1.一种使用蒸气单元的方法，包括：
提供包括主体的蒸气单元，所述主体限定在所述主体内的腔，所述蒸气单元在所述腔内的至少一个表面的至少一部分包括至少一个孔，所述至少一个孔包括约500微米或更小的平均尺寸，如在平行于所述至少一个表面的方向上测量的；以及
通过引起在所述至少一个孔内的处于液态的对象材料的暴露表面具有与处于液态的所述对象材料的所述暴露表面在平坦的无孔表面上将具有的形状不同的形状来利用所述至少一个孔控制在所述腔内的对象材料的蒸气压。
2.根据权利要求1所述的方法，还包括利用所述至少一个孔引起在所述至少一个孔内的处于所述液态的所述对象材料的负弯月面为凹形。
3.根据权利要求2所述的方法，其中引起在所述至少一个孔内的处于所述液态的所述对象材料的所述负弯月面为凹形包括使邻近所述至少一个孔的处于蒸气状态的所述对象材料的蒸气压低于接近所述平坦的无孔表面的所述对象材料的蒸气压。
4.根据权利要求1所述的方法，包括选择所述对象材料以包括碱金属材料。
5.根据权利要求1所述的方法，选择所述对象材料以包括碱金属材料的混合物。
6.根据权利要求1所述的方法，其中所述至少一个孔包括微孔阵列、纳米孔阵列或微孔和纳米孔阵列。
7.根据权利要求1所述的方法，其中提供所述蒸气单元包括提供所述蒸气单元使得所述主体在所述腔内的至少一个表面包括所述至少一个孔。
8.根据权利要求1所述的方法，其中提供所述蒸气单元包括提供所述蒸气单元使得在所述腔内的离散材料块体包括所述蒸气单元在所述腔内的包括所述至少一个孔的所述至少一个表面，所述离散材料块体与所述主体离散。
9.根据权利要求8所述的方法，其中提供所述蒸气单元使得在所述腔内的所述离散材料块体包括所述至少一个表面包括提供所述蒸气单元使得所述离散材料块体附接到在所述腔内的所述主体。
10.根据权利要求8所述的方法，其中提供所述蒸气单元使得在所述腔内的所述离散材料块体包括所述至少一个表面包括提供所述蒸气单元使得所述腔的几何形状将所述离散材料块体的位置约束在所述腔内的特定位置中。
11.根据权利要求1所述的方法，包括利用朝向所述蒸气单元取向的辐射源将辐射朝向在所述蒸气单元内的所述对象材料指引。
12.根据权利要求1所述的方法，其中提供所述蒸气单元包括提供所述蒸气单元使得所述至少一个表面的平均表面粗糙度形成所述至少一个孔。
13.根据权利要求1所述的方法，其中提供所述蒸气单元包括提供所述蒸气单元使得所述至少一个孔的所述平均尺寸在5nm与1微米之间。
14.一种蒸气单元，包括：
主体，所述主体限定在所述主体内的腔；和
在所述腔内的至少一个表面，所述至少一个表面包括至少一个孔，所述至少一个孔包括约500微米或更小的平均尺寸，如在平行于所述至少一个表面的方向上测量的，所述至少一个孔的大小、形状、位置和构造被设定成通过引起在所述至少一个孔内的处于液态的对象材料的暴露表面具有与处于液态的所述对象材料的所述暴露表面在平坦的无孔表面上将具有的形状不同的形状来利用所述至少一个孔控制在所述腔内的对象材料的蒸气压。
15.根据权利要求14所述的蒸气单元，包括位于所述腔内的所述对象材料，所述对象材料包括碱金属材料。
16.根据权利要求14所述的蒸气单元，其中在所述腔内的所述至少一个表面包括硅材料。
17.根据权利要求14所述的蒸气单元，其中在所述腔内的所述至少一个表面包括所述主体的至少一个表面，所述主体至少部分地限定所述腔。
18.根据权利要求14所述的蒸气单元，其中在所述腔内的所述至少一个表面包括在所述腔内的离散材料块体，所述离散材料块体与所述主体离散。
19.根据权利要求14所述的蒸气单元，其中所述至少一个孔的所述平均尺寸在5nm与1微米之间。
20.根据权利要求14所述的蒸气单元，其中所述至少一个表面的平均表面粗糙度在5nm与1微米之间。
21.一种制作蒸气单元的方法，包括：
形成蒸气单元的主体，所述主体限定在所述主体内的腔；
在所述蒸气单元在所述腔内的至少一个表面的至少一部分中形成包括约500微米或更小的平均尺寸的至少一个孔，所述至少一个孔是在平行于所述至少一个表面的方向上测量的；以及
将所述至少一个孔的大小、形状、位置和构造设定成通过引起在所述至少一个孔内的处于液态的对象材料的暴露表面具有与处于液态的所述对象材料的所述暴露表面在平坦的无孔表面上将具有的形状不同的形状来利用所述至少一个孔控制在所述腔内的对象材料的蒸气压。
22.根据权利要求21所述的方法，包括控制所述至少一个表面的平均表面粗糙度以形成所述至少一个孔。
23.根据权利要求22所述的方法，其中控制所述至少一个表面的所述平均表面粗糙度包括在所述至少一个表面上执行深反应离子蚀刻。