子分类：
- B01D19/0005： .{采用一个或多个辅助物质}
- B01D19/0021： .{通过在薄层上导入液体}
- B01D19/0031： .{通过过滤}
- B01D19/0036： .{快速脱气(其他组优先)}
- B01D19/0042： .{调节液体流动(B01D19/0021优先)}
- B01D19/0063： .{包括阀门以及浮球的控制,调节(阀门的构造细节入F16K)}
- B01D19/0068： .{总体布置图,例如,流程图(B01D19/0063优先)}
- B01D19/0073： .{通过一个没有在小组B01D19/0005到B01D19/0042覆盖的主题的方法}
- B01D19/02： .泡沫的分散或防止(在沸腾期间入B01B1/02;在发酵期间入C12)
| 序号 | 专利名 | 申请号 | 申请日 | 公开（公告）号 | 公开（公告）日 | 发明人 |
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| 181 | 薬液タンク | JP2015179869 | 2015-09-11 | JP6404792B2 | 2018-10-17 | 栗田 昌人 |
| 182 | 中空糸脱気モジュール及び当該中空糸脱気モジュールを用いて液体を脱気する方法 | JP2018503264 | 2017-06-28 | JP6380703B2 | 2018-08-29 | 藤枝 重昭; 大井 和美; 菅沼 洋平 |
| 183 | 電気伝導度によるpH制御方法 | JP2017014354 | 2017-01-30 | JP2018122210A | 2018-08-09 | 岩▲崎▼ 守; 育野 望 |
| 【課題】pH緩衝作用が低い脱炭酸処理水を中性pH(6〜8)とするようにアルカリ又は酸の添加量を制御する方法において、この添加量を脱炭酸処理水のpH変化に迅速に追従して制御することができる方法を提供する。 【解決手段】脱炭酸処理水にアルカリ又は酸を添加してpHを中性領域(pH6〜8)に制御する方法において、電気伝導度計を利用してアルカリ又は酸添加量を制御するpH制御方法。脱炭酸処理水は、工業用水又は地下水を炭酸濃度が10ppm以下となるように脱炭酸処理した水などである。 【選択図】図1 |
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| 184 | 汚泥処理装置および汚泥処理方法 | JP2017020492 | 2017-06-01 | JPWO2017213024A1 | 2018-06-21 | 黒木 洋志; 平敷 勇; 有馬 芳明; 古川 誠司; 時盛 孝一; 小原 慎太郎; 大泉 雅伸; 若村 修; 臼井 肇 |
| 汚泥処理装置(100)は、汚泥含有液(X)が供給され、汚泥含有液(X)にオゾンガス(Q)を注入して泡汚泥(A1)を生成するオゾン反応槽(10)と、オゾン反応槽(10)の後段に設けられ、オゾン反応槽(10)から供給される泡汚泥(A1)に対して第1凝集剤(G1)を添加すると共に処理水(Z)を混合して、混合汚泥溶液(B)を生成する添加槽(20)とを備え、オゾンガス(Q)により可溶化した汚泥を凝集して、有機物量が多い凝集された汚泥を生成する。 | ||||||
| 185 | 汚泥処理装置および汚泥処理方法 | JP2017555607 | 2017-06-01 | JP6334833B2 | 2018-05-30 | 黒木 洋志; 平敷 勇; 有馬 芳明; 古川 誠司; 時盛 孝一; 小原 慎太郎; 大泉 雅伸; 若村 修; 臼井 肇 |
| 186 | 希釈薬液製造装置及び希釈薬液製造方法 | JP2016183087 | 2016-09-20 | JP2018049872A | 2018-03-29 | 藤村 侑; 顔 暢子; 床嶋 裕人 |
