，偏光膜形成用组合物可以含有光敏化剂。作为光敏化剂，可列举如：氧杂蒽酮及硫杂蒽酮等氧杂蒽酮化合物（例如，2,4-二乙基硫杂蒽酮、2-异丙基硫杂蒽酮等）；蒽及含烷氧基的蒽（例如，二丁氧基蒽等）等蒽化合物；吩噻嗪及红荧烯等。 [0184] 偏光膜形成用组合物含有光聚合引发剂及光敏化剂时，偏光膜形成用组合物中含有的聚合性液晶化合物的聚合反应被进一步促进。 [0185] 这样的光敏化剂的含量可以根据并用的光聚合引发剂及聚合性液晶化合物的种类及其量做适当调整，通常，相对于聚合性液晶化合物的含量100质量份，其为0.1 30质量 ~ 份，优选为0.5 10质量份，更优选为0.5 8质量份。 ~ ~ [0186] 为了使聚合性液晶化合物的聚合反应稳定地进行，偏光膜形成用组合物可以含有阻聚剂。通过阻聚剂，可控制聚合性液晶化合物的聚合反应进行的程度。 [0187] 作为阻聚剂，可列举如：对苯二酚、含烷氧基的对苯二酚、含烷氧基的邻苯二酚（例如，丁基邻苯二酚等）、邻苯三酚、2,2,6,6-四甲基-1-哌啶氧基自由基等自由基捕获剂；苯硫酚类；β-萘胺类及β-萘酚类等。 [0188] 偏光膜形成用组合物含有阻聚剂时，其含量可以根据使用的聚合性液晶化合物的种类及其量以及光敏化剂的含量等做适当调整，通常，相对于聚合性液晶化合物的含量100 质量份，其为0.1 30质量份，优选为0.5 10质量份，更优选为0.5 8质量份。若阻聚剂的含量~ ~ ~ 在上述范围内，则因可在不使偏光膜形成用组合物中包含的聚合性液晶化合物的取向混乱 的情况下使其聚合故而优选。 [0189] <流平剂> [0190] 优选偏光膜形成用组合物含有流平剂。流平剂是指具有调节偏光膜形成用组合物的流动性、使涂布偏光膜形成用组合物而制得的涂布膜更加平坦的功能的物质，可列举出 表面活性剂等。作为优选的流平剂，可列举出以聚丙烯酸酯化合物为主成分的流平剂以及 以含氟原子的化合物为主成分的流平剂等。 [0191] 作为以聚丙烯酸酯化合物为主成分的流平剂，可列举出“BYK-350”、“BYK-352”、“BYK-353”、“BYK-354”、“BYK-355”、“BYK-358N”、“BYK-361N”、“BYK-380”、“BYK-381”及“BYK-392”[毕克化学公司]等。 [0192] 作为以含氟原子的化合物为主成分的流平剂，可列举出“Megafac（メガフアツク）R-08”、Megafac“R-30”、Megafac“R-90”、Megafac“F-410”、Megafac“F-411”、Megafac“F- 443”、Megafac“F-445”、Megafac“F-470”、Megafac“F-471”、Megafac“F-477”、Megafac“F- 479”、Megafac“F-482”及Megafac“F-483”[大日本油墨化学（株）]；“Surflon（サ一フロン）S-381”、Surflon“S-382”、Surflon“S-383”、Surflon“S-393”、Surflon“SC-101”、Surflon“SC-105”、“KH-40”及“SA-100”[AGC Seimi Chemical（AGCセイミケミカル）（株）]；“E1830”、“E5844”[（株）大金精细化学研究所]；“EFTOP（エフトツプ）EF301”、EFTOP“EF303”、EFTOP“EF351”及EFTOP“EF352”[三菱材料电子化成（株）]等。 [0193] 偏光膜形成用组合物含有流平剂时，相对于聚合性液晶化合物的含量100质量份，其含量通常为0.3质量份以上、5质量份以下，优选为0.5质量份以上、3质量份以下。若流平 剂的含量在所述范围内，则因易使聚合性液晶化合物进行水平取向并且有制得的偏光膜变 得更平滑的倾向故而优选。若相对于聚合性液晶化合物的流平剂的含量超过所述范围，则 有在制得的本偏光膜中易产生不均匀的倾向。而且，偏光膜形成用组合物可以含有2种以上 的流平剂。 [0194] <本偏光膜的形成方法> [0195] 接着，对由偏光膜形成用组合物形成本偏光膜的方法进行说明。在这样的方法中，通过将偏光膜形成用组合物涂布在基材上，优选涂布在透明基材上，形成本偏光膜。以下， 对透明基材进行说明。 [0196] <透明基材> [0197] 透明基材是指具有可透过光、特别是可透过可见光的程度的透明性的基材。所述透明性是指，在波长380 780nm的范围对光线的透光率在80%以上的特性。具体地，作为透明 ~ 基材，可列举出玻璃基材及塑料基材等。作为构成塑料基材的塑料，可列举如：聚乙烯、聚丙烯、降冰片烯系聚合物等聚烯烃；环状烯烃系树脂；聚乙烯醇；聚对苯二甲酸乙二醇酯；聚甲基丙烯酸酯；聚丙烯酸酯；三乙酰纤维素、二乙酰纤维素及纤维素乙酸酯丙酸酯等纤维素 酯；聚萘二甲酸乙二醇酯；聚碳酸酯；聚砜；聚醚砜；聚醚酮；聚苯硫醚及聚苯醚等塑料。其中，从可以从市场容易地获取、透明性优异方面考虑，尤其优选为纤维素酯、 环状烯烃系树脂、聚对苯二甲酸乙二醇酯或聚甲基丙烯酸酯。使用这样的透明基材制造本偏光膜时，从可 在搬运、保管所述透明基材时不会引起破坏等破损的情况下容易地进行操作的方面考虑， 还可在所述透明基材上贴上支撑基材等。此外，如下所述，由本偏光膜制造圆偏振板时，有 赋予塑料基材以相位差性的情况。此情况下，只要通过对塑料基材进行拉伸处理等来赋予 相位差性即可。 [0198] 对塑料基材赋予相位差性时，从易控制其相位差值方面考虑，优选由纤维素酯或环状烯烃系树脂构成的塑料基材。 [0199] 纤维素酯是纤维素中包含的羟基的至少一部分被乙酸酯化的物质。由这样的纤维素酯构成的纤维素酯薄膜可从市场容易地获取。作为市售的三乙酰纤维素薄膜，有例如 “fujitac（フジタツク）薄膜”（富士胶片（株））；“KC8UX2M”、“KC8UY”及“KC4UY”（柯尼卡美能达精密光学（株））等。这样的市售三乙酰纤维素薄膜可以直接或根据需要赋予相位差性然 后用作透明基材。此外，可在准备好的透明基材的表面上实施防眩光处理、硬质涂层处理、 防静电处理或防反射处理等表面处理，然后用作透明基材。 [0200] 要赋予塑料基材以相位差性，如上所述，取决于拉伸塑料基材等的方法。由热塑性树脂构成的塑料基材皆可进行拉伸处理，但从易控制相位差性方面考虑，更优选为由环状 烯烃系树脂构成的塑料基材。环状烯烃系树脂是指例如由降冰片烯或多环降冰片烯系单体 等环状烯烃的聚合物或共聚物构成的物质，所述环状烯烃系树脂可以局部含有开环部位。 此外，也可以是将含有开环部位的环状烯烃系树脂氢化后的物质。此外，从不会显著损害透 明性方面或不会显著增大吸湿性方面考虑，所述环状烯烃系树脂例如可以是环状烯烃、链 状烯烃或乙烯基化芳香族化合物（苯乙烯等）等的共聚物。此外，所述环状烯烃系树脂可以 在其分子内导入有极性基团。 [0201] 环状烯烃系树脂为环状烯烃、链状烯烃或具有乙烯基的芳香族化合物的共聚物时，作为所述链状烯烃，为乙烯或丙烯等，此外，作为乙烯基化芳香族化合物，为苯乙烯、α-甲基苯乙烯及烷基取代苯乙烯等。在这样的共聚物中，相对于环状烯烃系树脂的全部结构 单元，来源于环状烯烃的结构单元的含有比例为50摩尔%以下，例如，15 50摩尔%的程度的 ~ 范围。环状烯烃系树脂为由环状烯烃、链状烯烃和乙烯基化芳香族化合物制得的三元共聚 物时，例如，相对于所述环状烯烃系树脂的全部结构单元，来源于链状烯烃的结构单元的含 有比例为5 80摩尔%的程度，来源于乙烯化芳香族化合物的结构单元的含有比例为5 80摩 ~ ~ 尔%的程度。