由基质和掺杂材料组成的混合物,及由其构成层的方法

申请号 CN200710089662.0 申请日 2007-03-21 公开(公告)号 CN101093874A 公开(公告)日 2007-12-26
申请人 诺瓦莱德公开股份有限公司; 发明人 安斯加尔·维尔纳; 迈克尔·利默特;
摘要 本 发明 涉及由至少一种基质材料和至少一种掺杂材料组成的混合物,用于制备由掺杂的有机材料构成的层,其中,所述掺杂材料是一种非活性的 掺杂剂 前体,并选自掺杂剂的二聚体、低聚物、 聚合物 、二螺化合物或多环,其中,所述掺杂材料通过施加活化 能量 而被分解。
权利要求

1.由至少一种基质材料和至少一种掺杂材料组成的混合物,用于 制备由掺杂的有机材料构成的层,其特征在于,所述掺杂材料是一种 非活性的掺杂剂前体,并选自掺杂剂的二聚体、低聚物、聚合物、二 螺化合物或多环,其中,所述掺杂材料通过施加活化能量而被分解。
2.根据权利要求1的混合物1,其特征在于,所述掺杂剂选自:


其中,结构3具有一个或多个环状连接A和/或A1和/或A2,其 中A、A1和A2可以是环、杂环和/或多环状的环体系,它们可以被取 代或未取代;
其中,在结构5中,A1和A2如上定义,T=CR22、CR22R23、N、 NR21、O或S;
其中,结构7具有一个或多个桥连接Z和/或Z1和/或Z2,其中, Z、Z1和Z2独立地选自烷基、烯基、炔基、环烷基、甲烷基、烷基 甲硅烷基、偶氮、二硫化物、杂环烷基、杂环基、哌嗪基、二烷基醚、 聚醚、伯烷基胺、芳基胺和聚胺、芳基和杂芳基;
其中,在结构8a-8c中,每个杂环中环的大小可以为5到7个原子
其中,X、Y=O、S、N、NR21、P或PR21;R0-18、R21、R22 和R23独立地选自,取代或未取代的芳基、杂芳基、杂环基、二芳基 胺、二杂芳基胺、二烷基胺、杂芳基烷基胺、芳基烷基胺、H、F、环 烷基、卤代环烷基、杂环烷基、烷基、烯基、炔基、三烷基甲硅烷基、 三芳基甲硅烷基、卤素、苯乙烯基、烷基,芳氧基、硫代烷氧基、 硫代芳氧基、甲硅烷基和三烷基甲硅烷基炔基,或者,其中,R0-18、 R21、R22、R23单独地或组合为(杂)脂族或(杂)芳族的环体系部分。
3.根据权利要求1或2的混合物,其特征在于,选择电子传输材 料作为基质材料。
4.根据权利要求3的混合物,其特征在于,所述基质材料选自喹 啉络合物、菲咯啉、杂芳香族化合物、金属酞菁络合物和/或 Buckminster-富勒烯
5.通过沉积制备在基底上由掺杂的有机材料构成的层的方法,其 中,掺杂的有机材料含有至少一种基质材料和至少一种掺杂材料,其 特征在于,根据权利要求1到4之一的混合物在一个共同的蒸发源中 转化为蒸汽相,接下来沉积在基底上,其中,所述掺杂材料作为非活 性的掺杂材料使用,并且所述掺杂材料在该方法过程中被活化。
6.根据权利要求5的方法,其特征在于,通过光能、微波、超声、 热能和/或电能进行活化。
7.根据权利要求5或6之一的方法用于形成有机发光二极管的掺 杂的传输层的用途。
8.根据权利要求5或6之一的方法用于形成有机太阳能电池的掺 杂的传输层的用途。

