| 序号 | 专利名 | 申请号 | 申请日 | 公开（公告）号 | 公开（公告）日 | 发明人 |
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| 1 | 具有对光子通量的快速空间调制的X射线成像设备 | CN201480060664.5 | 2014-10-21 | CN105745718B | 2017-12-19 | R·K·O·贝林 |
| 呈现了一种X射线成像设备(1)和用于操作这样的设备的方法。在实施例中，所述设备(1)包括：X射线源(5)；第一光栅(13)、第二光栅(15)和第三光栅(17)的布置(12)；X射线探测器(7)；以及控制设备(21)。第一、第二和第三光栅(13、15、17)被布置在观察体积(3)的上游的区域中的X射线的射束路径(9)中。所述第二光栅(15)和所述第三光栅(17)中的至少一个包括多个子光栅(37)，其中，所述子光栅中的每个包括操纵工具(39)，所述操纵工具用于将所述子光栅关于所述第二光栅和所述第三光栅中的另一个进行位移。所述控制设备(21)适于控制所述操纵工具(39)。因此，可以对子光栅进行定位，使得在X射线透射通过所述第二光栅(15)后生成的干涉图样的强度最大值被布置为诸如与所述第三光栅(17)的强X射线吸收部分一致，或者与所述第三光栅(17)中的弱X射线吸收部分一致。因此，可以通过特定地定位所述子光栅中的每个来对通过所述布置(12)的X射线透射进行局部调整。 | ||||||
| 2 | 辐射生成器、防散射栅格及辐射成像装置 | CN201410034008.X | 2014-01-23 | CN103932724B | 2017-07-28 | 赵敏局; 裵贞儿; Y.萨卡伊 |
| 提供了辐射生成器、防散射栅格和包括辐射生成器和防散射栅格中的至少一者的辐射成像装置。辐射生成器包括：辐射源，其包括放射性同位素并被配置为生成辐射；第一开口，其被配置为使所生成的辐射之中的在指定方向上照射的辐射通过；以及会聚器，其被配置为将从辐射源照射的辐射会聚到第一开口中。 | ||||||
| 3 | 粒子射线照射装置及粒子射线治疗装置 | CN201410058032.7 | 2011-03-31 | CN103794261B | 2017-03-29 | 岩田高明 |
| 本发明的目的在于通过不使用团块而提高深度方向上的照射自由度，从而解决粒子射线治疗装置中的IMRT的过量照射问题。粒子射线照射装置(58)包括扫描照射系统(34)和生成柱状照射野的柱状照射野生成装置(4)，并安装于使带电粒子束(1)的照射方向旋转的旋转机架，柱状照射野生成装置根据照射对象的末端形状，生成具有一个SOBP宽度的柱状的照射野，并在照射对象的内侧生成具有不同的SOBP宽度的柱状的照射野，扫描照射系统进行扫描照射，以铺满具有一个SOBP宽度的柱状的照射野，使得与照射对象的末端形状一致，并在柱状的照射野的内侧铺满具有不同的SOBP宽度的柱状的照射野。 | ||||||
| 4 | 一种放射治疗装置 | CN201310063370.5 | 2013-02-28 | CN103285526B | 2017-03-22 | C.W.珀金斯 |
| 本发明涉及直线加速器中或与其有关的改进，用于放射治疗装置的初级准直仪可以由若干个层组成，每层包括若干个孔，并且每层是可移动的，以便选择特定的孔来建立初级准直仪形状。以这种方式，可以使初级准直仪的形状适合于初级准直仪组件和/或将射束过滤器结合到初级准直仪组件中。这在辐射头中节省了空间，同时还允许过滤器容易地互换。 | ||||||
| 5 | 台架型粒子射线照射装置及具备该装置的粒子射线治疗装置 | CN201280072478.4 | 2012-04-19 | CN104246907B | 2016-10-05 | 菅原贤悟; 花川和之; 本田泰三 |
| 在从圆形加速器射出的粒子射线的X方向的发射率较小、Y方向的发射率较大、且从照射嘴向照射目标照射该粒子射线的具备台架的台架型粒子射线照射装置中，照射嘴具备脊形过滤器，将以粒子射线射入照射嘴的位置上、圆形加速器的射出位置的X方向的发射率以及Y方向的发射率被分离从而保持各自的发射率的方式对粒子射线进行输送的台架的角度作为台架的基准角度，对脊形过滤器进行设置，使得在台架处于基准角度的状态下，保持了X方向的发射率的方向相对于与脊形过滤器的脊部垂直的方向倾斜规定角度。 | ||||||
