序号 专利名 申请号 申请日 公开(公告)号 公开(公告)日 发明人
1 光驱动离子束的激光激活磁场操纵 CN201380012167.3 2013-01-31 CN104350571B 2016-10-26 E·G·纳胡姆; S·艾森曼; A·齐格勒; S·布林克-达南; Y·卡齐尔
公开了用于产生带电粒子的脉冲的系统,其包括发射激光脉冲的高强度脉冲激光器,激光脉冲当撞击目标时,产生带电粒子的脉冲。粒子穿过由包括光激活开关的低电感电流馈电器通电的电磁体,以接通和断开通电电流。激光脉冲的光的部分被引导到光激活开关上,使得磁场与带电粒子的所产生的脉冲光学地同步。这使只在脉冲通过期间使磁体通电变得可能,使得它比使用CW电磁体的现有技术系统更轻和更能量有效。同步还通过对磁场的激活定时来使得其偏转到只有具有预定能量范围的粒子的选定波束路径中,从而实现具有预定范围的粒子能量的带电粒子的选择。
2 带电粒子束照射装置 CN201280014659.1 2012-04-12 CN103458964B 2016-02-10 佐佐井健蔵
发明提供一种带电粒子束照射装置,其能够实现装置的小型化,并且防止来自电磁(41)的放射线进入照射室内。本发明的带电粒子束照射装置构成为具备:传输管路,传输带电粒子束;照射部,向被照射体照射带电粒子束;及旋转机架,支承传输管路(31)及照射部,并且具有能够绕旋转轴线(P)旋转的筒体,传输管路的倾斜部通过筒体内而配置。由此,缩小沿径向突出的传输管路的突出量。并且,构成为具备屏蔽来自电磁铁(41)的放射线的屏蔽部件(61)。
3 用于生成聚焦强电流带电粒子束的方法和装置 CN201380067661.X 2013-10-22 CN105051828A 2015-11-11 朱利恩·福克斯; 布鲁诺·阿尔贝塔齐; 亨利·佩平; 伊曼纽尔·德忽米尔斯
发明涉及一种用于生成聚焦带电粒子束的方法,至少包括以下步骤:a)生成带电粒子束(10);b)发射激光脉冲(40);c)通过所述激光脉冲与靶的相互作用在靶(50)中生成聚焦磁场结构;和d)使所述带电粒子束至少部分地透入所述聚焦磁场结构中。
4 用于改变带状离子束的方法及设备 CN201010558538.6 2010-11-19 CN102110570B 2015-07-08 肯尼思·H·波瑟; 威廉·H·小派克
发明涉及用于改变带状离子束的方法及设备。利用一对相对的磁条上的多个线圈结构来改变带状离子束。该线圈结构包括连续绕组,其具有每单位长度数沿条的长度的预定变化模式。在示例中,一个线圈结构可沿条具有均匀的每单位长度匝数,由此对线圈结构供电可形成跨着条之间的缝隙延伸的、具有四极强度分布的磁场分量。第二线圈结构可具有变化来产生六极磁场强度分布的每单位长度匝数。还可提供额外的线圈结构以产生八极及十极磁场分布。可对线圈供电以产生与条平行的磁场,该磁场沿条的长度发生变化,从而使带状束扭转或变平。
5 光驱动离子束的激光激活磁场操纵 CN201380012167.3 2013-01-31 CN104350571A 2015-02-11 E·G·纳胡姆; S·艾森曼; A·齐格勒; S·布林克-达南; Y·卡齐尔
公开了用于产生带电粒子的脉冲的系统,其包括发射激光脉冲的高强度脉冲激光器,激光脉冲当撞击目标时,产生带电粒子的脉冲。粒子穿过由包括光激活开关的低电感电流馈电器通电的电磁体,以接通和断开通电电流。激光脉冲的光的部分被引导到光激活开关上,使得磁场与带电粒子的所产生的脉冲光学地同步。这使只在脉冲通过期间使磁体通电变得可能,使得它比使用CW电磁体的现有技术系统更轻和更能量有效。同步还通过对磁场的激活定时来使得其偏转到只有具有预定能量范围的粒子的选定波束路径中,从而实现具有预定范围的粒子能量的带电粒子的选择。
