序号 专利名 申请号 申请日 公开(公告)号 公开(公告)日 发明人
41 微細機械加工可能な材料製時計部品の保護 JP2016214887 2016-11-02 JP6416847B2 2018-10-31 マルク・ストランツル; ダニエル・マレ
42 マルチブレード緩衝装置 JP2017157041 2017-08-16 JP6405426B2 2018-10-17 デルドレ・ルノアール
43 ハイブリッド計時器発振器 JP2017130857 2017-07-04 JP2018013478A 2018-01-25 ブノワ・レジュレ; デルドレ・ルノアール; ダヴィデ・サルチ
【課題】磁気ピボットとねじれ発振器の望まない特徴をなくしつつ、磁気ピボットとねじれ発振器の利点を組み合わせて発揮させる。
【解決手段】リム2を備えたバランス1を有するばね仕掛けバランスアセンブリー10を有する計時器用発振器である。リム2は、バランスばね3によって戻され、構造4に対して回転する。この回転は、第1の側では、アンカー要素51によって構造4に固定されたねじれワイヤー5によって、そして、第1の側とは反対側の第2の側では、非接触の磁気ピボットによって行われる。バランス1は、バランス1に埋め込まれた第1の極60及びねじれワイヤー5を有する。第1の極60は、ばね仕掛けバランスアセンブリー10の軸Dに対して対称であり、構造4が備える第2の極70と連係して、第1の極60を磁気的に懸架し、アンカー要素51の反対側のねじれワイヤー5の遠位端に、ねじれワイヤー5を張るための磁を与える。
【選択図】図1
44 計時器用プレート JP2015555758 2014-02-13 JP2016505150A 2016-02-18 ストランツル,マルク; エスレ,ティエリ; エルフェ,ジャン−リュック
計時器用機構用のピボット(45)であって、プレート(2)内においてアーバー(47)を半径方向にて保持する回転ガイド用の第1のメンバー(46)と、このアーバー(47)の端を軸方向にて制限する前側ガイド用の第2のメンバー(49)と、及びこの回転ガイド用の第1のメンバー(46)及び/又はこの前側ガイド用の第2のメンバー(49)に少なくとも作用する少なくとも1つの弾性ショックアブソーバー(48)とを有し、この弾性ショックアブソーバー(48)は、この回転ガイド用の第1のメンバー(46)及びこの前側ガイド用の第2のメンバー(49)ではない構造要素(451)と一体の形態で、マイクロ機械加工可能な材料又はケイ素又は石英又はダイヤモンドで作られる。【選択図】図1
45 Parts obtained by this method as a method for producing a multi-level silicon micromechanical parts JP2009535685 2007-11-01 JP2010509076A 2010-03-25 コヌス、スィエリー; ヘルファー、ジェーンルック; マルミー、フィリップ

【課題】複数のレベルの単結晶又は多結晶のシリコン製の微細機械部品の製造方法を提供する。
【解決手段】 本発明の方法は以下のステップを有する。 (a)化学的手段又は物理的手段あるいはそれらの組合せにより、微細機械部品の第1要素(3)を第1シリコン・ウエハ(1)内に加工するステップ。 (b)前記第1要素(3)とは異なる形状の第2要素(4)を加工するために、第2シリコン・ウエハ(2)に対し、前記ステップ(a)を繰り返すステップ。 (c)位置決め手段(6,7)を用いて、第1と第2の要素(3,4)又は第1と第2のシリコン・ウエハ(1,2)を互いに向かい合うように配置するステップ。 (d)前記(c)ステップで形成された組立体に加熱酸化処理を施すステップ。 (e)前記微細機械部品(10)を第1と第2のシリコン・ウエハ(1,2)から分離するステップ。
【選択図】 図1
46 미세 가공가능한 재료로 제조된 타임피스 구성요소의 보호 KR1020160158018 2016-11-25 KR1020170064998A 2017-06-12 스트랜첼마르크; 말레다니엘
타임피스하위조립체 (10) 는주변접촉표면 (3) 을갖는부착영역 (2) 을포함하는미세가공가능한재료로제조된구성요소 (1) 와, 적어도하나의자유도에의해서하우징 (5) 내부에서상기부착영역 (2) 을유지하도록배열된 2개의형상들, 하나의수축된형상및 하나의확장된형상사이에서변형가능한셸 요소 (20) 를포함하고, 상기셸 요소는상기수축된형상에서, 상기주변접촉표면 (3) 에클램핑력을가하도록, 그리고모든방향들로상기부착영역 (2) 을견고하게고정시키도록배열된상보적인접촉표면 (30) 을포함하고, 상기셸 요소 (20) 는상기확장된형상에서서로에대하여이동가능한제 1 요소 (21) 및제 2 요소 (22) 를포함하고, 상기제 1 요소및 상기제 2 요소각각은상기상보적인접촉표면 (30, 31, 32) 을포함하고, 그리고상기수축된형상에서함께클램핑되는상기제 1 요소 (21) 및상기제 2 요소 (22) 를유지하기위한클램핑수단을포함한다.