| 6 | 用于元器件电离辐照的X射线辐照方法 | CN201610516217.7 | 2016-07-04 | CN105976888A | 2016-09-28 | 李豫东; 于刚; 于新; 何承发; 文林; 郭旗 |
| 本发明涉及用于元器件电离辐照的X射线辐照方法，该方法涉及辐照装置是由X光管、准直器、限束板、低能散射滤片、电动三维平台、辐照平台、激光指示器、水循环进出口组成，该方法实现了X射线能量、剂量率连续可调、辐照束斑连续可调，且可以去除低能散射对辐照结果的影响，为元器件电离辐照提供较理想的条件。该方法将为元器件电离总剂量辐射效应研究及试验评估提供方便快捷、低成本的电离辐照条件，对提升电子元器件抗辐射加固的基础支撑能力具有重要意义。 | ||||||
| 7 | 具有对光子通量的快速空间调制的X射线成像设备 | CN201480060664.5 | 2014-10-21 | CN105745718A | 2016-07-06 | R·K·O·贝林 |
| 呈现了一种X射线成像设备(1)和用于操作这样的设备的方法。在实施例中，所述设备(1)包括：X射线源(5)；第一光栅(13)、第二光栅(15)和第三光栅(17)的布置(12)；X射线探测器(7)；以及控制设备(21)。第一、第二和第三光栅(13、15、17)被布置在观察体积(3)的上游的区域中的X射线的射束路径(9)中。所述第二光栅(15)和所述第三光栅(17)中的至少一个包括多个子光栅(37)，其中，所述子光栅中的每个包括操纵工具(39)，所述操纵工具用于将所述子光栅关于所述第二光栅和所述第三光栅中的另一个进行位移。所述控制设备(21)适于控制所述操纵工具(39)。因此，可以对子光栅进行定位，使得在X射线透射通过所述第二光栅(15)后生成的干涉图样的强度最大值被布置为诸如与所述第三光栅(17)的强X射线吸收部分一致，或者与所述第三光栅(17)中的弱X射线吸收部分一致。因此，可以通过特定地定位所述子光栅中的每个来对通过所述布置(12)的X射线透射进行局部调整。 | ||||||
| 8 | 放射治疗装置 | CN200980128373.4 | 2009-05-15 | CN102099081B | 2016-04-13 | K·布朗; M·G·汤普森; D·A·罗伯茨; P·M·埃文斯; V·N·汉森 |
| 为治疗MV源实现一致的探测KV源-所谓的“射束视角”源是期望的。已建议使用来自电子窗口的轫致辐射；我们提出用于实现此的实际结构，其可以在治疗束和射束视角诊断束之间容易地切换，能够提供良好的图像分辨率。该辐射源包括电子枪，位于由所述电子枪产生的射束的通道中的一对靶，所述一对靶中的一个靶是具有比其他材料更低的原子序数的材料，以及可从所述射束的通道插入并取回的电子吸收器。在优选形式中，电子枪在真空室中，以及该一对靶位于所述真空室的边界。所述较低原子序数的靶可以是镍以及较高原子序数的靶可以是铜和/或钨。所述电子吸收器可以是碳，并可以位于主准直器内，或在可交换地位于所述射束的通道中的多个主准直器之一内。这种辐射源可以被包括在本发明进一步涉及的放射治疗装置内。可以为低能X-射线而不是高能X-射线优化用于该源的平板成像设备。因此，基于碘化铯的板是合适的。 | ||||||
| 9 | X射线管 | CN201180008052.8 | 2011-01-31 | CN102741967B | 2015-11-25 | G·芬卡尔特 |
| 本申请公开了一种X射线管，包括封闭元件（2），阴极（4）和阳极（5）安装在该封闭元件（2）中。阳极（5）包括基本朝向阴极（4）的第一主面（6）和朝向与第一面（6）相反的第二主面（7）。还有：冷却装置（8），该冷却装置（8）施加在阳极（5）的第二主面（7）上；以及滤波器装置（10），用于根据相应波长对由阳极（5）发射的X射线进行滤波。冷却装置（8）和滤波器装置（10）都包括热导体元件（9），该热导体元件（9）与阳极（5）的第二面（7）热连接，并装备有多个内部微槽道，实际上，增压冷却剂液体能够以湍流运动在该内部微槽道内流动。封闭元件还包括X射线发射部分（3），该X射线发射部分定位成使得它实际上接收由阳极（5）的第二主面（7）发射的、已经经过滤波器装置（10）的X射线。 | ||||||