6 用于聚焦带电粒子束的磁透镜 CN201410343248.8 2014-07-18 CN104299872A 2015-01-21 O.沙内尔
发明涉及用于聚焦带电粒子束的磁透镜。现有技术的带电粒子磁透镜包括轭和空气间隙。该空气间隙限定其中磁场存在于透镜的光轴上的位置。根据本发明,一种用于聚焦沿着光轴行进的带电粒子束的磁透镜包括:轴向孔,布置在所述光轴周围以容纳所述束;磁场生成装置,用于生成磁场;以及磁轭,用以引导和集中所述磁场朝向所述光轴以便形成用于所述束的聚焦区域,其中,所述轭具有复合结构,包括外部主要部分和内部次要部分;所述次要部分被安装为所述主要部分内的单体插件以便被布置在所述聚焦区域周围;所述次要部分包括围绕所述孔并充当磁收缩区的腰部区域,其被配置成使得所述磁场在所述腰部区域中经受饱和,从而使磁通量离开所述腰部区域并且在所述聚焦区域中形成聚焦场。此类腰部区域取代了现有技术透镜中的空气间隙的色。
7 旋转机架及粒子射线治疗装置 CN201280072085.3 2012-03-29 CN104221093A 2014-12-17 片寄雅
发明的目的在于通过在旋转机架设置减少中子、伽射线等穿透性高的放射线(二次放射线)的泄漏的屏蔽体,从而防止放射线从旋转机架漏出。本发明的旋转机架(10)的特征在于,在相对于照射对象(13)与粒子射线照射装置(58)相对的一侧具备屏蔽体(12),该屏蔽体(12)可减少因带电粒子束(31)对照射对象(13)的冲击而产生的二次放射线的泄漏剂量。
8 粒子射线照射装置及粒子射线治疗装置 CN201410366458.9 2010-10-29 CN104147710A 2014-11-19 岩田高明
一种用于消除因驱动脊形过滤器而带来的噪音并可达到均匀的照射剂量分布的粒子射线照射装置及粒子射线治疗装置。包括具有损耗能量因带电粒子束通过的位置而不同的厚度分布的脊形过滤器、将带电粒子束偏转的偏转器、及控制偏转器而使带电粒子束呈直线形地通过脊形过滤器的厚度分布、并使带电粒子束在具有相隔脊形过滤器的山脊的至少一个顶峰的位置关系的两种状态之间重复的控制器,在脊形过滤器的下游侧具有下游侧偏转器,偏转器具有第一上游侧偏转器及第二上游侧偏转器,下游侧偏转器具有第一下游侧偏转器及第二下游侧偏转器,第一下游侧偏转器和第二下游侧偏转器将带电粒子束在与第一上游侧偏转器和第二上游侧偏转器相同的平面上进行偏转。
9 粒子射线照射装置 CN200980159045.0 2009-06-09 CN102414760B 2014-04-16 岩田高明
发明的目的在于提供一种能够实现高精度的射束照射位置的粒子射线照射装置。包括逆映射单元,该逆映射单元具有逆映射数学模型,该逆映射数学模型基于照射对象的带电粒子束的目标照射位置坐标,来生成实现该照射的扫描电磁的指令值及带电粒子束的动能的指令值,根据基于照射对象的带电粒子束的目标照射位置坐标、使用所述逆映射数学模型而生成的所述指令值,来控制上述扫描电磁铁及带电粒子束的动能,以将带电粒子束进行扫描,来照射至照射对象。
10 粒子射线照射装置 CN200980159044.6 2009-06-09 CN102414759B 2014-02-19 岩田高明