| 【課題】 半導体洗浄時の洗浄工程において、溶存酸素および溶存過酸化水素の両方を除去した希釈薬液を安全に製造・供給することの可能な希釈薬液の製造装置を提供する。 【解決手段】 希釈薬液の製造装置は、超純水Wの供給ライン1に白金族金属担持樹脂カラム2と、膜式脱気装置3と、ガス溶解膜装置4とを備え、白金族金属担持樹脂カラム2と膜式脱気装置3との間に洗浄薬液の注入装置5を設けた構成を有する。膜式脱気装置3の気相側には不活性ガス源6が接続しているとともにガス溶解膜装置4の気相側にも不活性ガス源7が接続していて、ガス溶解膜装置4には排出ライン8が連通している。 【選択図】 図1 |
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| 187 | pH・酸化還元電位調整水の製造装置 | JP2017068981 | 2017-03-30 | JP6299913B1 | 2018-03-28 | 顔 暢子; 藤村 侑 |
| 【課題】 pH及び酸化還元電位を正確に調整可能な高純度のpH・酸化還元電位調整水の製造装置を提供する。 【解決手段】 pH・酸化還元電位調整水の製造装置は、超純水Wの供給ライン1に白金族金属担持樹脂カラム2を設け、この後段にpH調整剤注入装置3Aと酸化還元電位調整剤注入装置3Bとを備える。この装置3A、3Bの後段に膜式脱気装置4と、ガス溶解膜装置5とを順次有し、ガス溶解膜装置5には排出ライン8が連通している。排出ライン8の途中には、pH計10AとORP計10Bとが設けられていて、これらpH計10A及びORP計10Bは、制御装置11に接続している。そして、pH計10A及びORP計10Bの計測結果に基づき、pH調整剤注入装置3Aと酸化還元電位調整剤注入装置3Bの注入量を制御する。 【選択図】 図1 |
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| 188 | 処理液の脱気判定方法 | JP2017508796 | 2015-03-31 | JPWO2016157251A1 | 2018-01-25 | 村山 隆史 |
| 【課題】表面に溝や穴からなる微細パターンを有する作業対象物を処理するための処理液の脱気度を、気体の種類等を問わず確実に判定する。【解決手段】本発明の処理液の脱気判定方法は、表面に溝や穴からなる微細パターンを有する作業対象物を処理するための処理液に含まれる気体の脱気を行う脱気処理槽内に、当該脱気処理槽内の前記処理液の脱気度を判定するための、表面に所要の凹凸を有する微細パターンを備えた疑似作業対象物を浸漬し、該疑似作業対象物の表面状態の時間変化に応じて、前記処理液の脱気度を判定する。【選択図】図1 | ||||||
| 189 | 水処理設備 | JP2017510929 | 2016-11-17 | JPWO2017086411A1 | 2017-11-16 | 瑞生 藤本; 昭博 森藤; 良太 佐藤 |
| 本発明は脱気性能に優れた中継槽を提供し、ひいては濾過性能に優れた水処理設備を提供することを目的としている。本発明は複数の通水孔が備えられた通水材を所定位置に配した中継槽を提供する。 | ||||||
| 190 | 膜の殺菌方法および該殺菌方法を実施し得るガス溶解液製造装置 | JP2016566840 | 2016-10-20 | JPWO2017069219A1 | 2017-10-19 | 中川 芳一; 芳一 中川; 英朗 隈本; 薫 寺澤; 菊屋 信之; 信之 菊屋; 田中 博之; 博之 田中; 板倉 正則; 正則 板倉 |
| 膜1の両表面のうちの一方の表面1bの側を液体側とし、他方の表面1aの側をガス側として、液体側の該膜の表面1bに殺菌剤2を接触させ、ガス側の該膜の表面1aにガス3を接触させ、前記液体側の圧力よりも前記ガス側の圧力を低い状態にして、膜内の高度な殺菌を達成する。また、この殺菌方法を実施し得るように構成された圧力差形成機構を、ガス溶解液製造装置に付与する。 | ||||||
| 191 | 中空糸脱気モジュール及びインクジェットプリンタ | JP2016566389 | 2015-12-22 | JPWO2016104509A1 | 2017-09-28 | 洋平 菅沼; 和美 大井 |
