1.一种组合物，其包含金属离子源、一种或多种抑制剂及至少一种包含直链或支化的含式L1结构单元的聚合双胍化合物或通过使双胍基与有机或无机酸反应形成的聚合双胍化合物相应盐的添加剂：
其中
1
R 各自独立地选自H原子或具有1-20个碳原子的有机基团，
2
R 为具有1-20个碳原子的二价有机基团，其任选地含有聚合双胍支链，n为2或更大的整数。
1
2.根据权利要求1的组合物，其中R 选自H原子或经取代或未经取代的C1-C10烷基。
1
3.根据前述权利要求中任一项的组合物，其中R 为H原子。
2
4.根据前述权利要求中任一项的组合物，其中R 选自经取代或未经取代的直链C2-C8链烷二基。
5.根据前述权利要求中任一项的组合物，其中n为2-6000。
6.根据前述权利要求中任一项的组合物，其中聚合双胍化合物的数均分子量Mn大于
300g/mol，其通过凝胶渗透色谱法测定。
7.根据前述权利要求中任一项的组合物，其中添加剂可通过使下列组分反应而制得：
-二氰胺化合物，
-至少一种包含至少两个伯和/或仲氨基的氨基化合物，及
-无机或有机质子酸。
8.根据权利要求7的组合物，其中至少一种氨基化合物为脂族或芳族二胺、三胺、多胺或其混合物。
9.根据权利要求7的组合物，其中至少一种氨基化合物为末端二胺。
10.根据前述权利要求中任一项的组合物，其中金属离子包括铜离子。
11.根据前述权利要求中任一项的组合物，其进一步包含一种或多种促进剂。
A A1 A1' A
12.根据权利要求11的组合物，其中促进剂选自式MO3S-R -S-S-R -SO3M 的化合物，其中
A
M 为氢或碱金属，
A
X 为P或S，
d为2-4的整数，
A1
R 选自C1-C8烷基或杂烷基、芳基或杂芳基，
A1' A1 A1' A1
R 选自R ，其中R 可与R 相同或不同，
A' A A' A
X 选自X，其中X 可与X 相同或不同，及
A' A A' A
M 选自M，其中M 可与M 相同或不同。
13.根据权利要求11的组合物，其中促进剂为双-(3-磺丙基)二硫化物。
14.根据前述权利要求中任一项的组合物，其进一步包含卤离子。
15.根据权利要求14的组合物，其中卤离子为氯离子。
16.如前述权利要求中任一项所定义的添加剂在沉积含金属的层的浴中的用途。
17.一种通过以下步骤在衬底上沉积金属层的方法：
a)使包含根据权利要求1-16中任一项的组合物的金属镀浴与衬底接触，和b)以足以沉积金属层至衬底上的时间施加电流密度至衬底。
18.根据权利要求17的方法，其中衬底包括微米或纳米尺寸的结构，并且进行沉积以填充微米或纳米尺寸的结构。
19.根据权利要求18的方法，其中微米或纳米尺寸的结构具有1-1000nm的尺寸和/或
4或更大的纵横比。
20.根据权利要求18或19的方法，其中微米或亚微米尺寸的结构具有1-100nm的尺寸。