说明书全文

根据权利要求1和4的前述部分,本发明涉及由至少一种基质材料 和至少一种掺杂材料组成的混合物,以及通过沉积制备在基底上由掺 杂的有机材料构成的层的方法。

发明背景

掺杂的半导体材料例如考虑用于有机发光二极管(OLED)中。在 此区分为不同类型的掺杂的层。载流子传输层掺杂有强给体化合物或 强受体化合物。通过基质材料和掺杂材料之间的电荷迁移使得该层对 电子或空穴有相当高的导电率。这如下改善了有机发光二极管的电学 性质,使得对于确定的亮度需要较小的驱动电压。此外还带来众多其 它优点,例如载流子更好地从电极注入,因此对其制备而言可考虑选 择其它材料。另外,这样掺杂的层的厚度可以在宽范围内变化,传输 层中的欧姆损失不会影响器件的效率。因此例如可以这样选择层厚 度,使得器件中产生的光通过构造性干涉而最佳地从器件中耦合输 出。
对于这种掺杂的层,常常选择摩尔浓度为1∶1(掺杂剂∶基质)到 1∶100。掺杂的有机半导体层也用于其它有机器件中,例如有机太阳能 电池或有机TFTs。这种掺杂的层例如可以由4,4′,4″-三(3-甲基苯基 苯基基)三-苯胺(m-MTDATA)和四氟四氰基华二甲烷(F4-TCNQ)以摩 尔比1∶50组成的混合物构成。这种掺杂层的其它形式是可以由红菲绕 啉(BPhen)和铯以例如1∶8的摩尔比构成。
在制备有机半导体层时,有机物质转化为气相,然后沉积。原则 上,有机物质可以由液相或由固相转入气相中。第一种情况称为蒸 发,第二种情况称为升华。为了便于阅读,以下同意思使用这两种叫 法,每种情况都应该包括既从固相也从液相进行蒸发
目前,掺杂的有机层通过混合蒸发而制备。在此情况下,将基质 材料和掺杂材料装入各自的蒸发源(蒸发器)中,并在高真空条件同时进 行升华。来自两个蒸发源的蒸汽在基底上沉积下来。取决于所选择的 蒸发速率、蒸发源的辐射特性以及排列的形状,得到所形成层的确定 混合比。
这些方法具有一系列缺点。在整个蒸发过程中,必须很准确地控 制蒸发源的蒸发速率,以便实现均匀掺杂。此外必须这样提供辐射特 性和蒸发源的排列,使得在基底的整个面上,基质材料和掺杂剂的流 动比例是恒定的。尤其是对于具有大基面的基底而言,保证实现这点 是非常耗费的。另外,在设计蒸发装置时,对于每种掺杂的层,必须 额外设置用于掺杂剂的蒸发器。尤其是显著增加了这种装置的维护成 本。最后,为了运行蒸发器,产生明显增加的控制技术成本。
本发明的目的是提供一种制备由掺杂的有机材料构成的层的方 法,其克服了现有技术缺陷。尤其是提供一种方法,其中,基质材 料和掺杂材料在共同的蒸发源中进行蒸发,并可以沉积在基底上。同 时提供一种由基质材料和掺杂材料组成的混合物,该混合物可以用于 这种方法中。最后还指出本发明方法的应用可能性。
这些目的是通过独立权利要求4的方法以及通过权利要求1的混合 物而实现的。其它优选的实施方式由从属权利要求给出。
根据本发明是一种通过沉积制备在基底上由掺杂的有机材料构成 的层的方法,其中,掺杂的半导体材料含有至少一种半导体-基质材料 和至少一种掺杂材料,并且其中,至少一种半导体-基质材料和至少一 种掺杂材料的混合物借助蒸发源而转化为蒸汽相,并且接下来沉积在 基底上。可以使用两种或更多种材料的混合物。可以考虑权利要求中 记载的材料作为基质材料和掺杂材料。
在本发明中,术语“二聚体”是指通过两个单基或双基相互反应 而形成的化合物。