| 10 | 滤波装置 | CN201510387646.4 | 2015-07-03 | CN104934092A | 2015-09-23 | 吴金杰; 王玉龙; 李论; 陈法君 |
| 本发明实施例涉及一种滤波装置,包括：固定平台；支架，具有第一连接轴，装设在固定平台的承载面上；电动旋转台，包括控制电机和旋转部件；旋转部件具有一定厚度，表面为圆形，中心具有旋台中心通孔，通过旋台中心通孔套接在第一连接轴上，使得电动旋转台轴承连接设于所述支架上；旋台中心通孔和旋转部件同轴；控制电机驱动所述旋转部件绕轴心进行旋转；转盘，为圆形，具有连接孔和多个过滤安装孔；连接孔设置于转盘的中间，与转盘同圆心；连接孔套接在第一连接轴上，使转盘随旋转部件同步旋转；每个过滤安装孔具有相应的识别码；过滤安装孔内安装过滤片；处于工作位的过滤安装孔内的过滤片对射线管发出的射线进行过滤。 | ||||||
| 11 | 光谱纯度滤光片、光刻设备、和制造光谱纯度滤光片的方法 | CN201080037737.0 | 2010-07-21 | CN102483585B | 2015-06-24 | W·索尔; M·杰克; R·德克 |
| 一种形成光谱纯度滤光片的方法，所述光谱纯度滤光片包括多个孔，所述多个孔配置成透射极紫外辐射和抑制第二类型的辐射的透射，其中以对应于在所述孔之间形成的壁的图案在基底材料中形成沟道。用格栅材料填充所述沟道以形成所述格栅材料的壁；和选择性地移除所述基底材料，直到所述格栅材料被暴露和在格栅材料的壁之间为所述孔形成空间为止。 | ||||||
| 12 | 粒子射线照射装置及粒子射线治疗装置 | CN201110087462.8 | 2011-03-31 | CN102214494B | 2015-05-13 | 岩田高明 |
| 若想照原样将X射线等放射线治疗装置中的IMRT技术应用到现有的具有摆动系统的粒子射线治疗装置中，则存在必须使用多个团块的问题。本发明的目的在于解决粒子射线治疗装置中的IMRT的过量照射问题。更具体而言，通过不使用团块而提高深度方向上的照射自由度，从而解决粒子射线治疗装置中的IMRT的过量照射问题。本发明的目的在于提供一种粒子射线照射装置(58)，该粒子射线照射装置(58)包括扫描照射系统(34)，并安装于使带电粒子束(1)的照射方向旋转的旋转机架，所述扫描照射系统(34)将由加速器进行了加速的带电粒子束(1)进行扫描，粒子射线照射装置(58)包括柱状照射野生成装置(4)，该柱状照射野生成装置(4)扩大带电粒子束(1)的布喇格峰值，来生成柱状的照射野。 | ||||||
| 13 | 用于放射治疗装置的准直仪 | CN201410496294.1 | 2014-09-25 | CN104436444A | 2015-03-25 | V.威尔库特; M.布罗德; D.A.罗伯茨 |
| 一种用于放射治疗装置的准直仪，包括具有形成块的前沿的正面和限定块的后沿的至少一个主背面的辐射衰减材料块，其中，所述背面或每个背面在块的深度方向上是基本上平面的且不平行于正面。该准直仪可形成放射治疗装置的一部分，并且描述了此类装置的操作方法。 | ||||||
| 14 | 旋转机架及粒子射线治疗装置 | CN201280072085.3 | 2012-03-29 | CN104221093A | 2014-12-17 | 片寄雅 |
| 本发明的目的在于通过在旋转机架设置减少中子、伽马射线等穿透性高的放射线(二次放射线)的泄漏的屏蔽体，从而防止放射线从旋转机架漏出。本发明的旋转机架(10)的特征在于，在相对于照射对象(13)与粒子射线照射装置(58)相对的一侧具备屏蔽体(12)，该屏蔽体(12)可减少因带电粒子束(31)对照射对象(13)的冲击而产生的二次放射线的泄漏剂量。 | ||||||
| 15 | 粒子射线照射装置及粒子射线治疗装置 | CN201410366458.9 | 2010-10-29 | CN104147710A | 2014-11-19 | 岩田高明 |