发明的目的在于提供一种粒子射线照射装置,该粒子射线照射装置能够不使用IF条件句(区分情况的条件式),就能运算控制指令值,能提高照射位置精度。包括逆映射单元,该逆映射单元具有逆映射数学模型,该逆映射数学模型基于照射对象的带电粒子束的目标照射位置坐标来生成实现该照射的扫描电磁的指令值,根据基于照射对象的带电粒子束的目标照射位置坐标、使用上述逆映射数学模型而生成的上述指令值,来对上述扫描电磁铁进行控制,以将带电粒子束进行扫描,来照射至照射对象。
11 带电粒子束照射装置 CN201280014659.1 2012-04-12 CN103458964A 2013-12-18 佐佐井健蔵
发明提供一种带电粒子束照射装置,其能够实现装置的小型化,并且防止来自电磁(41)的放射线进入照射室内。本发明的带电粒子束照射装置构成为具备:传输管路,传输带电粒子束;照射部,向被照射体照射带电粒子束;及旋转机架,支承传输管路(31)及照射部,并且具有能够绕旋转轴线(P)旋转的筒体,传输管路的倾斜部通过筒体内而配置。由此,缩小沿径向突出的传输管路的突出量。并且,构成为具备屏蔽来自电磁铁(41)的放射线的屏蔽部件(61)。
12 粒子射线治疗装置 CN201010178098.1 2010-05-11 CN101898011B 2013-02-13 蒲越虎
发明提供一种粒子射线治疗装置,即使在所需的束能量变更次数较多的情况下,也无需增大偏转电磁,而可以高速地变更束能量。其设置有多个具备束能量衰减部的束能量变更部,以使束依次通过多个束能量变更部的方式,使束偏转。在束通过一个束能量变更部的期间,变更其他束能量变更部的束能量衰减量。
13 粒子射线照射装置及粒子射线治疗装置 CN201080060087.1 2010-03-31 CN102686276A 2012-09-19 岩田; 高明
发明的目的在于获得消除扫描电磁磁滞影响、且在光栅扫描、混合扫描中实现高精度射束照射的粒子射线照射装置。包括:扫描电源(4),该扫描电源(4)输出扫描电磁铁(3)的励磁电流;以及照射控制装置(5),该照射控制装置(5)控制扫描电源(4),照射控制装置(5)包括扫描电磁铁指令值学习生成器(37),该扫描电磁铁指令值学习生成器(37)对预扫描的结果进行评价,在评价的结果不满足规定的条件的情况下,更新励磁电流的指令值(Ik),来执行预扫描,将评价的结果满足规定的条件的励磁电流的指令值(Ik)输出到扫描电源(4),该预扫描是基于由扫描电源(4)输出的励磁电流的指令值(Ik)的、一系列的照射动作。
14 用于粒子治疗的紧凑机架 CN201080048899.4 2010-09-24 CN102596316A 2012-07-18 Y·乔丹
发明涉及一种用于放射治疗的粒子治疗设备。更具体地,本发明涉及一种紧凑等中心机架,该机架用于以与所述机架的旋转轴线垂直的方式输送粒子束。该机架包括三个偶极磁体。最后偶极磁体的度小于90°,并且该最后偶极磁体的最优选弯曲角度是60°。
15 粒子射线照射装置 CN200980159044.6 2009-06-09 CN102414759A 2012-04-11 岩田高明
发明的目的在于提供一种粒子射线照射装置,该粒子射线照射装置能够不使用IF条件句(区分情况的条件式),就能运算控制指令值,能提高照射位置精度。包括逆映射单元,该逆映射单元具有逆映射数学模型,该逆映射数学模型基于照射对象的带电粒子束的目标照射位置坐标来生成实现该照射的扫描电磁的指令值,根据基于照射对象的带电粒子束的目标照射位置坐标、使用上述逆映射数学模型而生成的上述指令值,来对上述扫描电磁铁进行控制,以将带电粒子束进行扫描,来照射至照射对象。