制造所述环状烯烃系树脂时，这样的三元共聚物的环状烯烃系树脂有着可以使 高价的环状烯烃的用量相对减少的优点。 [0202] 环状烯烃系树脂可以从市场容易地获取。作为市售的环状烯烃系树脂，可列举出“Topas”[泰科纳社（独）]；“Arton（ア一トン）”[日本合成橡胶（株）]；“ZEONOR（ゼオノア）”及“ZEONEX（ゼオネツクス）”[日本瑞翁（株）]；“apel（アペル）”[三井化学（株）制]等。这样的环状烯烃系树脂可以例如通过溶剂流延法或熔融挤出法等公知的制膜方法制膜，然后制成 薄膜（环状烯烃系树脂薄膜）。此外，还可使用已经以薄膜的形态市售着的环状烯烃系树脂 薄膜。作为这样的市售的环状烯烃系树脂薄膜可列举如：“エスシ一ナ”及“SCA40”[积水化学工业（株）]；“ZEONOR薄膜”[Optes（オプテス）（株）]；“Arton薄膜”[日本合成橡胶（株）]等。 [0203] 接着，对赋予塑料基材以相位差性的方法进行说明。塑料基材可以通过公知的拉伸方法赋予相位差性。例如，预备将塑料基材卷绕在辊上的辊（卷绕体），从这样的卷绕体连续地将塑料基材退卷，将退卷的塑料基材搬运至加热炉。加热炉的设定温度为塑料基材的 玻璃转变温度附近（℃）[玻璃转变温度+100]（℃）的范围，优选为玻璃转变温度附近（℃）~ ~ [玻璃转变温度+50]（℃）的范围。在所述加热炉中，朝塑料基材的行进方向或朝与行进方向垂直相交的方向进行拉伸时，调节搬运方向和张力，朝任意角度倾斜，进行单轴向或二轴向 热拉伸处理。拉伸的倍率通常为1.1 6倍的程度的范围，优选为1.1 3.5倍的程度的范围。此 ~ ~ 外，作为朝倾斜方向拉伸的方法，只要是可连续地使取向轴倾斜至所希望的角度的方法就 没有特别限制，可以采用公知的拉伸方法。这样的拉伸方法可列举如：日本专利特开昭50- 83482号公报或日本专利特开平2-113920号公报中记载的方法。 [0204] 从可进行实用性地操作的程度的重量方面及可确保充分的透明性方面考虑，优选透明基材的厚度薄，但若太薄则有强度降低、加工性变差的倾向。玻璃基材的适当的厚度为 例如100 3000μm的程度，优选为100 1000μm的程度。塑料基材的适当的厚度为例如5 300μm~ ~ ~ 的程度，优选为20 200μm的程度。将本偏光膜用作后述的圆偏振板时，特别是用作移动设备~ 用途的圆偏振板时的透明基材的厚度优选为20 100μm的程度。而且，通过拉伸对薄膜赋予 ~ 相位差性时，拉伸后的厚度由拉伸前的厚度和拉伸倍率决定。 [0205] <取向膜> [0206] 优选在用于本偏光膜的制造的基材上形成取向膜。此情况下，将偏光膜形成用组合物涂布在取向膜上。因此，优选所述取向膜具有不会出现由偏光膜形成用组合物的涂布 等引起溶解的程度的耐溶剂性。此外，优选在除去溶剂和液晶取向用的加热处理中具有耐 热性。这样的取向膜可以使用取向性聚合物来形成。 [0207] 作为所述取向性聚合物，可列举如：分子内具有酰胺键的聚酰胺或明胶类、分子内具有酰亚胺键的聚酰亚胺及其水解产物的聚酰胺酸、聚乙烯醇、烷基改性聚乙烯醇、聚丙烯 酰胺、聚恶唑、聚乙烯亚胺、聚苯乙烯、聚乙烯吡咯烷酮、聚丙烯酸或聚丙烯酸酯类等聚合 物。这些之中，优选聚乙烯醇。形成取向膜的这些取向性聚合物可以单独使用或2种以上混 合使用。 [0208] 通过在基材上涂布作为溶解于溶剂中的取向性聚合物组合物（含有取向性聚合物的溶液）的所述取向性聚合物，可以在所述基材上形成取向膜。作为所述溶剂，可列举出水； 甲醇、乙醇、乙二醇、异丙醇、丙二醇、甲基溶纤剂、丁基溶纤剂及丙二醇单甲醚等醇溶剂；乙酸乙酯、乙酸丁酯、乙二醇甲醚乙酸酯、γ-丁内酯、丙二醇甲醚乙酸酯及乳酸乙酯等酯溶 剂；丙酮、甲基乙基酮、环戊酮、环己酮、甲基戊基酮及甲基异丁基酮等酮溶剂；戊烷、己烷及庚烷等脂肪族烃溶剂；甲苯及二甲苯等芳香族烃溶剂，乙腈等腈溶剂；四氢呋喃及二甲氧基 乙烷等醚溶剂；氯仿及氯苯等氯取代烃溶剂等。这些有机溶剂可以单独使用或多种组合使 用。 [0209] 此外，作为用于形成取向膜的取向性聚合物组合物，还可以直接使用市售的取向膜材料。作为市售的取向膜材料，可列举出Sunever（サンエバ一）（注册商标，日产化学工业（株）制）或Optomer（オプトマ一）（注册商标，日本合成橡胶（株）制）等。 [0210] 作为在上述基材上形成取向膜的方法，可列举如在基材上涂布上述取向性聚合物组合物或市售的取向膜材料，然后退火的方法等。如此制得的取向膜的厚度通常为10nm ~ 10000nm的范围，优选为10nm 1000nm的范围。 ~ [0211] 为了对所述取向膜赋予取向锚定力，根据需要优选进行摩擦（摩擦法）。通过赋予取向锚定力可以使聚合性液晶化合物向所希望的方向取向。 [0212] 作为通过摩擦法赋予取向锚定力的方法，可列举如：准备卷绕了摩擦布、旋转着的摩擦辊，将在基材上形成了取向膜形成用的涂布膜的积层体置于运输台（Stage）上，通过将其朝旋转着的摩擦辊搬运，使所述取向膜形成用涂布膜与旋转着的摩擦辊接触的方法。 [0213] 此外，还可以利用所谓的光取向膜。光取向膜是指，将含有具有光反应性基团的聚合物或单体和溶剂的组合物（以下，根据情况称之为“光取向层形成用组合物”）涂布在基材上，通过照射偏振光（优选为偏振光UV）而赋予了取向锚定力的取向膜。光反应性基团是指，通过照射光（光照射）产生液晶取向能的基团。具体地，其是通过照射光而产生的像分子的 取向诱导或异构化反应、二聚化反应、光交联反应或光分解反应这样的、发生成为液晶取向 能的起源的光反应的物质。所述光反应性基团之中，从取向性优异、保持偏 光膜形成时的 近晶型液晶状态方面考虑，优选引发二聚化反应或光交联反应的物质。作为可发生如上反 应的光反应性基团，优选为具有不饱和键，特别是具有双键的基团，特别优选为具有从由 碳-碳双键（C=C键）、碳-氮双键（C=N键）、氮-氮双键（N=N键）及碳-氧双键（C=O键）构成的群组中选出的至少一个的基团。 [0214] 作为具有C=C键的光反应性基团，可列举如：乙烯基、多烯基、芪基、芪唑基、苯乙烯基吡啶盐基（スチルバゾリウム基）、查尔酮基及肉桂酰基等。作为具有C=N键的光反应性基团，可列举出具有芳香族席夫碱及芳香族腙等结构的基团。作为具有N=N键的光反应性基团，可列举出偶氮苯基、偶氮萘基、芳香族杂环偶氮基、双偶氮基及甲臜基等或以氧化偶氮 苯为基本结构的基团。作为具有C=O键的光反应性基团，可列举出二苯甲酮基、香豆素基、蒽醌基及马来酰亚胺基等。这些基团可以具有烷基、烷氧基、芳基、烯丙氧基、氰基、烷氧基羰基、羟基、磺酸基及卤化烷基等取代基。 [0215] 其中，优选可引起光二聚化反应的光反应性基团，因易制得光取向所需的偏振光照射量相对较少并且热稳定性和经时稳定性优异的光取向膜，故优选肉桂酰基及查尔酮 基。若进一步说，作为具有光反应性基团的聚合物，特别优选具有所述聚合物侧链的末端部 位成为肉桂酸结构那样的肉桂酰基的物质。 [0216] 作为光取向层形成用组合物的溶剂，优选溶解具有光反应性基团的聚合物及单体的溶剂，作为所述溶剂，可列举如在上述取向性聚合物组合物中使用的溶剂。 [0217] 相对于光取向层形成用组合物，具有光反应性基团的聚合物或单体的浓度可以根据具有所述光反应性基团的聚合物或单体的种类和想要制造的光取向膜的厚度做适当调 整，用固态成分浓度表示，优选其至少为0.2质量%，特别优选为0.3 10质量%的范围。