| 一种用于消除因驱动脊形过滤器而带来的噪音并可达到均匀的照射剂量分布的粒子射线照射装置及粒子射线治疗装置。包括具有损耗能量因带电粒子束通过的位置而不同的厚度分布的脊形过滤器、将带电粒子束偏转的偏转器、及控制偏转器而使带电粒子束呈直线形地通过脊形过滤器的厚度分布、并使带电粒子束在具有相隔脊形过滤器的山脊的至少一个顶峰的位置关系的两种状态之间重复的控制器，在脊形过滤器的下游侧具有下游侧偏转器，偏转器具有第一上游侧偏转器及第二上游侧偏转器，下游侧偏转器具有第一下游侧偏转器及第二下游侧偏转器，第一下游侧偏转器和第二下游侧偏转器将带电粒子束在与第一上游侧偏转器和第二上游侧偏转器相同的平面上进行偏转。 | ||||||
| 16 | 带电粒子束照射系统以及带电粒子束照射计划方法 | CN201280048146.2 | 2012-10-09 | CN103945901A | 2014-07-23 | 佐佐井健蔵; 西尾祯治 |
| 本发明提供一种能够计划有效的带电粒子束的照射的带电粒子束照射系统以及带电粒子束照射计划方法。本发明所涉及的带电粒子束照射系统（1）具备：照射部（13），向肿瘤（A）照射带电粒子束（R）；耐辐射性状况测定部（21）及PET装置（14），测定肿瘤（A）的耐辐射性状况；耐辐射性区域划分部（22），根据耐辐射性状况的测定结果，将肿瘤（A）划分为多个耐辐射性区域（T1、T2）；剂量计算部（23），针对多个耐辐射性区域中的每个区域，计算带电粒子束的照射剂量的计划值；以及照射计划修正部（24），根据剂量计算部（23）的计算结果，计划针对肿瘤（A）的带电粒子束（R）的照射。 | ||||||
| 17 | 辐射生成器、防散射栅格及辐射成像装置 | CN201410034008.X | 2014-01-23 | CN103932724A | 2014-07-23 | 赵敏局; 裵贞儿; Y.萨卡伊 |
| 提供了辐射生成器、防散射栅格和包括辐射生成器和防散射栅格中的至少一者的辐射成像装置。辐射生成器包括：辐射源，其包括放射性同位素并被配置为生成辐射；第一开口，其被配置为使所生成的辐射之中的在指定方向上照射的辐射通过；以及会聚器，其被配置为将从辐射源照射的辐射会聚到第一开口中。 | ||||||
| 18 | X射线摄像装置、楔形滤波器装置及楔形滤波器控制方法 | CN201380002137.4 | 2013-10-02 | CN103841896A | 2014-06-04 | 齐藤泰男 |
| 降低溢出的风险以及缩小动态范围。PCCT数据收集部42针对从X射线管32产生的X射线的能谱所包含的多个能量带的各个，收集与X射线光子的计数相关的数据集。挠性楔形滤波器38为了衰减来自X射线管32的X射线的辐射剂量而被配置于X射线管32与被检体P之间，具备具有能够独立地变更X射线遮蔽物质内的X射线的透过路径长度的结构的多个滤波器模块。PCCT架台控制部36为了使从X射线管32产生、透过被检体P并由X射线检测器33检测的X射线的辐射剂量在空间上大致均匀地分布，使多个滤波器模块独立地进行动作。 | ||||||
| 19 | 改进的能量调制器 | CN201280038063.5 | 2012-08-03 | CN103732290A | 2014-04-16 | N·塞图; C·贝尔特; E·里策尔 |
| 本发明涉及一种用于可变化地改变粒子束（2、10）的能量的粒子能量调节设备（1）。该粒子能量调节设备（1）具有可变化的能量变化装置（8），所述可变化的能量变化装置具有用于校正所输入的调整值（11）的调整值校正装置（7）。所述调整值校正装置（7）利用预先确定的校准数据（15）校正所输入的调整值（11）。 | ||||||
| 20 | 辐射源、光刻设备以及器件制造方法 | CN200980131716.2 | 2009-07-09 | CN102150084B | 2014-03-05 | M·J·J·杰克; W·A·索尔; M·M·J·W·范赫彭; V·Y·班尼恩; A·M·雅库尼恩 |
| 一种光谱纯度滤光片，配置成允许极紫外(EUV)辐射透射通过其中并且折射或反射非极紫外伴随辐射。光谱纯度滤光片可以是源模块和/或光刻设备的一部分。 | ||||||
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