术语“低聚物”是指由多个双基形成的化合物,其中,一个双基 的第一个基端部与另一双基的第一个基端部进行反应,因而新形成第 二个端部,更大的双基再与另一双基的第二个端部进行反应。
术语“聚合物”是指相对低聚物而言由更多双基形成的化合物。
根据本发明,“二螺化合物”是双基的分子内加成产物,其基团 中心这样间隔结构要素,使得所述结构要素结合形式上带有基团的 (亦即相互反应的)原子
根据本发明,“多环”是双基的分子内加成产物,其基团中心这 样间隔结构要素,使得所述结构要素结合形式上带有基团的(亦即相 互反应的)碳原子以外的原子(即,为此结合至少一个至少是α-位的原 子)。
制备掺杂层的优选的本发明方法包括以下这些步骤:
(i)通过混合半导体材料和掺杂材料而制备预掺杂的材料,
(ii)加热蒸发在真空室的蒸发源中的预掺杂材料,并且蒸汽沉积 在基底上,和
(iii)通过输入能量而使沉积的层活化。
预掺杂材料的制备例如可以通过混合成分的固相或者通过在溶液 中混合以及随后除去溶剂而实现。在有利的方案中,预掺杂的材料在 特别的压制件中使用。例如有利的是,由预掺杂的材料制备压制品, 然后在随后的步骤(ii)中使用该压制品。出于其它目的,有利地可以使 用作为粉末的预掺杂材料。
在本发明方法一种有利的方案中,在步骤(i)和(ii)中尽可能或者 完全避免加入活化能量。
用于步骤(iii)的合适的活化能量例如可以是光能、微波、超声、 热能电能
采用上述方法能够简化掺杂层的制备。同样可以这样设计基质材 料和掺杂剂的分子流动性质,因为两者都可以由同一蒸发源进行升华/ 蒸发。蒸发速率的比值尽可能与时间无关,因为仅仅控制温度。还可 以简化设计蒸发器设备来实施该方法。在计划和运行蒸发器设备以制 备带有掺杂的半导体层的器件时,尤其是在制备带有有机层的器件如 有机发光二极管时,省却了用于至少一个蒸发源的成本。
通常,在通过蒸发预掺杂材料来制备掺杂的层时存在两个困难。 首先,基质材料和掺杂材料的蒸发温度会非常不同。这会导致预掺杂 材料的组成与掺杂层的组成不相应。对于该困难已提出了技术解决方 案(A.Werner等人,EP1643568;M.Long等人,“New capabilities in vacuum thermal evaporation sources for small molecule OLED Manufacturing”,SID 06 Digest,第1474页)。但同样还存在着困难, 传统的基质材料和掺杂材料相互自发地进行化学反应。而在层沉积后 希望产生掺杂效果,这就不利地影响到对由预掺杂材料构成的掺杂层 的加工。原因在于,基质和掺杂剂的反应产物具有盐的特征,因此很 难蒸发或者不再能蒸发。
这种情况的例子是,为了制备掺杂的电子传输层,使给体类客体 材料与受体类主体材料进行混合。例如当混合红菲绕啉与铯时形成 盐,其不再能无残留且无分解产物地进行蒸发(同样适用于空穴传输 层,例如当F4TCNQ与m-MTDATA混合时)。
所形成的化合物例如可以称为电荷-迁移剂-络合物,或者称为自由 基离子盐或者一般称为盐。其可以具有很高的晶格能,例如由于盐的 负离子和正离子的静电吸引。这会导致这样的化合物直到分解温度也 不会蒸发。如果通过涂抹而向强受体类的黄色分子F4TCNQ中混入给 体类的白色分子m-MTDATA,则形成深色的粉末。该粉末直到400℃ 也不会蒸发,虽然两种成分单独地分别在250℃以下就可以沉积下 来。上述方法可以防止蒸发源中发生这种不希望的效果。