此外，~ 在不显著损害光取向膜的特性的范围，所述取向层形成用组合物可以含有聚乙烯醇或聚酰 亚胺等高分子材料、光敏化剂。 [0218] 作为在基材上涂布所述取向性聚合物组合物或光取向层形成用组合物的方法，可以采用旋涂法、挤压法、凹版涂布法、模具式涂布法、棒式涂布（Bar coating）法及涂布器法等涂布法或柔版印刷法等印刷法等的公知的方法。而且，在通过后述卷对卷（roll to roll）形式的连续的制造方法来实施本偏光膜的制造时，所述涂布方法通常采用凹版涂布 法、模具式涂布法或柔版印刷法等印刷法。 [0219] 而且，进行摩擦或偏振光照射时，若进行掩蔽，则还可形成取向方向不同的多个区域（图案）。 [0220] <本偏光膜的制造方法> [0221] 在所述基材或在基材上形成的取向膜上，涂布偏光膜形成用组合物制得涂布膜。作为涂布方法，可列举如与作为在基材上涂布取向性聚合物组合物或光取向层形成用组合 物的方法而举例示出的方法相同的方法。 [0223] 接着，作为优选的方式，一旦所述干燥覆膜中包含的聚合性液晶组合物的液晶状态转变为向列型液晶相后，立即使所述向列型液晶相转变为近晶型液晶相。 [0224] 像这样为了经由向列型液晶相形成近晶型液晶相，可以采用例如将干燥覆膜中包含的聚合性液晶化合物加热至显示向列型液晶相的温度以上，接着将所述聚合性液晶化合 物冷却至显示近晶型液晶相的温度为止的方法。 [0225] 使所述干燥覆膜中的聚合性液晶化合物转变为近晶型液晶相、或使所述聚合性液晶化合物经由向列型液晶相转变为近晶型液晶相时，通过测定使用的聚合性液晶化合物的 相转变温度，可求出控制液晶状态的条件（加热条件）。该相转变温度的测定条件在本申请 的实施例中予以说明。 [0226] 接着，对聚合性液晶化合物的聚合工序进行说明。此处，对使在偏光膜形成用组合物中含有光聚合引发剂，使干燥覆膜中的聚合性液晶化合物的液晶状态转变为近晶型液晶 相后，在保持此近晶型液晶相的液晶状态的状态下，使所述聚合性液晶化合物进行光聚合 的方法进行详细说明。光聚合中，作为对干燥覆膜照射的光，可以通过根据所述干燥覆膜中 包含的光聚合引发剂的种类或聚合性液晶化合物的种类（特别是所述聚合性液晶化合物所 具有的聚合性基团的种类）及其量适当地从由可见光、紫外光及激光构成的群组中选出的 光或活性电子束来进行。它们之中，从易控制聚合反应的进行方面和可使用在本领域中被 广泛使用着的装置来作为涉及光聚合的装置的方面考虑，优选紫外光。因此，通过紫外光， 为了能够进行光聚合，优选预先选择在偏光膜形成用组合物中含有的聚合性液晶化合物和 光聚合引发剂的种类。此外，聚合时，在紫外光照射的同时通过适当的冷却装置，通过对干 燥覆膜进行冷却还可控制聚合温度。通过采用这样的冷却装置，若可在更低温下实施聚合 性液晶化合物的聚合，则即使使用在上述基材中耐热性相对较低的物质，也有着可妥当地 形成本偏光膜的优点。而且，光聚合时，通过进行掩蔽和显影等，还可制得形成了图案的本 偏光膜。 [0227] 通过进行如上的光聚合，聚合性液晶化合物在保持向列型液晶相、近晶型液晶相、优选为已经举例示出的那样的高度近晶型液晶相的状态下聚合，形成本偏光膜。聚合性液 晶化合物在保持近晶型液晶相的液晶状态的状态下聚合而制得的本偏光膜，伴随着二向色 性色素（1）的作用，与以往的主-客体（Host-guest）型偏光膜，即，在保持向列相的液晶状态的状态下使聚合性液晶化合物等聚合而制得的偏光膜比较，有着偏振性能高的优点。进一 步，与仅涂布了溶致性二向色性色素的偏光膜比较，有着强度优异的优点。 [0228] 优选这样形成的本偏光膜的厚度在0.5μm以上、10μm以下的范围，进一步优选为1μm以上、5μm以下。因此，本偏光膜形成用涂布膜的厚度可以考虑制得的本偏光膜的厚度来确定。而且，本偏光膜的厚度通过干涉式膜厚计、激光显微镜或触针式膜厚计的测定求出。 [0229] 此外，这样形成的本偏光膜如上所述，特别优选为在X射线衍射测定中可获得布拉格峰的本偏光膜。作为这样的可获得布拉格峰的本偏光膜，可列举如：显示来源于六角相或 结晶相的衍射峰的本偏光膜。 [0230] 本偏光膜的最大吸收波长（λmax1）存在于400 520nm。优选此最大吸收波长（λ~ max1）存在于430 520nm的范围，进一步优选为存在于440 510nm的范围。此外，优选本偏光 ~ ~ 膜的最大吸收波长（λmax1）移动至比在本偏光膜的制造中使用的二向色性色素的最大吸收 波长（λmax2）还长的波长。准备用合适的溶剂溶解二向色性色素而成的溶液，此最大吸收波长（λmax2）为在该溶液的状态下测定得到的。溶解二向色性色素的溶剂可选择为可充分溶 解所述二向色性色素的、在350 550nm的波长的光内没有吸收的溶剂。这样的长波长侧移动 ~ 的出现显示了：在本偏光膜中，二向色性色素（1）分散于由聚合性液晶化合物形成的分子链之间时，所述二向色性色素（1）与所述分子链强烈地相互作用着。而且，长波长侧移动是指最大吸收波长的差（λmax1-λmax2）为正值，但优选该差为20nm以上，进一步优选为30nm以上。 [0231] 此外，本偏光膜的二色性比高、偏光性能极为优异。具体地，通常，二色性比为15以上，优选为25以上。 [0232] <本偏光膜的连续的制造方法> [0233] 以上，说明了本偏光膜的制造方法的概要，但在商业上制造本偏光膜时，追求可连续地制造本偏光膜的方法。这样的连续的制造方法是通过卷对卷形式的方法，根据情况，称 之为“本制造方法”。而且，在本制造方法中，以基材为透明基材的情况为中心加以说明。基材为透明基材时，最终制得的物品成为具有透明基材和本偏光膜的起偏器（以下，根据情况 称之为“本起偏器”）。 [0234] 本制造方法例如，具有 [0235] 预备将透明基材卷绕在第1卷芯上的第1辊的工序、 [0236] 从所述第1辊连续地将所述透明基材退卷的工序、 [0237] 在所述透明基材上连续地形成取向膜的工序、 [0238] 在所述取向膜上连续地涂布偏光膜形成用组合物的工序、 [0239] 通过在聚合性液晶化合物不聚合的条件下使涂布的偏光膜形成用组合物干燥，在所述取向膜上连续地形成干燥覆膜的工序、 [0240] 使所述干燥覆膜中包含的聚合性液晶化合物成为向列型液晶相、优选为近晶型液晶相后，在保持所述近晶型液晶相的状态下，通过使所述聚合性液晶化合物聚合，连续地制 得偏光膜，作为起偏器的工序和 [0241] 将连续地制得的起偏器卷绕在第2卷芯上，制得第2辊的工序。此处参照图1，特别是对本制造方法的将光取向膜用作取向膜的情况进行说明。 [0242] 透明基材卷绕在第1卷芯210A上的第1辊210例如可以从市场容易地获取。作为可以以这样的辊的形态从市场获取的透明基材，可列举出在已经举例示出的透明基材之中， 由纤维素酯、环状烯烃系树脂、聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚碳酸酯或聚甲基丙烯酸酯构成的 薄膜等。此外，将本偏光膜用作圆偏振板时，预先赋予了相位差性的透明基材也可以从市场 容易地获取，可列举如由纤维素酯或环状烯烃系树脂构成的相位差膜等。 [0243] 接着，从所述第1辊210将透明基材退卷。将透明基材退卷的方法是通过在所述第1辊210的卷芯210A上设置适当的旋转装置，通过籍由所述旋转装置使第1辊210旋转来进行 的。此外，也可以是在从第1辊210搬运透明基材的方向上设置适当的辅助辊300，通过所述 辅助辊300的旋转装置将透明基材退卷的形式。