序号 | 专利名 | 申请号 | 申请日 | 公开(公告)号 | 公开(公告)日 | 发明人 |
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1 | 用于分析细胞的样本的方法和装置 | CN200680048900.7 | 2006-12-22 | CN101346673B | 2011-06-08 | M·古斯塔夫森; M·西贝斯塔 |
一种通过数字全息显微镜的手段而分析含有透明的活细胞和/或死细胞的样本的非破坏性方法和装置,其中所述样本(8)暴露于来自激光器(2)的光线之下。穿过样本中的细胞的光线与穿过周围介质的光线相比将在光通路长度上产生差异,并且因此由细胞出射的波阵面会发生相移。这一畸变可在数字全息图中以相差或相移的形式被检测,并由此产生一个数字全息图,所述数字全息图由数字传感器(17)(例如CCD或CMOS)检测到的干涉模式重建。然后使用所述全息图中的每个要素的相移来分析样本中细胞的特征。 | ||||||
2 | 透明生物物体的分析 | CN200980122819.2 | 2009-06-17 | CN102067046A | 2011-05-18 | 米卡埃尔·谢拜什陶; 安娜·默尔德; 伦纳特·伊塞尔松 |
本发明涉及一种用于至少一个透明生物物体的数字全息显微术的观测容器,用于至少一个透明生物物体的数字全息显微术的观测容器盖,以及用于通过数字全息显微术分析包括至少一个透明的生物样品和至少一种介质的样品的方法。 | ||||||
3 | 用于检测和/或分类细胞样品中的癌细胞的方法和系统 | CN201280045140.X | 2012-07-16 | CN103827889A | 2014-05-28 | 菲利普·马图伊斯; 瑟奇·约里斯; 奥利维尔·马涅特 |
本发明涉及一种用于检测癌细胞和/或将细胞样品中的细胞分类的方法,所述方法包括下述步骤:-提供细胞样品;-通过数字全息显微术(DHM),从所述细胞样品得到全息信息;-从所述全息信息获得至少一个细胞参数,和;-将所述细胞样品的细胞分类;其特征在于,通过基于所述细胞参数将评分因子指定给所述细胞样品的细胞,进行所述分类。在第二方面,提供了用于检测癌细胞和/或将细胞样品中的细胞分类的系统,其采用本发明公开的方法。在最后一个方面,同样公开了一种用于更新和/或改进数据库的方法和与其有关的数据库,所述数据库包括与全息信息关联的阈值。 | ||||||
4 | 一种数字全息显微及成像技术用途及检测已标记细胞样本的方法 | CN201180008601.1 | 2011-02-07 | CN102812404A | 2012-12-05 | M·西贝斯塔; 柯尔斯基·阿尔姆; 安德斯·朗贝格; 安娜·莫尔德; 约翰·佩尔松; 伦纳特·吉塞尔森 |
本发明涉及一种数字全息显微及成像技术的用途及方法,所述数字全息显微及成像技术用于检测细胞的已标记或已着色的分子或构造,或者检测已缀合抗体的所述细胞的分子或构造的方法,所述抗体直接附着在所述细胞上或者通过另外一个抗体或者另外一个链上的多个抗体附着在所述细胞上。 | ||||||
5 | 用于表面浮雕凸印的深层结构或浮雕成像 | CN200980127500.9 | 2009-07-09 | CN102089719A | 2011-06-08 | 路易斯·M··斯波托; 迪恩·J··兰达扎索; 马特·戴尔斯奇 |
各种深层结构化装饰性图案来源于机器浮雕或者蚀刻。深层图案化或纹理化的蚀刻或浮雕被结合在薄膜凸印衬垫上,以在用于凸印薄膜或材料时模拟该深层图案或纹理的外观。浮雕表面(例如刷饰金属、机器成形图案和纹理化玻璃)的透明模型使用紫外线固化液体和透明基片形成。透明模型中的浮雕复制品通过照射或展开一束或多束激光源穿过所述透明模型而被映射到感光保护膜表面或板上。之后,所述薄膜凸印衬垫用于传统凸印机以形成薄膜凸印。然后,所述凸印薄膜被金属化和层压到基片上,以制造出当暴露在白光中时从不同角度观察到的变化的图案。 | ||||||