| 複数本の中空糸膜が円筒状に束ねられた中空糸膜束と、前記中空糸膜束が収容されて軸線方向に延びる筒体と、を備え、前記中空糸膜の外側に液体を供給するとともに前記中空糸膜の内側を減圧することで、前記液体を脱気する中空糸脱気モジュールであって、前記中空糸膜束の見かけ断面積に対する前記中空糸膜の見かけ断面積の総和の割合である中空糸膜充填率は、43%以下の範囲である。 | ||||||
| 192 | 脱気装置及びインクジェット記録装置 | JP2016564753 | 2015-11-25 | JPWO2016098536A1 | 2017-09-21 | 卓志 向山; 荒川 裕明; 裕明 荒川 |
| より速やかにインク漏れを検出することの出来る脱気装置及びインクジェット記録装置を提供する。脱気装置は、インク流路(24b)の途中に設けられ、一方の面がインク流路内のインクと接触する気体透過性の脱気膜と、真空吸引部(249)と、脱気膜の一方の面とは反対の面側と真空吸引部とを繋ぎ、真空吸引部の吸引動作に応じてインク中から脱離して脱気膜を透過した脱離気体が流れる真空経路(24c1)と、真空経路の途中に入射された光が真空経路を透過した後の透過光を検知する検知部(246)と、検知部による透過光量と所定の基準値との比較結果に基づいて脱気膜からのインク漏出を検出する検出制御部と、を備える。 | ||||||
| 193 | 脱気装置及びインクジェット記録装置 | JP2016564752 | 2015-11-25 | JPWO2016098535A1 | 2017-09-21 | 荒川 裕明; 裕明 荒川; 卓志 向山 |
| より速やかにインク漏れを検出することの出来る脱気装置及びインクジェット記録装置を提供する。脱気装置は、インク流路の途中に設けられ、一方の面がインク流路内のインクと接触する気体透過性の脱気膜と、真空吸引部と、脱気膜の一方の面とは反対の面側と真空吸引部とを繋ぎ、真空吸引部の吸引動作に応じてインク中から脱離して脱気膜を透過した脱離気体が流れる真空経路と、真空経路へのインク漏出を検出する漏出検出部と、を備え、漏出検出部は、真空経路内の状態を検知して、当該状態に応じた計測値を取得する検知部と、直近の計測値と比較するための比較値を過去の計測値の履歴に基づいて算出する比較値算出部と、直近の計測値と前記比較値との比較結果に基づいて前記脱気膜からのインク漏出の有無を判断する判定部と、を備える。 | ||||||
| 194 | 流路内気泡低減装置、流路内気泡低減方法、液供給装置、及びクロマトグラフィ装置 | JP2013113817 | 2013-05-30 | JP6190162B2 | 2017-08-30 | 瀬▲崎▼ 明; 笠井 督夫 |
| 195 | インク供給装置、インクジェット記録装置及びインク供給方法 | JP2016557691 | 2015-10-21 | JPWO2016072258A1 | 2017-08-24 | 時松 宏行; 宏行 時松 |
| 脱気モジュール内に気体を残留させることなくインクを導入し、速やかに画像形成を開始させることのできるインク供給装置を提供する。インクジェットヘッド24aにインクを供給するインク供給装置60は、第2サブタンク241に接続されインクが流通するインク流路2428と、気体が流通する気体流路2429とが、インク中の溶存気体を透過可能な中空糸膜2426により仕切られた脱気モジュール242と、気体流路2429を脱気することで、脱気モジュール242内を脱気する真空ポンプ249と、真空ポンプ249により気体流路2429内を脱気し、中空糸膜2426を介してインク流路2428内が脱気されてインク流路2428内が負圧になることでインクが流入され、インク流路2428内がインクで満たされた後、インクジェットヘッド24aにインクを送液する制御部40と、を備える。 | ||||||
| 196 | 冷媒中継装置、それを用いた冷却装置、および冷却方法 | JP2016549937 | 2015-09-15 | JPWO2016047098A1 | 2017-07-20 | 有仁 松永; 佐藤 正典; 正典 佐藤; 暁 小路口; 正樹 千葉; 吉川 実; 実 吉川 |