进一步，还可以是通过在第1卷芯210A及辅 助辊300中都设置旋转装置，一边赋予透明基材以适度的张力，一边将透明基材退卷的形 式。 [0244] 从所述第1辊210退卷的透明基材在通过涂布装置211A时，籍由所述涂布装置211A，在其表面上涂布光取向层形成用组合物。为了像这样连续地涂布光取向层形成用组 合物，如上所述，通过所述涂布装置211A，实施凹版涂布法、模具式涂布法、柔版印刷法等印刷法。 [0245] 经过涂布装置211A的透明基材被搬运至干燥炉212A，籍由此干燥炉212A加热，在透明基材上连续地形成第1干燥覆膜。作为干燥炉212A，可以使用例如热风式干燥炉等。干 燥炉212A的设定温度可以根据通过涂布装置211A涂布的所述光取向层形成用组合物中 包 含的溶剂的种类等来确定。此外，可以是干燥炉212A划分为多个区域，划分的多个区域的设 定温度分别不同的形式，还可以是将多个干燥炉串联配置，各干燥炉的设定温度分别不同 的形式的干燥炉。 [0246] 籍由从加热炉212A通过而连续地形成第1干燥覆膜，接着，通过偏振光UV照射装置213A在第1干燥覆膜侧的表面或透明基材侧的表面上照射偏振光UV，所述第1干燥覆膜形成 （光）取向膜。此时，还可以使透明基材的搬运方向D1与形成的光取向膜的取向方向D2所成 的角度交叉。图2是表示在偏振光UV照射后形成的光取向膜的取向方向D2与透明基材的搬 运方向D1之间的关系的示意图。即，图2表示着：从透明基材的搬运方向D1和光取向膜的取 向方向D2观察偏振光UV照射装置213A通过后的第1积层体的表面时，它们所成的角度显示 为大约45°。 [0247] 这样连续地形成了光取向膜的透明基材（第1积层体）通过继续通过涂布装置211B，在光取向膜上涂布偏光膜形成用组合物后，通过干燥炉212B。籍由通过干燥炉212B， 偏光膜形成用组合物中包含的聚合性液晶化合物形成向列型液晶相，优选为近晶型液晶 相，形成第2干燥覆膜。 [0248] 在偏光膜形成用组合物中含有的溶剂被充分除去、第2干燥覆膜中的聚合性液晶化合物保持为向列型液晶相，优选为近晶型液晶相的液晶状态的状态下，经过所述干燥炉 212B的透明基材被搬运至光照射装置213B。通过用光照射装置213B进行的光照射，所述聚 合性液晶化合物在保持所述液晶状态的状态下进行光聚合，在取向膜上连续地形成本偏光 膜，制得本起偏器。 [0249] 这样连续地形成的本偏光膜可以是包含透明基材及取向膜的积层体的形态，卷绕在第2卷芯220A上，制得第2辊220的形态。将形成的本偏光膜卷绕制得第2辊时，可以使用适 当的垫片一同卷绕。 [0250] 如此，通过使透明基材以第1辊/涂布装置211A/干燥炉212A/偏振光UV照射装置213A/涂布装置211B/干燥炉212B/光照射装置213B的顺序通过，在透明基材上的光取向膜 上连续地形成本偏光膜，制造本起偏器。 [0251] 此外，图1中显示的本制造方法中，虽然显示了从透明基材到本偏光膜的连续的制造方法，但是，例如，也可以是通过使透明基材以第1辊/涂布装置211A/干燥炉212A/偏振光 UV照射装置213A的顺序通过，将连续地形成的第1积层体卷绕在卷芯上，以辊的形态制造第 1积层体，从所述辊将第1积层体退卷，使退卷的第1积层体以涂布装置211B/干燥炉212B/光 照射装置213B的顺序通过，制造本起偏器。 [0252] 通过本制造方法制得的本起偏器，其是形状为薄膜状并且长尺状的物品。该本偏光膜用于后述的液晶显示装置等的情况中，可以根据所述液晶显示装置的大小等裁剪成所 需尺寸然后使用。 [0253] 以上，虽然以透明基材/光取向膜/本偏光膜的积层体的形态的情况为中心对本起偏器的组成及制造方法进行了说明，但如上所述，也可以通过从本起偏器剥离光取向膜和 透明基材来制得单层的本偏光膜。此外，还可以做成在本起偏器中积层透明基材/光取向 膜/本偏光膜以外的层或膜的形态。作为这些层及膜，如已经叙述那样，可以制成进一步具 备相位差膜的形式、也可以是进一步具备防反射层或增亮膜的形式。 [0254] 此外，通过使透明基材本身为相位差膜，还可设置成相位差膜/光取向膜/本偏光膜的形态的圆偏振板或椭圆偏振板。例如，使用单轴向拉伸的1/4波长板作为相位差膜时， 通过设定偏振光UV的照射方向为相对于透明基材的搬运方向略成45°，可通过卷对卷制作 圆偏振板。优选在如此制造圆偏振板时使用的1/4波长板为具有对可见光的面内相位差值 随着波长变短而变小的特性的1/4波长板。 [0255] 此外，使用1/2波长板作为相位差膜，制作将其慢轴与偏光膜的吸光轴的角度设定为错开的那样的直线偏振板辊，通过在与形成了所述偏光膜的面的相反侧上进一步形成1/ 4波长板，也可制成宽波段的圆偏振板。 [0256] <本偏光膜的用途> [0257] 本偏光膜可用于各种显示装置。显示装置是指具有显示元件的装置，包括作为发光源的发光元件或发光装置。作为显示装置，可列举如：液晶显示装置、有机电致发光（EL）显示装置、无机电致发光（EL）显示装置、电子发射显示装置（例如场发射显示装置（FED）、表面传导电子发射显示装置（SED））、电子纸（使用了电子墨水或电泳元件的显示装置、等离子显示装置、投射型显示装置（例如光栅光阀（GLV）显示装置、具有数字微反射镜器件（DMD）的显示装置）及压电陶瓷显示装置等。液晶显示装置包含透过型液晶显示装置、半透过型液晶 显示装置、反射型液晶显示装置、直视型液晶显示装置及投射型液晶显示装置等的任意一 种。这些显示装置可以是显示2维图像的显示装置，也可以是显示3维图像的立体显示装置。 [0258] 本偏光膜可尤其有效地用于有机电致发光（EL）显示装置或无机电致发光（EL）显示装置的显示装置。 [0259] 图3是表示使用了本偏光膜的液晶显示装置（以下，根据情况称之为“本液晶显示装置”。）10的截面构成的示意图。液晶层17被夹在2张基板14a及基板14b中。 [0260] 图6及图10是表示使用了本偏光膜的EL显示装置（以下，根据情况称之为“本EL显示装置”。）的截面构成的示意图。 [0261] 图11是表示使用了本偏光膜的投射型液晶显示装置的组成的示意图。 [0262] 首先对在图3中显示的本液晶显示装置10进行说明。 [0263] 基板14a的液晶层17侧中配置着滤色器15。滤色器15夹着液晶层17，被配置于与像素电极22相向的位置，黑点矩阵20被配置于与像素电极间的边界相向的位置。透明电极16 在液晶层17侧备配置成覆盖滤色器15及黑点矩阵20。而且，滤色器15和透明电极16之间可 以具有保护（overcoat）层（未图示）。 [0264] 基板14b的液晶层17侧上有规律性地配置着薄膜晶体管21和像素电极22。像素电极22夹着液晶层17被配置在与滤色器15相向的位置。薄膜晶体管21和像素电极22之间配置 着具有连接孔（未图示）的层间绝缘膜18。 [0265] 作为基板14a及基板14b，使用玻璃基板及塑料基板。这样的玻璃基板和塑料基板可以采用与作为用于本偏光膜制造中的透明基材而举例示出的基材相同材质的基材。此 外，本偏光膜的透明基板1可以兼具基板14a及基板14b。制造在基板上形成的滤色器15和薄 膜晶体管21时，需要高温加热工序时，优选玻璃基板或石英基板。 [0266] 薄膜晶体管可以根据基板14b的材质采用最合适的薄膜晶体管。作为薄膜晶体管21，可列举出在石英基板上形成的高温多晶硅晶体管、在玻璃基板上形成的低温多晶硅晶 体管、在玻璃基板或塑料基板上形成的无定型硅晶体管。