6 | 对于透射的空间外差干涉测量法(SHIFT)测量 | CN200480027757.4 | 2004-08-26 | CN1856747A | 2006-11-01 | 格里高利·R.·汉森; 菲利普·R.·宾汉; 肯·W.·托宾 |
描述了用于对于透射的空间外差干涉测量法(SHIFT)测量的系统和方法。方法包括通过使用参考光束和被穿过至少部分半透明的物体(630,730)的物体光束数字记录包括用于傅利叶分析的空间外差条纹的空间外差全息图;通过移位数字记录的空间外差的全息图的原始的原点,以放置在由在参考光束与物体光束之间的角度定义的空间外差载波频率的顶点而傅利叶分析数字记录的空间外差全息图,以定义分析的图像;数字滤波分析的图像,以截止原始原点周围的信号,以定义结果;以及对结果执行逆傅利叶变换。 | ||||||
7 | 对于反射和透射的空间外差干涉测量法(SHIRT)测量 | CN200480027756.X | 2004-08-26 | CN1856746A | 2006-11-01 | 格里高利·R.·汉森; 菲利普·R.·宾汉; 肯·W.·托宾 |
描述了用于对于反射和透射的空间外差干涉测量法(SHIRT)测量的系统和方法。方法包括:通过使用第一参考光束和第一物体光束数字记录第一空间外差的全息图;通过使用第二参考光束和第二物体光束数字记录第二空间外差的全息图;傅利叶分析数字记录的第一空间外差的全息图,以定义第一分析的图像;傅利叶分析数字记录的第二空间外差的全息图,以定义第二分析的图像;数字滤波第一分析的图像,定义第一结果;以及数字滤波第二分析的图像,定义第二结果;对第一结果执行第一逆傅利叶变换,和对第二结果执行第二逆傅利叶变换。第一物体光束透过至少是部分半透明的物体(940,1045)以及第二物体光束从物体反射。 | ||||||
8 | 光信息记录装置与方法、光信息再现装置与方法以及光信息记录再现装置与方法 | CN01815103.5 | 2001-06-25 | CN1451105A | 2003-10-22 | 堀米秀嘉 |
本发明的目的在于,利用全息照相术进行信息的记录或再现,使记录或再现用的光学系统的结构小型化,并且使再现信息的SN比得到提高。信息记录时,通过光相位空间调制器(44),产生光相位基于要记录的信息被空间调制的信息光和记录用参考光,用这两种光照射光信息记录介质(1)的信息记录层(3),通过信息光和记录用参考光的干涉形成的干涉图形在信息记录层(3)中记录信息。信息再现时,用再现用参考光照射信息记录层(3),由此从信息记录层(3)发生的再现光和再现用参考光叠加而产生合成光,该合成光由光检出器(45)检出而使信息得以再现。 | ||||||
9 | 散射样品的3D成像方法 | CN201280030736.2 | 2012-04-16 | CN103733144B | 2017-02-15 | D·希尔曼; G·许特曼; P·科赫; C·吕尔斯; A·福格尔 |
本发明涉及一种通过相干光和数字全息术来检测空间构成的样品体的方法。本发明还涉及一种根据光学相干断层扫描分析样品深度结构的方法。 | ||||||
10 | 一种全息图制作系统及其方法 | CN201610675721.1 | 2016-08-16 | CN106249572A | 2016-12-21 | 不公告发明人 |
本发明公开了一种全息图制作系统,涉及动作捕捉技术领域,包括激光器、可调分光镜、第一反射镜、第二反射镜、第三反射镜、第一空间滤波器、第二空间滤波器、第一准直镜、第二准直镜、高反差片及全息干版,所述激光器发射的激光经过所述可调分光镜分成参考光和物光。本发明提供的全息图制作系统及其方法,制作的振幅型全息图变为位相型全息图,提高全息图的衍射效率,提高全息图的透明度。 | ||||||
11 | 用于在全息系统中编码包含透明物体的三维场景的方法和装置 | CN201180027446.8 | 2011-04-01 | CN102918466B | 2016-11-16 | 恩里科·泽思丘; 尼尔斯·普法伊费尔 |
