该申请人涉及专利文献:4335,涉及专利:2778件
覆盖主要的IPC大类包括:G03(2327)、H01(818)、G01(251)、G02(192)、H05(190)、G06(155)、G21(59)、G05(41)、H02(26)、F16(26)
专利类型分布状况:发明公开(2777)、实用新型(1)
专利不同法律状态数据分布状况:有效专利(1143)、实质审查(919)、失效专利(416)、无效专利(197)、公开(103)
该领域主要的发明人有:H·巴特勒(51)、W·T·特尔(35)、A·J·登博夫(34)、J·洛夫(30)、A·J·布里克(28)、任伟明(26)、N·潘迪(23)、A·亚库宁(22)、王勇新(22)、L·P·巴克(21)
详细地址:荷兰 荷兰维德霍温
专利类型 | 专利名称 | 文献号 |
---|---|---|
发明公开 | 用于光刻设备的投影系统的腔室、投影系统、和光刻设备 | CN118056158A |
发明公开 | 使用带电粒子检查系统的图案化参数确定 | CN118043740A |
发明授权 | 用于监测光刻制造过程的方法和设备 | CN113867109B |
发明授权 | 用于确定针对光刻设备的校正的方法 | CN113711128B |
发明授权 | 用于测量光刻过程的参数的目标 | CN113168119B |
发明公开 | 量测方法和系统和光刻系统 | CN118020029A |
发明公开 | 利用模型基础对准来改善边缘放置量测准确度 | CN118011743A |
发明公开 | 用于高压液滴生成器喷嘴的压力激励套圈 | CN117999856A |
发明授权 | 水平传感器和包括水平传感器的光刻设备 | CN112771451B |
发明授权 | 用于预测半导体制造过程的产率的方法 | CN113168111B |
排名 | 企业名称 | 专利 |
---|---|---|
1 | ASML荷兰有限公司 | 4335 |
排名 | 发明人 | 专利 |
---|---|---|
1 | H·巴特勒 | 51 |
2 | W·T·特尔 | 35 |
3 | A·J·登博夫 | 34 |
4 | J·洛夫 | 30 |
5 | A·J·布里克 | 28 |
6 | 任伟明 | 26 |
7 | N·潘迪 | 23 |
8 | A·亚库宁 | 22 |
9 | 王勇新 | 22 |
10 | L·P·巴克 | 21 |
排名 | 企业名称 | 专利 |
---|---|---|
1 | 中科专利商标代理有限责任公司 | 2731 |
2 | 北京市金杜律师事务所 | 1136 |
3 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 465 |
4 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 3 |
排名 | 代理人 | 专利 |
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1 | 王波波 | 755 |
2 | 王茂华 | 490 |
3 | 张启程 | 456 |
4 | 吴敬莲 | 334 |
5 | 王益 | 273 |
6 | 胡良均 | 260 |
7 | 王静 | 249 |
8 | 王新华 | 239 |
9 | 张宁 | 201 |
10 | 吕世磊 | 163 |