为了使本液晶显示装置更加小型 化，可以在基板14b上形成驱动IC。 [0267] 在透明电极16和像素电极22之间配置着液晶层17。为了保持基板14a及基板14b间的距离一定，在液晶层17中配置着垫片23。而且，图3中图示了柱状的垫片，但所述垫片不限于柱状，只要能使基板14a及基板14b间的距离保持一定，其形状就任意。 [0268] 各构件以基板14a、滤色器15及黑点矩阵20、透明电极16、液晶层17、像素电极22、层间绝缘膜18及薄膜晶体管21以及基板14b的顺序积层着。 [0269] 夹着这样的液晶层17的基板14a及基板14b之中，在基板14b的外侧设置着起偏器12a及12b，它们之中，至少1个使用了本起偏器。 [0270] 进一步，优选相位差层（例如，1/4波长板或光学补偿薄膜）13a及13b积层着。起偏器12a及12b之中，通过在起偏器12b上配置本偏光膜，可以将使入射光转变为直线偏振光的 功能赋予给本液晶显示装置10。而且，根据液晶显示装置的结构和液晶层17中包含的液晶 化合物的种类，也可以不配置相位差膜13a及13b，使用透明基板为相位差膜、包 含本偏光 膜的圆偏振板时，因可将所述相位差膜制成相位差层，故也可省略图3的相位差层13a及/或 13b。在包含本偏光膜的起偏器的光发射侧（外侧）上可以进一步设置偏光膜。 [0271] 此外，在包含本偏光膜的起偏器的外侧（在本偏光膜上进一步设置偏光膜时，在其外侧）可以配置防止外光反射用的防反射膜。 [0272] 如上所述，在图3的本液晶显示装置10的起偏器12a或12b中可以使用本起偏器。通过将本起偏器用在起偏器12a及/或12b中，有着可实现本液晶显示装置10的薄型化的效果。 [0273] 将本起偏器用在起偏器12a或12b中时，其积层顺序没有特别限制。参照图3的虚线包围的A及B的局部放大图对此进行说明。 [0274] 图4是图3的A部分的放大截面示意图。将本起偏器100用作起偏器12a时，图4的（A1）显示了从相位差层13a侧以本偏光膜3、光取向膜2及透明基材1的顺序配置的配设情 况。此外，图4的（A2）显示了从相位差层13a侧以透明基材1、光取向膜2及本偏光膜3的顺序配置的配设情况。 [0275] 图5是图3的B部分的放大示意图。将本起偏器100用作起偏器12b时，图5的（B1）中，从相位差膜13b侧以透明基材1、光取向膜2及本偏光膜3的顺序配置着。将本起偏器100用作起偏器12b时，图5的（B2）中，从相位差膜13b侧以本偏光膜3、光取向膜2及透明基材1的顺序配置着。 [0276] 在起偏器12b的外侧配置着作为发光源的背光模组19。背光模组19包含光源、导光体、反射板、扩散片及视场角调节片。作为光源，可列举出电致发光、冷阴极管、热阴极管、发光二极管（LED）、激光光源及汞灯等。此外，可以根据这样的光源的特性来选择本偏光膜的种类。 [0277] 本液晶显示装置10为透过型液晶显示装置时，从背光模组19中的光源发出的白色光射入导光体，通过反射板改变光路在扩散片中扩散。扩散光通过视场角调节片调整为具 有所希望的方向性后从背光模组19射入起偏器12b。 [0278] 非偏振光的入射光之中，仅某一方向的直线偏振光透过液晶面板的起偏器12b。此直线偏振光籍由相位差层13b变换为圆偏振光或椭圆偏振光，依次透过基板14b、像素电极 22等到达液晶层17。 [0279] 根据此处像素电极22和与其相向的透明电极16之间有无电位差，液晶层17中包含的液晶分子的取向状态变化，可控制从本液晶显示装置10发射的光的亮度。液晶层17处于 使偏振光转换然后透过的取向状态时，该偏振光透过液晶层17、透明电极16，某一特 定波 长范围的光透过滤色器15到达起偏器12a，液晶显示装置最明亮地显示由滤色器决定的颜 色。 [0280] 反过来，液晶层17处于使偏振光直接透过的取向状态时，透过液晶层17、透明电极16及滤色器15的光被起偏器12a吸收。由此，此像素显示黑色。在这2个状态的中间的取向状 态时，从本液晶显示装置10发射的光的亮度也变成介于所述两者的中间，此像素显示中间 色。 [0281] 本液晶显示装置10为半透过型液晶显示装置时，优选使用在本起偏器的本偏光膜侧进一步使1/4波长板积层而成的物品（圆偏振板）。此时，像素电极22具有由透明材料形成的透过部和由反射光的材料形成的反射部，透过部中，与所述透过型液晶显示装置同样地 显示图像。另一方面，反射部中，外光射入液晶显示装置，通过本偏光膜中进一步具备的1/4波长板的作用，透过本偏光膜的圆偏振光从液晶层17通过，由像素电极22进行反射而用于 显示。 [0282] 接着，对使用了本偏光膜的本EL显示装置30参照图6进行说明。本EL显示装置中，使用本偏光膜时，优选将本偏光膜制成圆偏振板（以下，根据情况称之为“本圆偏振板”。）然后使用。本圆偏振板中存在2个实施方式。因此，在说明本EL显示装置30的构成等之前，对本圆偏振板的2个实施方式参照图7加以说明。 [0283] 图7的（A）是示意性地表示本圆偏振板110的第1实施方式的截面图。此第1实施方式为在本起偏器100中的本偏光膜3上进一步设置相位差层（相位差膜）4而成的本圆偏振板 110。图7的（B）为表示本圆偏振板110的第2实施方式的示意图。此第2实施方式为通过使用 预先赋予了相位差性的透明基材1（相位差膜4）作为制造本起偏器时使用的透明基材1，使 透明基材1本身成为兼具作为相位差层4的功能的物品的本圆偏振板110。 [0284] 作为包括本偏光膜的本圆偏振板，因若为上述本圆偏振板的第2实施方式则构成简便故而优选，此时，优选将1/4波长板用作透明基材，进一步，使用1/4波长板作为透明基 材，优选满足以下的（A1）及（A2）的必要条件。 [0285] （A1）所述偏光膜的吸光轴与所述1/4波长板的慢轴所成的角度约为45°； [0286] （A2）通过波长550nm的光测定的所述1/4波长板的正面延迟的值为100 150nm的范~ 围。 [0287] 此处，预先对关于本圆偏振板110的制造方法进行说明。与已经说明的圆偏振板110的第2实施方式一样，在制造本起偏器100的本制造方法中，通过使用预先赋予了相位差 性的透明基材1作为透明基材1，即，使用相位差膜可进行制造。本圆偏振板110的第1 实施 方式只要是通过在由本制造方法B制造的本偏光膜3上贴合相位差膜来形成相位差层4即 可。而且，根据本制造方法B，以第2辊220的方式制造本起偏器100时，可以是从所述第2辊 220将本起偏器100退卷，裁剪成规定尺寸，然后在裁剪的本起偏器100上贴合相位差膜的方 式，但通过准备将相位差膜卷绕在卷芯上的第3辊，也可连续地制造形状为薄膜状并且长尺 状的本圆偏振板110。 [0288] 关于连续地制造本圆偏振板110的第1实施方式的方法，参照图8进行说明。这样的制造方法由： [0289] 从所述第2辊220连续地将本起偏器100退卷，同时从相位差膜所卷绕着的第3辊230连续地将所述相位差膜退卷的工序、 [0290] 将在从所述第2辊220退卷的本起偏器100上设置的偏光膜与从所述第3辊退卷的所述相位差膜连续地贴合来形成本圆偏振板110的工序、 [0291] 将形成的本圆偏振板110卷绕在第4卷芯240A上，制得第4辊240的工序构成。 [0292] 以上，对本圆偏振板110的第1实施方式的制造方法进行了说明，但在贴合起偏器100中的本偏光膜3和相位差膜时，可以使用适当的粘合剂，介由由所述粘合剂形成的粘合 层，贴合本偏光膜3和相位差膜。 [0293] 接着，对具备本圆偏振板110的本EL显示装置再次参照图6进行说明。 [0294] 本EL显示装置30是在形成了像素电极35的基板33上积层了由作为发光源的有机功能层36及阴极电极37的显示装置。在与有机功能层36的相反侧上，配置了圆偏振板31，中 间夹着基板33，使用本圆偏振板110作为这样的圆偏振板31。通过在像素电极35上施加正电 压、在阴极电极37上施加负电压、在像素电极35及阴极电极37之间施加直流电流，有机功能 层36发光。作为发光源的有机功能层36由电子传输层、发光层及空穴传输层等构成。从有机 功能层36发射的光通过像素电极35、层间绝缘膜34、基板33、圆偏振板31（本圆偏振板110）。 虽然对具有有机功能层36的有机EL显示装置进行说明，但具有无机功能层的无机EL显示装 置也可同样适用。 [0296] 接着，在与设置着基板33的薄膜晶体管40的面相反的面上，设置圆偏振板31（本圆偏振板110）。 [0297] 将本圆偏振板110用作圆偏振板31时，其积层顺序参照图6的虚线围成的C的局部放大图进行说明。将本圆偏振板110用作圆偏振板31时，所述本圆偏振板110中的相位差层4 被配置在基板33侧。图9的（C1）是将本圆偏振板110的第1实施方式用作圆偏振板31的放大 图，图9的（C2）是将本圆偏振板110的第2实施方式用作圆偏振板31的放大图。 [0298] 接着，对本EL显示装置30的本偏光膜31（圆偏振板110）以外的构件进行说明。 [0299] 作为基板33，可列举出蓝宝石玻璃基板、石英玻璃基板、钠钙玻璃基板及氧化铝等陶瓷基板；铜等金属基板；塑料基板等。虽然未图示，但可以在基板33上形成热传导性膜。作为热传导性膜，可列举出金刚石薄膜（DLC等）等。将像素电极35制成反射型时，向基板33的相反方向发射光。因此，不仅可以使用透明材料，还可使用不锈钢等非透过材料。基板可以 单独形成，也可以使多个基板通过粘接剂贴合而形成为积层基板。此外，这些基板不限于板 状，还可以是薄膜。 [0300] 作为薄膜晶体管40，可使用如多结晶硅晶体管等。薄膜晶体管40被设置于像素电极35的端部，其大小为10 30μm的程度。而且，像素电极35的大小为20μm×20μm 300μm×300~ ~ μm的程度。 [0301] 在基板33上设置着薄膜晶体管40的电极丝。配线电极电阻低，有着与像素电极35电连接而将电阻值抑制得较低的功能，通常此配线电极使用含有Al、Al及过渡金属（但是除 去Ti）、Ti或氮化钛（TiN）的任意1种或2种以上的配线电极。 [0302] 在薄膜晶体管40和像素电极35之间设置了层间绝缘膜34。只要层间绝缘膜34是使SiO2等氧化硅、氮化硅等无机系材料通过溅射或真空蒸镀而成膜的物品、通过SOG（旋涂玻 璃）形成的氧化硅层、光致抗蚀剂、聚酰亚胺及丙烯酸树脂等树脂系材料的涂膜等的具有绝 缘性的层间绝缘膜，其就可以是上述任意一种。 [0303] 在层间绝缘膜34上形成肋41。肋41被配置在像素电极35的周边部（在相邻像素之间）。作为肋41的材料，可列举出丙烯酸树脂及聚酰亚胺树脂等。优选肋41的厚度为1.0μm以上、3.5μm以下，更优选为1.5μm以上、2.5μm以下。 [0304] 接着，对由作为透明电极的像素电极35、作为发光源的有机功能层36和阴极电极37构成的EL元件进行说明。有机功能层36具有分别至少1层的空穴传输层及发光层，例如， 依次具有电子注入传输层、发光层、空穴传输层及空穴注入层。 [0305] 作为像素电极35，可列举如：ITO（掺锡氧化铟）、IZO（掺锌氧化铟）、IGZO、ZnO、SnO2及In2O3等，但特别优选ITO和IZO。像素电极35的厚度只要是具有可充分进行空穴注入的一定以上的厚度即可，优选为10 500nm的程度。 ~ [0306] 像素电极35可以通过蒸镀法（优选为溅射法）形成。作为溅射气体，没有特别限制，可以使用Ar、He、Ne、Kr及Xe等惰性气体或它们的混合气体。 [0307] 作为阴极电极37的构成材料，可使用如：K、Li、Na、Mg、La、Ce、Ca、Sr、Ba、Al、Ag、In、Sn、Zn及Zr等金属元素，但为了使电极的工作稳定性提高，优选使用从举例示出的金属元素中选出的2种成分或3种成分的合金系。作为合金系，优选如Ag·Mg（Ag：1 20at%）、Al·Li ~ （Li：0.3 14at%）、In·Mg（Mg：50 80at%）及Al·Ca（Ca：5 20at%）等。 ~ ~ ~ [0308] 阴极电极37通过蒸镀法及溅射法等形成。阴极电极37的厚度为0.1nm以上，优选为1 500nm。 ~ [0309] 空穴注入层具有使从像素电极35注入空穴变得容易的功能，空穴传输层具有传输空穴的功能及阻碍电子的功能，也称作电荷注入层和电荷传输层。 [0310] 发光层的厚度、空穴注入层和空穴传输层的总厚度及电子注入传输层的厚度没有特别限制，虽然也根据形成方法的不同而不同，但优选为5 100nm的程度。空穴注入层和空 ~ 穴传输层中可以使用各种有机化合物。在空穴注入传输层、发光层及电子注入传输层的形 成中，从可形成均质薄膜方面考虑可以使用真空蒸镀法。 [0311] 作为发光源的有机功能层36可以使用利用单线态激子的发光（荧光）的有机功能层、利用三线态激子的发光（磷光）的有机功能层、包含利用单线态激子的发光（荧光）的有机功能层和利用三线态激子的发光（磷光）的有机功能层的有机功能层，由有机物形成的有 机功能层、包含由有机物形成的有机功能层和由无机物形成的功能层的有机功能层，高分 子材料、低分子材料、包含高分子材料和低分子材料的有机功能层等。但是，不限于此，在本EL显示装置30中可以使用使用了作为EL元件用的公知的各种材料的有机功能层36。 [0312] 在阴极电极37和密封盖39的空间内配置干燥剂38。这是因为有机功能层36对湿度敏感。通过干燥剂38吸收水分，防止有机功能层36的劣化。 [0313] 图10是表示本EL显示装置30的其他形态的截面构成的概略图。此本EL显示装置30具有使用了薄膜密封膜42的密封结构，甚至从阵列基板的相反面都可获得发射光。 [0314] 作为薄膜密封膜42，优选使用在电解电容的薄膜上蒸镀了DLC（类金刚石碳）的DLC膜。DLC膜有透湿性极差的特性，防湿性能高。此外，DLC膜等可以在阴极电极37的表面上直 接蒸镀形成。此外，可以将树脂薄膜和金属薄膜积层为多层，形成薄膜密封膜42。 [0315] 如上，提供具备本偏光膜、本起偏器、本圆偏振板及本偏光膜的新型显示装置（本液晶显示装置及本EL显示装置）。 [0316] 最后，对使用了本偏光膜的投射型液晶显示装置进行说明。 [0317] 图11是显示使用了本偏光膜的投射型液晶显示装置的概略图。 [0318] 作为该投射型液晶显示装置的起偏器142及/或起偏器143，使用本偏光膜。 [0319] 从作为发光源的光源（例如，高压汞灯）111发射的光线束籍由首先通过第1透镜阵列112、第2透镜阵列113、偏振光转换元件114、复合透镜115，进行反射光线束截面上的亮度的均一化和偏光化。 [0320] 具体地，从光源111发射的光线束籍由微小透镜112a形成为矩阵状而成的第1透镜阵列112被分割为多条微小光线束。具备第2透镜阵列113及复合透镜115，使得被分割的光 线束分别照射作为照明对象的3个液晶面板140R、140G、140B全体，因此，各液晶面板入射侧表面整体变得照度大致均一。 [0321] 偏振光转换元件114由偏振光分束器阵列构成，被配置于第2透镜阵列113和复合透镜115之间。