计算用于包括部分地吸收光或声音的物体(300)的三维场景(200,300)的重建的编码的方法。该方法能在计算单元中实施。为了尽可能真实地重建三维场景,通过考虑场景中吸收的情况,在衍射图的原点处独立计算衍射图。该方法能被用于在全息显示器或体显示器中呈现三维场景。进一步,其能被执行以在声源阵列中实现声场的重建。 | ||||||
12 | 光学断层扫描方法 | CN201280030736.2 | 2012-04-16 | CN103733144A | 2014-04-16 | D·希尔曼; G·许特曼; P·科赫; C·吕尔斯; A·福格尔 |
本发明涉及一种通过相干光和数字全息术来检测空间构成的样品体的方法。本发明还涉及一种根据光学相干断层扫描分析样品深度结构的方法。 | ||||||
13 | 用于表面浮雕凸印的深层结构或浮雕成像 | CN200980127500.9 | 2009-07-09 | CN102089719B | 2013-11-13 | 路易斯·M.·斯波托; 迪恩·J.·兰达扎索; 马特·戴尔斯奇 |
各种深层结构化装饰性图案来源于机器浮雕或者蚀刻。深层图案化或纹理化的蚀刻或浮雕被结合在薄膜凸印衬垫上,以在用于凸印薄膜或材料时模拟该深层图案或纹理的外观。浮雕表面(例如刷饰金属、机器成形图案和纹理化玻璃)的透明模型使用紫外线固化液体和透明基片形成。透明模型中的浮雕复制品通过照射或展开一束或多束激光源穿过所述透明模型而被映射到感光保护膜表面或板上。之后,所述薄膜凸印衬垫用于传统凸印机以形成薄膜凸印。然后,所述凸印薄膜被金属化和层压到基片上,以制造出当暴露在白光中时从不同角度观察到的变化的图案。 | ||||||
14 | 用于在全息系统中编码包含透明物体的三维场景的方法和装置 | CN201180027446.8 | 2011-04-01 | CN102918466A | 2013-02-06 | 恩里科·泽思丘; 尼尔斯·普法伊费尔 |
计算用于包括部分地吸收光或声音的物体(300)的三维场景(200,300)的重建的编码的方法。该方法能在计算单元中实施。为了尽可能真实地重建三维场景,通过考虑场景中吸收的情况,在衍射图的原点处独立计算衍射图。该方法能被用于在全息显示器或体显示器中呈现三维场景。进一步,其能被执行以在声源阵列中实现声场的重建。 | ||||||
15 | 用于分析细胞的样本的方法和装置 | CN200680048900.7 | 2006-12-22 | CN101346673A | 2009-01-14 | M·古斯塔夫森; M·西贝斯塔 |
一种通过数字全息显微镜的手段而分析含有透明的活细胞和/或死细胞的样本的非破坏性方法和装置,其中所述样本(8)暴露于来自激光器(2)的光线之下。穿过样本中的细胞的光线与穿过周围介质的光线相比将在光通路长度上产生差异,并且因此由细胞出射的波阵面会发生相移。这一畸变可在数字全息图中以相差或相移的形式被检测,并由此产生一个数字全息图,所述数字全息图由数字传感器(17)(例如CCD或CMOS)检测到的干涉模式重建。然后使用所述全息图中的每个要素的相移来分析样本中细胞的特征。 | ||||||
16 | ホログラム再生方法、光位相強度変換方法、暗号化位相変調信号の復号方法、ホログラム記録再生装置、および、光位相強度変換器 | JP2013523886 | 2012-06-28 | JPWO2013008641A1 | 2015-02-23 | 岡本 淳; 淳 岡本; 高林 正典; 正典 高林 |
レーザ光源(10)から照射される光にSLM(11)を用いて位相変調を行って位相分布信号を生成する。上記位相分布信号を、対物レンズ(12)を介してホログラム記録媒質(13)に集光することで、上記位相分布信号をホログラム記録媒質(13)に記録する。再生には、同一の光学系を用いて再生時読出光をホログラム記録媒質(13)に照射し、発生した光強度信号を撮像素子(15)で読み取る。 | ||||||