如果两种成分(直接起作用的掺杂剂和属于其的基质)在蒸发源中 已经混合,如上所述,则立即发生反应:电子密度从一种分子迁移到 另一种分子上。在本发明方法中,可以使用较少的反应性掺杂剂前 体,其不能自发地与基质材料反应。两者可以任意地同时存在,而且 完全和干净地从源中升华,没有留下反应产物。一旦所含有的掺杂剂 前体被合适地激发,优选用短波长的光(蓝光或近紫外光),则沉积的层 就得到掺杂。该掺杂剂前体(例如二聚体)此时通常不可逆地分解为两 个相同的、但现在是高反应性的独特的掺杂剂,它们在n-掺杂情况下易 于向周围的基质释放电子(或者可认为直接在激发和然后的分解之后也 释放电子)。该掺杂过程纯粹基于化还原-化学而不是基于(路易斯)酸/ 化学。后者尤其是由于在分解前体物质时不释放氢原子或酸而受到 阻止。这会导致半导体材料不希望的p-掺杂,从而部分或完全抵消所 希望的n-掺杂效果。
该过程的产物是掺杂的基质以及掺杂剂的正离子、准惰性的最后 阶段。因此现在得到均匀掺杂的、半导体性导电的层。
根据本发明,此时放弃了从两个不同的源进行混合蒸发,而是由 基质(例如受体类的材料)和掺杂剂前体(例如给体类的材料,通过上述 激发就会使其发挥出掺杂作用)组成的合适的混合物一起从一个源中蒸 发出来。
前体化合物或前体不可逆的分解可能首先通过激发基质或掺杂剂 前体而发生,然后电子从前体化合物迁移到基质材料上。前体化合物 相应被氧化。认为,前体物质在氧化状态下不稳定,前体物质中的键 发生不可逆的断裂。键断裂缺乏可逆性抑制了电子再传递回来,因而 使掺杂状态稳定化。前体物质氧化状态的不稳定性例如表明,在电化 学试验中可以不可逆地进行氧化。
以上描述并不是限制以下情形,由于该原因,在根据本发明将所 述杂环化合物用于掺杂层中时,形成了属于各杂环基和双基的正离 子,尤其是通过至少一个电子从各杂环基和双基、其二聚体、低聚物、 二螺化合物或多环迁移到周围的基质材料上而形成。此时同样形成了 基质材料的负离子,其在基质材料上移动。基质材料以此方式获得了 相对于未掺杂基质材料的导电率有所提高的导电率。未掺杂的基质材 料的导电率通常<10-8S/cm,尤其是常常<10-10S/cm。此时需注 意,基质材料要具有足够高的纯度。这样的纯度是用传统方法,例如 梯度升华而达到的。通过掺杂,这样的基质材料的导电率升高到大于 10-8S/cm,常常>10-6S/cm。这尤其适合于以下基质材料,其相对于 Fc/Fc+的还原电势小于-1V,优选相对于Fc/Fc+小于-1.7V,尤其是相 对于Fc/Fc+小于-2.1V。符号Fc/Fc+是指氧化还原电对二茂/二茂铁 鎓,在电化学电势测定例如循环伏安法中将其用作参比。
除了以上描述的抑制同时蒸发的成分之间不希望的副反应外,用 本发明方法同样可以减小环境气氛对混合物可能的破坏性影响。即使 当事先存在已经掺杂的和此外尚可升华的混合物时,尤其是当电子从 强给体类的客体化合物迁移到弱受体类的主体(n-掺杂)时,还是需要特 殊的预防措施:空气分和氧气与混合物迅速反应,从而失去了掺杂作 用,并且最后有未掺杂的主体。尤其是权利要求中X-Y所表示的掺杂剂 和掺杂剂前体对大气物质的高耐受性能够使客体/主体混合物合适地用 于空气。
掺杂
作为可n-掺杂的基质材料,尤其可以使用喹啉络合物,例如或 其它主族金属的络合物,其中喹啉配体也可以被取代。基质材料尤其 可以是三(8-羟基-喹啉)-铝。也可以任选使用其它具有O-和/或N-给体 原子的铝络合物。