16 带电粒子癌症疗法束路径控制方法和装置 CN200980122624.8 2009-05-21 CN102172106A 2011-08-31 弗拉迪米尔·叶戈罗维奇·巴拉金
发明包含一种带电粒子束路径,其耦联注入器、同步加速器、束传输系统、靶向系统和/或患者接口方法和装置。优选地,所述注入器包含:负离子束源、两相离子源真空系统、离子束聚焦透镜和/或串列式加速器。优选地,所述同步加速器包含转向磁体、边缘聚焦磁体、磁场聚集磁体、绕组和校正线圈、平坦磁场入射表面和/或引出元件。优选地,所述同步加速器、束传输系统、靶向系统和患者接口组合以允许多轴/多场辐照,其中多轴控制包含控制平和垂直束位置、束能量和/或束强度,并且多场控制包含以时间受控、靶向、准确、精确、剂量受控和/或有效的方式来控制患者旋转和输送能量在肿瘤内和肿瘤周围的分布。
17 带电粒子线照射装置 CN200910130166.4 2009-03-27 CN101546617A 2009-09-30 立川敏树
发明提供一种能够用摆动法和扫描法这两种方法照射带电粒子线的带电粒子线照射装置。带电粒子线照射装置(1)具有用来将带电粒子线(R)扫描的扫描电磁(3a/3b)、用摆动法照射带电粒子线(R)的摆动照射机构(5)、用扫描法照射带电粒子线(R)的扫描照射机构(6)、控制摆动照射机构(5)和扫描照射机构(6)的控制装置(7)。带电粒子线照射装置(1)利用控制装置(7)使摆动照射机构(5)或扫描照射机构(6)中的某一个动作,同时使另一个成为退避状态以便不妨碍带电粒子线(R)的照射。由此,能够一方不影响另一方地分别实现摆动法照射和扫描法照射。
18 中子极化装置 CN200680034701.0 2006-11-01 CN101379567A 2009-03-04 清水裕彦; 铃木淳市; 奥隆之
提供一种在此前没有的极其高的极化度中使中子极化的中子极化装置,是使中子束入射通过中子的自旋和磁场的相互作用得到经过极化的中子束的装置,其特征在于具备:配置在中子束的通路的周围的四极磁(2);在四极磁铁(2)的内部沿着中子的轴方向设置的筒形的中子吸收部件(3);配置在四极磁铁(2)的出口上,从四极磁铁(2)产生的四极磁场隔热地连接磁场,并且施加二极磁场的螺线管线圈(4)。
19 非轴对称带电粒子束系统 CN200580022931.0 2005-06-06 CN1998059A 2007-07-11 R·J·巴哈特; C·陈; J·周
带电粒子束系统包括形成具有椭圆横截面的非轴对称束的非轴对称二极管。聚焦元件将磁场用于聚焦和传输该非轴对称束,其中该非轴对称束与聚焦元件的通道大致匹配。
20 基于双级二维磁光阱的大束流冷原子 CN201710057133.6 2017-01-23 CN106847362A 2017-06-13 段维涛; 周林; 王谨; 詹明生
发明公开了一种基于双级二维磁光阱的大束流冷原子源,涉及冷原子物理领域的冷原子源。本冷原子源包括第1级二维磁光阱(10)、第2级二维磁光阱(20)和波纹管(30);第1级二维磁光阱(10)、波纹管(30)、第2级二维磁光阱(20)和三维磁光阱(40)依次连接;第1中心轴线(112)和第2中心轴线(212)的夹θ为0~30º。本发明能使三维磁光阱在装载效率最高的情况下,既增加原子数目,又提高原子的寿命,这个特性尤其是在MOT以后的冷却过程中作用明显;将为基于冷原子精密测量技术提供优异的原子源。
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