由此偏振光转换元件将从光源发射的随机偏振光预先转换为具有特定偏光 方向的偏振光，减少在后述入射侧起偏器中的光损耗，起着使画面的亮度提高的作用。 [0322] 如上进行了亮度均一化及偏光化的光经由反射镜122籍由分离为RGB3原色用的分色镜121、123、132依次分离为红色通道、绿色通道、蓝色通道，分别射入液晶面板140R、 140G、140B。 [0323] 液晶面板140R、140G、140B中，在其入射侧配置着起偏器142，在发射侧分别配置着起偏器143。在此起偏器142、起偏器143中可以使用本偏光膜。 [0324] 将在RGB各光路中配置的起偏器142及起偏器143配置成各自的吸光轴垂直相交。在各光路中配置的各液晶面板140R、140G、140B具有根据图像信号将各像素所控制的偏振 光状态转换成光量的功能。 [0325] 通过选择适于对应的通道的二向色性色素的种类，本起偏器100即使在蓝色通道、绿色通道及红色通道等光路中也作为耐久性优异的偏光膜而有用。 [0326] 根据液晶面板140R、140G、140B的图像数据，通过使入射光对各像素以不同的透光率透过而制成的光学图像，被十字分色棱镜150合成，通过投射透镜170在投影屏180上放大 投影。 [0327] 作为电子纸，可列举出通过像光学各向异性和染料分子取向这样的分子来进行显示的电子纸、通过电泳、粒子运动、粒子旋转、相变化这样的粒子来进行显示的电子纸、通过薄膜的一端移动来进行显示的电子纸、通过分子的发色/相变化来进行显示的电子纸、通过 分子的光吸收来进行显示的电子纸、电子和空穴结合，通过自发光来进行显示的电子纸等。 更具体地，可列举出微胶囊型电泳、水平移动型电泳、垂直移动型电泳、球状扭转球、磁性扭转球、圆柱扭转球方式、带电碳粉、电子粉流体、磁泳动型、磁感热式、电湿润、光散射（透明/白色浑浊变化），胆甾型液晶/光导电层、胆甾型液晶、双稳定性向列型液晶、强诱电性液晶、 2向色性色素·液晶分散法、可动薄膜、通过隐色染料的发色消色、光致变色、电致变色，电 沉积及弹性有机EL等。电子纸不仅用于个人的文本和图像，还可用于广告显示（标牌）等。通过本偏光膜，可使电子纸的厚度变薄。 [0328] 作为立体显示装置，提出了例如像微小偏振方式（マイクロポ一ル方式）这样的使不同的相位差膜交替排列的方法（日本专利特开2002-185983号公报），但若使用本偏光膜，则因通过印刷、喷墨打印、光刻等容易形成图案，可使显示装置的制造工序缩短，并且变得 不需要相位差膜。 [0329] [实施例] [0330] 以下，根据实施例进一步详细说明本发明。只要无另行说明，例中的“%”及“份”为质量%及质量份。 [0331] 实施例1[化合物（1A）（下述（1A）所表示的化合物）的制备] [0332] [0333] 化合物（1A）通过下述方案来合成。 [0334] [0335] 混合式(1B)所表示的化合物[化合物(1B)]5.00g、4-羟基苯甲酸乙酯4.63g、二甲基氨基吡啶(DMAP)0.23g及氯仿25g，在避光·氮气气氛下，在5℃下搅拌10分钟。在制得的 混合液中费时5分钟滴入二异丙基碳化二亚胺(IPC)2.58g，进一步搅拌4小时。在得到的反 应液中加入甲醇75g，析晶，过滤取得结晶。进一步用等量的甲醇洗涤结晶后，通过真空干 燥，得到化合物(1A)6.78g。以化合物(1B)为基准，收率为87％。 [0336] 化合物(1A)的1H-NMR(CDCl3)：δ(ppm)1.41(t，3H)、3.12(s，6H)、4.40(m，2H)、6.76(m，2H)、7.33(m，2H)、7.93(dd，4H)、8.15(m，2H)、8.30(m，2H)。 [0337] 实施例2[化合物(1D)(下述(1D)所表示的化合物)] [0338] [0339] 化合物(1D)根据下述方案来合成。 [0340] [0341] 混合化合物(1B)5.00g、4-丁基氧基苯酚4.63g、DMAP0.23g及氯仿25g，在避光·氮气气氛下，在5℃下搅拌10分钟。在制得的混合液中费时5分钟滴入IPC2.58g，进一步搅拌4 小时。在得到的反应液中加入甲醇75g，析晶，过滤取得结晶。使结晶溶解于50g二甲基乙酰 胺中，通过硅藻土过滤不溶物。回收滤液用水析晶。将制得的结晶进一步溶解于50g四氢呋 喃中，通过过滤除去不溶物后，加入庚烷，析晶，通过真空干燥，得到化合物(1D)4.66g。以化合物(1B)为基准，收率为60％。 [0342] 化合物(1D)的1H-NMR(CDCl3)：δ(ppm)0.99(t，3H)、1.45(m，2H)，1.78(m，2H)、3.12(s，6H)、3.98(t，2H)、6.77(m，2H)、6.93(m，2H)、7.15(m，2H)、7.92(dd，4H)、8.29(dd，2H)。 [0343] 实施例(本偏光膜等的制造)及参考例 [0344] [聚合性液晶化合物] [0345] 作为偏光膜形成用组合物中包含的聚合性液晶化合物，使用下述式(2-6)所表示的化合物[化合物(2-6)]、下述式(2-8)所表示的化合物[化合物(2-8)]、下述式(2-22)所表 示的化合物[化合物(2-22)]及下述式(2-25)所表示的化合物[化合物(2-25)]。 [0346] 而且，化合物(2-6)通过Lub et al.Recl.Trav.Chim.Pays-Bas，115，321-328(1996)记载的方法合成。此外，根据此方法，制备化合物(2-8)。 [0347] 化合物(2-22)及化合物(2-25)根据日本专利第4719156号记载的方法制备 [0348] 化合物(2-6)： [0349] [0350] [相转变温度的测定] [0351] 通过求出由化合物(2-6)构成的膜的相转变温度而确认了化合物(2-6)的相转变温度。其操作如下。 [0352] 在形成了取向膜的玻璃基板上形成由化合物(2-6)构成的膜，通过一边加热，一边用偏振光显微镜(BX-51，奥林巴斯社制)进行的纹理观察而确认相转变温度。将由化合物 (2-6)构成的膜升温至120°C后，在降温时，在112°C处相转变为向列相，在110°C处相转变为 近晶A相，在94°C处相转变为近晶B相。 [0353] 化合物(2-8)： [0354] [0355] [相转变温度的测定] [0356] 与化合物(2-6)的相转变温度测定同样地确认化合物(2-8)的相转变温度。将化合物(2-8)升温至140°C后，在降温时，在131℃处相转变为向列相，在80°C处相转变为近晶A 相，在68℃处相转变为近晶B相。 [0357] 化合物(2-22)： [0358] [0359] [相转变温度的测定] [0360] 与化合物(2-6)的相转变温度测定同样地确认化合物(2-22)的相转变温度。将化合物(2-22)升温至140°C后，在降温时，在106℃处相转变为向列相，在103℃处相转变为近 晶A相，在86℃处相转变为近晶B相。 [0361] 化合物(2-25)： [0362] [0363] [相转变温度的测定] [0364] 与化合物（2-6）的相转变温度测定同样地确定化合物（2-25）的相转变温度。将化合物（2-25）升温至140℃后，在降温时，在119℃处相转变为向列相，在100℃处相转变为近晶A相，在77℃处相转变为近晶B相。 [0365] 实施例3 [0366] [偏光膜形成用组合物的制备] [0367] 混合下述成分，通过在80℃下搅拌1小时，制得偏光膜形成用组合物（G）。 [0368] 聚合性液晶化合物；化合物（2-6）75份 [0369] 化合物（2-8）25份 [0370] 二向色性色素；化合物（1A）2.5份 [0371] 聚合引发剂； [0372] 2-二甲氨基-2-苄基-1-（4-吗啉基苯基）-1-丁酮（艳佳固369；汽巴精化社制）6份 [0373] 流平剂； [0374] 聚丙烯酸酯化合物（BYK-361N；毕克化学社制）1.5份 [0375] 溶剂；甲苯250份 [0376] [相转变温度的测定] [0377] 与化合物（2-6）及化合物（2-8）的情况相同，求出偏光膜形成用组合物（G）中包含的聚合性液晶组合物的相转变温度。将此聚合性液晶组合物升温至140℃后，在降温时，在115℃处相转变为向列相，在105℃处相转变为近晶A相，在75℃处相转变为近晶B相。 [0378] [本偏光膜的制造及评价] [0379] 1.取向膜的形成 [0380] 使用玻璃基板作为透明基材。 [0381] 在玻璃基板上，通过旋涂法涂布聚乙烯醇（聚乙烯醇1000完全皂化型，和光纯药工业株式会社制）的2质量%水溶液（取向性聚合物组合物），干燥后，形成厚度100nm的膜。接着，通过在制得的膜的表面上实施摩擦处理形成取向膜。使用半自动摩擦装置（商品名：LQ- 008型，常阳工学株式会社制），通过布（商品名：YA-20-RW，吉川化工株式会社制），在压痕深度0.15mm、转数500rpm、16.7mm/s的条件下进行摩擦处理。通过这样的摩擦处理，制得在玻 璃基板上形成了取向膜的积层体1。 [0382] 2.偏光膜的形成 [0383] 在积层体1的取向膜上，通过旋涂法涂布偏光膜形成用组合物(G)，在120°C的加热板上加热干燥1分钟后，快速冷却至室温，在所述取向膜上形成干燥覆膜。接着，使用UV照射装置(SPOT CURE SP-7；优志旺电机株式会社制)，通过对干燥覆膜照射曝光量2000mJ/cm2 (365nm基准)的紫外线，在保持所述聚合性液晶组合物的液晶状态的状态下使所述干燥覆 膜中包含的聚合性液晶化合物聚合，由所述干燥覆膜形成偏光膜，制得积层体2。 [0384] 通过激光显微镜(奥林巴斯株式会社制OLS3000)测定此时的偏光膜的厚度，结果为1.7μtm。 [0385] 3.X射线衍射测定 [0386] 对制得的积层体2的本偏光膜使用X射线衍射装置X’Pert PRO MPD(思百吉株式会社制)进行X射线衍射测定。使用Cu作为靶标，使在X射线管电流40mA、X射线管电压45kV的条 件下发出的X射线介由固定发散狭缝1/2°从摩擦方向(预先求出在偏光膜下的取向膜的摩 擦方向。)入射，在扫描范围2θ＝4.0～40.0°的范围下以2θ＝0.01671°的步进扫描，进行测定，结果，在2θ＝20.1°附近得到半峰全宽(FWHM)＝约0.31°的尖锐的衍射峰(布拉格峰)。此外，从摩擦垂直方向入射也得到同样的结果。从峰位置求出的秩序周期(d)为约 可知 形成了反映高度近晶相的结构。 [0387] 4.二色性比的测定 [0388] 为了确认本起偏器的有用性，如下测定二色性比。 [0389] 使用在分光光度计(岛津制作所株式会社制UV-3150)上设置了带有起偏器的折叠器(Folder)的装置，通过双光束法测定在最大吸收波长下的透光轴方向的吸光度(A1)及吸 光轴方向的吸光度(A2)。所述折叠器在参比侧设置了将光量截断50％的网眼。由测定的透 光轴方向的吸光度(A1)及吸光轴方向的吸光度(A2)的值算出比(A2/A1)，作为二色性比。最 大吸收波长(λmax1)为506nm，在该波长下的二色性比显示为30的较高值。可以说二色性比 越高，越是作为偏光膜而有用。此外，在此偏光膜形成用组合物中使用的二向色性色素以溶 液的形式测定的最大吸收波长(λmax2)为450nm，明确了向长波长侧移动。此向长波长侧移 动的结果显示了：在本偏光膜中，在聚合性液晶化合物聚合而形成的紧密的分子链之间，化 合物(1A)分散于其中时，所述化合物(1A)与该分子链强烈地相互作用着。 [0390] 实施例4 [0391] 除了使用化合物(1D)代替化合物(1A)以外，与实施例3同样地，制作本偏光膜。同样地测定最大吸收波长以及二色性比，结果最大吸收波长(λmax1)为494nm，二色性比显示 30的较高值。测定二向色性色素溶液的最大吸收波长(λmax2)为446nm，明确了向长波长侧 移动。该结果显示了：在本偏光膜中，在聚合性液晶化合物聚合而形成的紧密的分子链之 间，化合物(1A)分散于其中时，所述化合物(1A)与该分子链强烈地相互作用着。 [0392] 实施例5 [0393] 除了使用化合物(2-22)代替化合物(2-6)、使用化合物(2-25)代替化合物(2-8)以外，与实施例3同样地制作偏光膜。同样地测定最大吸收波长以及二色性比，结果最大吸收 波长(λmax1)为500nm，二色性比显示为27的较高值。测定二向色性色素溶液的最大吸收波 长(λmax2)为450nm，明确了向长波长侧移动。 [0394] 实施例6 [0395] 除了使用化合物(2-22)代替化合物(2-6)、使用化合物(2-25)代替化合物(2-8)以外，与实施例4同样地制作偏光膜。同样地测定最大吸收波长以及二色性比，结果最大吸收 波长(λmax1)为492nm，二色性比显示为28的较高值。测定二向色性色素溶液的最大吸收波 长(λmax2)为446nm，明确了向长波长侧移动。 [0396] 实施例7 [0397] 除了使用聚合性向列型液晶化合物(巴斯夫社制商品名LC242)100份代替化合物(2-6)及(2-8)以外，与实施例3同样地制作偏光膜。同样地测定最大吸收波长以及二色性 比，结果最大吸收波长(λmax1)为464nm、二色性比为10。测定二向色性色素溶液的最大吸收波长(λmax2)为450nm。 [0398] 实施例8 [0399] 除了使用聚合性向列型液晶化合物(巴斯夫社制商品名LC242)100份代替化合物(2-6)以及(2-8)以外，与实施例4同样地制作偏光膜。同样地测定最大吸收波长以及二色性 比，结果最大吸收波长为462nm，二色性比为10。测定二向色性色素溶液的最大吸收波长(λ max2)为446nm。 [0400] 比较例1 [0401] 除了使用日本专利1454637记载的“色素编号5”的化合物代替化合物(1A)以外，与实施例3同样地制作偏光膜。同样地测定最大吸收波长以及二色性比，结果最大吸收波 长 （λmax1）为398nm，二色性比为20。测定二向色性色素溶液的最大吸收波长（λ.max2）为 386nm。所述二向色性色素的最大吸收波长为400nm以下，此外，向长波长侧移动量小。 [0402] “色素编号5”的化合物 [0403] [0404] 比较例2 [0405] 除了使用日本专利1454637记载的“色素编号1”的化合物代替化合物（1A）以外，与实施例3同样地制作偏光膜。同样地测定最大吸收波长以及二色性比，结果最大吸收波长为446nm，二色性比为4。测定二向色性色素溶液而得的最大吸收波长（λmax2）为436nm。二色性比低，向长波长侧移动量小。 [0406] “色素编号1”的化合物 [0407] [0408] 产业上的可利用性 [0409] 本发明的新型化合物作为偏光膜制造用二向色性色素极为有用，在产业上的价值高。 |
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