三(8-羟基-喹啉)-铝    Bphen=红菲绕啉(4,7-二苯基-1,10-菲咯啉)
                      C24H16N2

双-(2-甲基-8-喹啉)-4-(苯基-苯酚)-铝-(III)
喹啉络合物例如可以含有一个、两个或三个喹啉配体,其中,其 它配体优选与中心原子上的O-和/或N-给体原子络合,例如上述Al-络 合物。
作为基质材料,还可以使用菲咯啉,其可以被取代或未取代,尤 其是芳基取代,例如苯基取代或基取代。尤其可以使用Bphen作为 基质材料。
作为基质材料,还可以使用杂芳香族化合物,尤其是诸如噁二唑 或三唑,任选还有吡咯、咪唑、三唑、吡啶、嘧啶、哒嗪等。杂芳香 族化合物优选被取代,尤其是芳基取代,例如苯基取代或萘基取代。 尤其可以使用以下的三唑作为基质材料。

3-(4-联苯基)-4-苯基-5-叔丁基苯基-1,2,4-三唑 C.30H27N3
优选所用的基质材料完全由金属酞菁络合物尤其是ZnPc、卟啉络 合物、Buckminster-富勒烯尤其是富勒烯C60,或者多并苯尤其是并四 苯及其衍生物所组成。
应当理解,在本发明中,所述基质材料可相互间或与其它材料混 合地进行使用。应当理解,也可以使用具有半导体性质的合适的其它 有机基质材料。
用于OLED的典型电子传输材料相对于Fc/Fc+的还原电势约为 -2.3V。对于有机太阳能电池中的典型电子传输材料而言,相对于 Fc/Fc+的还原电势约为-1V。
通过活化所形成的给体应该具有氧化电势,其相对于Fc/Fc+(二 茂铁/二茂铁鎓氧化还原电对)小于或等于约-1.5V,优选小于或等于约 -2.0V,更优选小于或等于约-2.2V。
在预掺杂材料优选的压制件中,选择各成分,使得它们不自发地 相互反应,而是在相应活化后即发生反应。认为,当前体化合物的氧 化电势Vox_DP接近基质材料的还原电势Vred_Mat时,则可以自发地发生 电子从前体化合物向基质材料迁移。例如,在室温下,甚至在没有光 的情况下,10c,10c’-二(8,9-二甲基-2,3,5,6-四氢-1H,4H-3a, 6a,10b-三氮杂-荧蒽基)也自发地与NTCDA发生反应。10c,10c’-二 (8,9-二甲基-2,3,5,6-四氢-1H,4H-3a,6a,10b-三氮杂-荧蒽基) 相对于Fc/Fc+(在四氢呋喃中)的氧化电势为-0.74V,而NTCDA相对于 Fc/Fc+(在二氯甲烷中)的还原电势约-0.79V。与此相应地,有利的是 Vox_DP-Vred_Mat大于0.05V,优选大于0.2V,更优选大于1V。由于势 垒增大,因而较大的差别降低了热电子迁移的速度。
在一些应用中有利地选择该差别这么大,使得必须要确定的最小 能量的光(例如蓝光)用于活化,而更小能量的光(例如黄光)不足以进行 活化。在此情形下,本发明方法可以在黄光条件下操作的常见生产空 间中进行。生产者可以通过视觉来监控该方法,因为通过黄光不能发 生掺杂的活化。层沉积后,则可以通过用蓝光照射而进行活化。
在本发明的预掺杂材料有利的压制件中,前体物质具有确定的最 小尺寸。根据本发明人的经验,特别是对于较小尺寸的掺杂剂,要考 虑层沉积后掺杂剂的扩散。这使得形成良好限定的掺杂的空间结构变 得困难。以基础性的基团计,该结构应该至少由2个分子环构成,优选 由至少3个环或更多环构成。这些环可以彼此缩合或者简单结合,任 选含有杂原子,并且分别是饱和或不饱和的。掺杂剂应该由至少15个 原子,优选至少35个原子形成。摩尔质量超过100g/mol,优选 200g/mol。以上要求导致掺杂剂需要空间,使得掺杂剂牢固地固定在 基质中。相应较高的值适用相应的前体化合物,这视其含有多少个基 团单元而定。对于二聚体作为前体化合物的情况,例如分别规定加倍 的值。
掺杂浓度
优选掺杂剂与基质分子或聚合物基质分子的单体单元的掺杂浓度 ≤1∶1,优选掺杂浓度为1∶2或更小,特别优选1∶5或更小或者1∶10或更 小。掺杂浓度可以在1∶1到1∶100000范围内,尤其是在1∶5到10000或1∶10 到1000范围内,例如在1∶10到1∶100或1∶25到1∶50范围内,但并不限于此。
实施例
如上所述,在使用预掺杂的材料时存在两个困难。以下实施例优 选用基质材料和掺杂材料进行,它们尽可能具有相近的蒸发温度。由 此可以表明,本发明的预掺杂材料和本发明方法事实上解决了第二个 困难,即,掺杂剂和基质的化学反应性。不过本领域技术人员立即会 发现,通过与所述其它解决方案结合使得该限制变得有可能,从而多 种其它传输材料可以与本发明的掺杂材料一起作为预掺杂的材料使 用。
实施例1:

Me-NTCDI(R=甲基)
为了制备预掺杂的材料Me-NTCDI:D1,将1g N,N’-二(甲基)-1, 4,5,8-萘四羧酸二酰亚胺(Me-NTCDI)和0.1g掺杂材料1,2,3,1’, 2’,3’-六甲基-2,3,2’,3’-四氢-2,2’-二-1H-苯并咪唑(“D1”)在研 钵中彼此混合。此时需注意,要减小光对混合物的影响。例如通过用 颜色RAL1028的彩色薄膜遮住工作区域来保证这点。该彩色薄膜过滤 掉绿色和蓝色颜色范围的光,仅透过桔黄色的光。从而减小或抑制了 Me-NTCDI和D1的光诱导反应。
将四分之一的预掺杂材料装入真空室传统的蒸发源中。通过在约 10-6Pa压下的加热蒸发而使一层沉积在基底上。该基底设置有两个 平行的铟--氧化物条,用它们来确定导电率。接触达14mm长,间距 为1.25mm。
在基底上由混合物沉积总层厚为1.5m的层(蒸发温度约 180℃)。在蒸发过程中真空室需隔光。起初观察到所形成的膜没有导 电性。打开视窗并用卤素灯照射该层之后,该层变成导电性的。导电 率平均为2·10-6S/cm。
打开真空室后,证实蒸发源中的源残留量约为1重量%。
Me-NTCDI相对于Fc/Fc+的还原电势约为-1.1V。因此较难掺杂, 尤其是明显难于经常使用的1,4,5,8-萘四羧酸二酐(NTCDA),其 相对于Fc/Fc+的还原电势约为-0.75V。D1相对于Fc/Fc+的氧化电势约 为-0.75V。基于D1的基团相对于Fc/Fc+的氧化电势为-1.99V。这为用 该材料实现的良好掺杂结果奠定了基础。
实施例2:

NTCDA
如实施例1所述制备预掺杂的材料NTCDA:D1。不过此时不用 Me-NTCDI而使用化合物1,4,5,8-萘四羧酸二酐(NTCDA)。观察到 颜色变成绿色。
在可比较地进行实验情况下,在照射层之前就已发现平均导电率 为2·10-6S/cm。打开真空室后,源残留量约为20重量%。
该结果可以归因于D1的氧化电势和NTCDA的还原电势的差别较 小。
实施例3

并四苯
相应于实施例1,制备由1g并四苯和0.1g的1,2,3,1’,2’,3’- 六甲基-4,5,4’,5’-四苯基-2,3,2’,3’-四氢-2,2’-二-1H-咪唑(D2) 组成的预掺杂材料。
通过在约150℃下加热蒸发该混合物,照射后形成100nm厚的掺 杂层,导电率为10-7S/cm。没有观察到源残留。
并四苯相对于Fc/Fc+的还原电势约为-2.1V。D2的氧化电势非常 接近D1的氧化电势。基于D2的基团相对于Fc/Fc+的氧化电势为-2.79 V。这对于在并四苯中为n-掺杂达到的良好掺杂结果奠定了基础。
实施例4:
由1g红荧烯Zn(ZnTPP)和0.1g D2制备预掺杂的材料红荧 烯:D2。
在压机中由该材料制备1mm高和直径为10mm的压制品(使用动力 学真空,压力为5吨)。
将压制品的四分之一加入蒸发源中,其它如实施例1所述加以使 用。此时形成1.2m厚的层,活化后该层的平均导电率为5-10-7 S/cm。没有观察到源残留。
压制品的蒸发温度约为210℃,大致相应于红荧烯本身的蒸发温 度。颇有意思的是,D2明显足够固定地包埋在压制品中,尽管其有较 高的挥发性(蒸发温度约130℃),但D2仍与红荧烯一起嵌入层中(并且在 加热预掺杂的材料过程中也不转入气相中)。
可以在通常的挤压装置中进行压制,例如在红外光谱中用以制备 KBr-压片的挤压装置。在此情况下,更易挥发的成分的分子份额有利 地为50%或更小,较有利地为10%和更小。更易挥发的成分有利地是 掺杂剂。
借助压制来压缩混合物中的所有孔,因此材料只可以从压制品的 表面升华。这均匀地适用于更挥发性的成分,该成分一旦露出来,就 以预定的比例与不太挥发的成分一起转入气相中。以此方式,在获得 预先调节的量比例情况下,较难挥发的成分的升华行为决定了总混合 物的升华行为。
红荧烯相对于Fc/Fc+的还原电势为2.06V。
实施例5:

CF-Ox
2,2′-(1,3-亚苯基)双[5-[4-(三氟甲基)苯基]-1,3,4-噁二唑]
如实施例1那样,混合1g CF-Ox和0.1g D2来制备预掺杂的材料。 没有观察到颜色转变。通过在约160℃下对混合物进行加热蒸发来制 备层。该层在活化前表现出低于测量界限的导电率。用汞蒸汽灯的光 进行活化后,该层表现出10-7S/cm的导电率。
基质材料CF-Ox相对于Fc/Fc+的还原电势约为-2.2V。
根本上来说,在上述说明书和权利要求中公开的本发明的特征既 可以单独地也可以以任意组合形式用于以不同的实施方式实现本发 明。
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