47 실리콘 재질의 다층 마이크로미케니컬 부품의 제조방법 및 상기 제조방법에 의한 획득된 실리콘 재질의 다층 마이크로미케니컬 부품 KR1020097010599 2007-11-01 KR1020090102740A 2009-09-30 마르메이,필립페; 헬퍼,진-루크; 코누스,씨에리
The process comprises the following steps: a) a first element (3) or a plurality of said first elements (3) is/are machined in a first silicon wafer (1) keeping said elements (3) joined together via material bridges (5); b) step a) is repeated with a second silicon wafer (2) in order to machine a second element (4), differing in shape from that of the first element (3), or a plurality of said second elements (4); c) the first and second elements (3, 4) or the first and second wafers (1, 2) are applied, face to face, with the aid of positioning means (6, 7); d) the assembly formed in step c) undergoes oxidation; and e) the parts (10) are separated from the wafers (1, 2). Micromechanical timepiece parts obtained according to the process.
48 타임피스 메카니즘을 위한 피봇 KR1020157024814 2014-02-13 KR101777490B1 2017-09-11 슈트란츨마르크; 헤쓸러티에리; 헬페르장-뤽
본발명은플레이트 (2) 의아버 (47) 를방사상방향으로유지하기위한제 1 회전가이드부재 (46) 및상기아버 (47) 의단부를축방향으로제한하기위한제 2 전방가이드부재 (49), 및적어도상기제 1 회전가이드부재 (46) 및/또는상기제 2 전방가이드부재 (49) 상에작용하는적어도하나의탄성충격흡수기 (48) 를포함하는타임피스메카니즘을위한피봇 (45) 에관한것이다. 상기적어도하나의탄성충격흡수기 (48) 는상기제 1 회전가이드부재 (46) 및상기제 2 전방가이드부재 (49) 로부터분리된구조적요소 (451) 와함께마이크로기계가공가능한재료또는실리콘또는수정또는다이아몬드로부터단일편으로제조된다.
49 웰딩된 재료들로 제조된 타임피스 컴포넌트 KR1020167033926 2015-05-28 KR1020160147051A 2016-12-21 퀴쟁피에르; 바쟁장-뤽
본발명은규소계의제 1 부분 (1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9, 10, 11, 12, 13, 14, 15, 16, 17, 18, 19, 20, 22, 25, 27) 및금속계의제 2 부분 (1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9, 10, 11, 12, 13, 14, 15, 16, 17, 18, 19, 20, 22, 25, 27) 을포함하는타임피스컴포넌트 (21) 에관한것이다. 본발명에따라, 제 1 부분과제 2 부분을단단하게체결하기위하여, 제 1 부분의표면 (24, 28, 30, 31) 은, 레이저-유형의전자기방사선을이용하여, 제 2 부분의표면에웰딩된다.
50 타임피스 메카니즘을 위한 피봇 KR1020157024814 2014-02-13 KR1020150119171A 2015-10-23 슈트란츨마르크; 헤쓸러티에리; 헬페르장-뤽
본발명은플레이트 (2) 의아버 (47) 를방사상방향으로유지하기위한제 1 회전가이드 (46) 및상기아버 (47) 의단부를축방향으로제한하기위한제 2 전방가이드 (49), 및적어도상기제 1 회전가이드 (46) 및/또는상기제 2 전방가이드 (49) 상에작용하는적어도하나의탄성충격흡수기 (48) 를포함하는타임피스메카니즘을위한피봇 (45) 에관한것이다. 상기적어도하나의탄성충격흡수기 (48) 는상기제 1 회전가이드 (46) 및상기제 2 전방가이드 (49) 로부터분리된구조적요소 (451) 와함께마이크로기계가공가능한재료또는실리콘또는수정또는다이아몬드로부터단일편으로제조된다.
