专利类型 | 专利名称 | 文献号 |
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发明公开 | 一种半导体材料表面颗粒去除的清洗液及其清洗方法 | CN101096617A |
发明公开 | 一种防冻型抛光液及其制备方法 | CN101096577A |
发明公开 | 一种用于硬盘基片的抛光液及其制备方法 | CN101096575A |
发明公开 | 陶瓷研磨液 | CN101096574A |
发明公开 | 一种用于二氧化硅介质的抛光液及其制备方法 | CN101096573A |
发明公开 | 一种玻璃腐蚀液及其制备方法 | CN101096292A |
发明公开 | 光学玻璃清洗剂 | CN101092591A |
发明公开 | 一种用于硅晶片的研磨液 | CN101092552A |
发明公开 | 一种用于砷化镓晶片的精抛液 | CN101092542A |
发明公开 | 一种碱性硅晶片抛光液 | CN1944559A |
排名 | 企业名称 | 专利 |
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1 | 天津晶岭电子材料科技有限公司 | 40 |
排名 | 发明人 | 专利 |
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1 | 仲跻和 | 39 |
2 | 刘玉岭 | 1 |
排名 | 企业名称 | 专利 |
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1 | 国嘉律师事务所 | 33 |
2 | 天津三元专利商标代理有限责任公司 | 6 |
3 | 南京正联知识产权代理有限公司 | 1 |
排名 | 代理人 | 专利 |
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1 | 卢枫 | 14 |
2 | 高美岭 | 10 |
3 | 王里歌 | 6 |
4 | 胡婉明 | 6 |
5 | 刘树人 | 3 |
6 | 卢霞 | 1 |