| 相変化冷却装置において、冷却性能の低下を防止するために気液分離構造を導入すると、製造コストが増加するため、本発明の冷媒中継装置は、冷媒を収容する冷媒収容部と、冷媒収容部の外周面に設けられ、気相冷媒と第1液相冷媒が流入する第1流入部と、冷媒収容部の外周面に設けられ、気相冷媒が流出する第1流出部と、冷媒収容部の外周面に設けられ、第2液相冷媒が流入する第2流入部と、冷媒収容部の外周面に設けられ、第1液相冷媒と第2液相冷媒とが流出する第2流出部、とを有する。 | ||||||
| 197 | 非加圧のオゾン化脱イオン水(DI03)の再循環及び回収システム並びに方法 | JP2017021242 | 2017-02-08 | JP2017121628A | 2017-07-13 | ジーヴェルト、ヨハネス ハインリッヒ; ブランマー、ウルリッヒ アルフレッド; ブラーシャ、マルタン; シュネイター、ゲルハルト ヨアヒム |
| 【課題】本発明は、一面において、オゾン化液体の再循環のためのシステムを提供する。 【解決手段】システムは、少なくとも2つの入口と少なくとも2つの出口とを有するコンタクタを有する。コンタクタは、第1コンタクタ入口を介して第1液源に流体的に連通しており、第2コンタクタ入口を介して第2液源に流体的に連通している。第2コンタクタ入口はガスを受け取り、該ガスは、第1コンタクタ入口において受け取られる液体からガスの少なくとも一部を取り除く。取り除かれるガスは、第1コンタクタ出口からコンタクタを出る。コンタクタは第2コンタクタ出口を介して第2液源に流体的に連通し、コンタクタはコンタクタ内の液体の少なくとも一部を排出する。排出される液体は、第2コンタクタ出口からコンタクタを出る。コンタクタは第1液源に流体的に連通する第3入口を有し、第3入口は第1液源に周囲圧力で液体を放出させる。 【選択図】なし |
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| 198 | 非枯渇式調節と断熱ソルベント加熱によるスチーム効率 | JP2015524231 | 2012-07-26 | JP6138255B2 | 2017-05-31 | ジョンソン,デニス・ダブリュ; ブラウン,ジェイムズ・エイチ; ピープルズ,ジョン |
| 199 | 薬液タンク | JP2015179869 | 2015-09-11 | JP2017055063A | 2017-03-16 | 栗田 昌人 |
【課題】容器に収納された薬液の液面の高さを精度よく計測する。 【解決手段】薬液タンク1は、薬液を収納する容器と、容器に収納された薬液に超音波を照射して、薬液の液面から反射された反射波が受信されるまでの時間により、液面の高さを計測するセンサと、容器内の超音波の照射位置を含む液面の一部領域に向けて気体を噴出する気体噴出部と、を備える薬液タンク。 【選択図】図1 |
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| 200 | 放出処理装置及び放出処理方法 | JP2015105838 | 2015-05-25 | JP2016215167A | 2016-12-22 | 藤澤 彰利; 半谷 広央; 松岡 亮; 野一色 公二 |
| 【課題】特定気体成分を吸収した吸収液からその特定気体成分を放出させる処理に要するエネルギを低減する。 【解決手段】放出処理装置3は、リッチ吸収液を流通させながらそのリッチ吸収液から特定気体成分を放出させるマイクロチャネルである放出流路50を備え、放出流路50は、リッチ吸収液とそのリッチ吸収液よりも沸点が低く且つそのリッチ吸収液に対して非相溶性の遊離剤の蒸気とを、特定気体成分がリッチ吸収液から遊離して遊離剤の蒸気へ移動するようにリッチ吸収液と遊離剤の蒸気が互いに接触した状態で流通させる遊離流路部54cを有する。 【選択図】図6 |
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