17 | 細胞試料内のがん性細胞を検出し、及び/又は分類する方法及びシステム | JP2014520634 | 2012-07-16 | JP2014527622A | 2014-10-16 | マテュイス,フィリップ; ヨーリス,セルジェ; マグニエット,オリビエ |
本発明は細胞試料内のがん性細胞を検出し、及び/又は細胞を分類する方法に関する。その方法は、細胞試料を準備するステップと、デジタルホログラフィ顕微鏡法(DHM)によって上記細胞試料からホログラフィ情報を得るステップと、上記ホログラフィ情報から少なくとも1つの細胞パラメーターを導出するステップと、細胞試料の上記細胞を分類するステップとを含み、上記分類は、上記細胞パラメーターに基づいて、細胞試料の上記細胞にスコアリングファクターを指定することにより行われることを特徴とする。第2の態様では、本発明において開示されるような方法を利用する、細胞試料内のがん性細胞を検出し、及び/又は細胞を分類するシステムが提供される。最後の態様では、ホログラフィ情報に結び付けられるしきい値を含むデータベース、及びその関連付けられるデータベースを更新し、及び/又は改善する方法が同様に開示される。【選択図】図1 | ||||||
18 | Method and apparatus for encoding three-dimensional scene comprising a transparent object in the hologram system | JP2013501869 | 2011-04-01 | JP2013524270A | 2013-06-17 | エンリコ チャウ,; ニルス ファイファー, |
光あるいは音声を一部吸収するオブジェクト(300)を含む3次元シーン(200、300)を再現するためのコードの計算方法。 方法は、計算手段により実現されうる。 可能な限り現実的に3次元シーンを再現するために、回折パターンは、シーンにおける吸収の事例を考慮して、原点について独立して計算される。 欲方は、ホログラムディスプレイや体積ディスプレイにおいて3次元シーンの再現に用いられうる。 また、音源のアレイにおいて、音場の再現を実現するために実行されうる。
【選択図】図1A |
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19 | Method and apparatus for holographic refractometry | JP2006532239 | 2004-10-07 | JP4739214B2 | 2011-08-03 | エーゲルベルグ、ペーター; グスタフソン、マッツ; セベスタ、ミカエル; − ゲラン ペッターソン、スベン; ベングトソン、ベンクト; レナート、トマス |
20 | 얕은 양각 엠보싱을 위한 깊은 구조 또는 양각의 이미징 | KR1020117000475 | 2009-07-09 | KR101554905B1 | 2015-09-22 | 스포토루이스엠.; 랜다조딘제이.; 디쉐너매트 |
다양한깊은구조화된장식용패턴은기계적양각또는에칭에서유래한다. 깊이패터닝된또는텍스춰링된에칭또는양각은박막엠보싱심에병합되어, 박막또는재료를엠보싱하는데사용될때 깊은패턴또는텍스처의모양을시뮬레이팅한다. 양각표면(브러싱된금속, 엔진-튜닝된패턴, 및텍스춰링된유리와같은)의투명몰드는 UV 경화가능액체및 투명기판을이용하여형성된다. 투명몰드또는오버레이에서의양각복사본은투명몰드를통해하나이상의레이저빔을비추거나펼침으로써포토레지스트표면또는플레이트상에매핑된다. 이후 박막엠보싱심은박막엠보싱을형성하기위해종래의엠보싱기기와함께사용된다. 이후 엠보싱된박막은금속화되고기판상에적층될수 있어서, 백색광에노출될때 다양한시야각에서반사하는이동패턴을생성한다. |