51 溶接材で作られた計時器用部品 JP2017514956 2015-05-28 JP2017519227A 2017-07-13 キュザン,ピエール; バザン,ジャン−リュック
本発明は、ケイ素ベースの第1の部分(1、2、3、4、5、6、7、8、9、10、11、12、13、14、15、16、17、18、19、20、22、25、27)及び金属ベースの第2の部分(1、2、3、4、5、6、7、8、9、10、11、12、13、14、15、16、17、18、19、20、22、25、27)を有する計時器用部品(21)に関する。本発明によると、前記第1の部分の表面(24、28、30、31)を前記第2の部分の表面にレーザータイプの電磁放射を用いて溶接して、前記第1の部分と前記第2の部分どうしを接合する。【選択図】図2
52 時計のための耐衝撃性軸受 JP2014545136 2012-12-07 JP5848461B2 2016-01-27 ヘスレ,エム・ティエリー
53 光構造化ガラスによる時計部品 JP2015109471 2015-05-29 JP2015230306A 2015-12-21 フィリップ・デュボワ; ティエリー・エスレ; クリスチャン・シャルボン
【課題】光構造化ガラスによる時計部品を提供する。
【解決手段】光構造化ガラスによる第1の部分33、35および、少なくとも1つの第2の材料による少なくとも第2の部分33、35を含む時計部品31であって、第1の部分の1表面31を第2の部分33、35の表面と一体化させることで一体形時計部品を形成する。
【選択図】図3
54 機能性微小機械アセンブリ JP2014520643 2012-07-17 JP5823038B2 2015-11-25 リシャール,ダヴィド; ブルバン,ステュース
55 強化した時計部品を製造する方法、時計部品および時計 JP2015087991 2015-04-23 JP2015210270A 2015-11-24 ボッサルト, リチャード; ファヴェズ, デニス
【課題】機械的特性を向上させたシリコン製の時計部品の製造方法を提供する。
【解決手段】微細機械加工可能な素材から部品10を製造する製造方法であって、部品10は時計部品の半完成品を形成し、少なくとも1つの初期粗さを有する表面を含む。製造方法は、表面の粗さを減少させるエッチング流体内での部品10の機械的強化処理のステップを含む。微細機械加工可能な素材の基板を提供し、基板の少なくとも一部を、少なくとも一つの開口を有する保護コーティングで被膜し、基板を保護コーティングの開口を通じてエッチングしてエッチングされた表面を形成し、機械的強化処理を保護コーティングの開口を通じてエッチングされた表面へ適用し、その後保護コーティングを除去する。エッチング流体は、プラズマまたは液体化学エッチング液であてよい。
【選択図】図1
56 部品を作成する方法 JP2014548038 2012-12-20 JP2015507740A 2015-03-12 エスレ,ティエリー; ルボー,ニコラ; エルフェ,ジャン−リュック; リシャール,ダヴィド; グラフ,セバスチャン
本発明は、基材において部品を製造する方法に関し、(a)少なくとも1つの領域をより選択的にするために基材の少なくとも1つの領域の構造を修飾するステップと、及び(b)部品を選択的に製造するために前記少なくとも1つの領域を化学的にエッチングするステップとを有する。【選択図】図4
57 Functional micro-mechanical assembly JP2014520643 2012-07-17 JP2014521096A 2014-08-25 リシャール,ダヴィド; ブルバン,ステュース
本発明は、第2の層によって形成される第2の接触表面と摩擦接触するよう構成される第1の接触表面を形成する第1の層を備えた第1の構成部品(10)を含む、機能性微小機械時計アセンブリ(100)に関する。
上記第2の層は、上記第1の構成部品(10)、又は上記第1の構成部品(10)と共に上記アセンブリ(100)を形成する少なくとも1つの第2の微小機械構成部品(20)のいずれかに属し、上記アセンブリは、第1及び第2の層がそれぞれ少なくとも炭素原子を50%有する炭素で形成されていること、並びに第1及び第2の接触表面において、上記層が互いから異なる表面の結晶面配向を有することを特徴とする。
【選択図】図1
58 Watch wheel train, and watch JP2010046440 2010-03-03 JP5526870B2 2014-06-18 政生 竹内; 正己 村井; 重彰 関; 智一 吉田
59 Device for supporting the arbor in the clock by a pivot JP2010504690 2008-04-24 JP5524827B2 2014-06-18 コヌス,ティエリー; ヘルファー,ジャン−ルク
60 Parts obtained by this method as a method for producing a multi-level silicon micromechanical parts JP2009535685 2007-11-01 JP5313150B2 2013-10-09 マルミー、フィリップ; ヘルファー、ジェーンルック; コヌス、スィエリー
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