一种带有压冲过程控制的RFD泵送系统装置及其控制方法专利检索-通过与别的流体直接接触或通过利用被泵送流体的惯性泵送流体（具有通过内部气体压力分散液体或半液体成分的特殊装置的容器或包装入B65D 83/14）虹吸管专利检索查询-专利查询网

一种带有压冲过程控制的RFD 泵送系统装置及其控制方法
申请号	CN202210215862.0	申请日	2022-03-07	公开(公告)号	CN114593093B	公开(公告)日	2023-03-28
申请人	清华大学;			发明人	徐聪; 陈靖;
摘要	本发明涉及一种带有压冲过程控制的RFD 泵送系统装置及其控制方法，在现有RFD泵送系统基础上，增设了压冲过程控制装置，包括压冲控制电磁阀、压差传感器与低液位探测管，通过压差传感器实时监测低液位探测管与活塞筒之间的压差信号，将压冲过程分为高压压冲过程和余压压冲过程，可以在免维修的情况下准确判断设置的目标低液位是否到达，可有效防止击穿现象的发生，从而能够有效避免环境泄漏、管路和容器破损等风险；不存在与料液直接接触的机械可动部件、电子元件等易损元件，全程采用气力被动式操作，从而能够实现免维修。
权利要求	1.一种带有压冲过程控制的RFD 泵送系统装置的控制方法，其特征在于，所述带有压冲过程控制的RFD泵送系统装置包括活塞筒，高压空气源与所述活塞筒的顶部通过压冲电磁阀相连接，真空源与所述活塞筒的顶部通过抽吸电磁阀相连接；所述活塞筒通过底部开口与料液相连通；提升管沿所述活塞筒的轴向嵌入，底部开口位于所述活塞筒的下部，顶部开口位于所述活塞筒的外部；还包括压冲过程控制装置，所述压冲过程控制装置包括压冲控制电磁阀、压差传感器与低液位探测管；所述低液位探测管沿所述活塞筒的轴向嵌入，底部开口位于所述活塞筒的下部，顶部开口位于所述活塞筒的外部；压冲控制高压空气源与所述低液位探测管的顶部开口通过所述压冲控制电磁阀相连接，所述压差传感器的高压端与所述低液位探测管的顶部开口相连接，所述压差传感器的低压端与所述活塞筒的顶部相连接；所述控制方法包括周期性依次进行的高压压冲、余压压冲与抽吸；所述高压压冲包括：同时打开压冲电磁阀与压冲控制电磁阀，关闭抽吸电磁阀；通过所述压冲电磁阀将来源于高压空气源的压力为PHC的高压空气进入活塞筒中，驱动其中填充的料液向下，通过提升管的底部开口进入提升管实现料液输送；同时，通过所述压冲控制电磁阀将来源于压冲控制高压空气源的压力为PLC的高压空气进入低液位探测管，防止料液沿所述低液位探测管上行；实时监测压差传感器的压差信号∆ PL，若监测到∆PL≤(PLC‑PHC)‑∆PH时，同时关闭压冲电磁阀与压冲控制电磁阀，进入余压压冲；所述高压压冲中∆PH对应于液位下降导致的低液位探测管和活塞筒之间的压差变化；所述余压压冲包括：在压冲电磁阀、压冲控制电磁阀以及抽吸电磁阀均关闭的状态下，活塞筒中现存的高压空气自由膨胀并驱动料液继续下行，实时监测压差传感器的压差信号∆PL，若监测到∆PL≤∆PL,set时，即目标低液位到达，打开抽吸电磁阀，进入抽吸过程；所述抽吸包括：打开抽吸电磁阀，维持压冲电磁阀与压冲控制电磁阀均关闭的状态，通过所述抽吸电磁阀将活塞筒与真空源相连通，使得活塞筒内产生负压，料液通过活塞筒的底部开口填充至活塞筒内直至目标高液位，同时打开压冲电磁阀与压冲控制电磁阀，关闭抽吸电磁阀，重新进行下一次高压压冲。 2.根据权利要求1所述的带有压冲过程控制的RFD泵送系统装置的控制方法，其特征在于，在所述活塞筒的底部设置RFD元件，所述RFD元件的第一开口与所述活塞筒的内部相连通，所述RFD元件的第二开口与所述活塞筒的底部开口相重合，通过所述RFD元件实现所述活塞筒与料液相连通；所述RFD元件的出口与所述提升管的底部开口相连通。 3.根据权利要求2所述的带有压冲过程控制的RFD泵送系统装置的控制方法，其特征在于，通过所述RFD元件实现所述活塞筒与料液贮罐中的料液相连通。 4.根据权利要求1所述的带有压冲过程控制的RFD泵送系统装置的控制方法，其特征在于，所述低液位探测管的外径为6‑10mm，内径为4‑8mm。 5.根据权利要求1所述的带有压冲过程控制的RFD泵送系统装置的控制方法，其特征在于，所述低液位探测管的底部开口与所述活塞筒的底部之间距离为400‑500mm。 6.根据权利要求1所述的带有压冲过程控制的RFD泵送系统装置的控制方法，其特征在于，在活塞筒的底部设置RFD元件，通过所述RFD元件实现所述活塞筒与料液贮罐中的料液相连通；所述高压压冲与所述余压压冲均包括：活塞筒中填充的料液向下，通过RFD元件的第一开口进入RFD元件，进入RFD元件中的料液一部分通过RFD元件的出口进入提升管实现料液输送，剩余部分通过RFD元件的第二开口返回料液贮罐；所述抽吸包括：料液贮罐中的料液通过RFD元件的第二开口进入RFD元件，进入RFD元件中的料液再通过RFD元件的第一开口填充至活塞筒内直至目标高液位。 7.根据权利要求1或6所述的带有压冲过程控制的RFD泵送系统装置的控制方法，其特征在于，在所述高压压冲中，高压空气源的压力PHC为200‑400kPa，压冲控制高压空气源的压力PLC为400‑600kPa，且PHC＜PLC。 8.根据权利要求1或6所述的带有压冲过程控制的RFD泵送系统装置的控制方法，其特征在于，在所述高压压冲中，∆PH为20‑40kPa。 9.根据权利要求1或6所述的带有压冲过程控制的RFD泵送系统装置的控制方法，其特征在于，在所述余压压冲中，∆PL,set为0‑5kPa。
说明书全文	一种带有压冲过程控制的RFD 泵送系统装置及其控制方法技术领域 [0001] 本发明涉及流体输送技术领域，具体涉及RFD泵送系统，尤其涉及一种带有压冲过程控制的RFD泵送系统装置及其控制方法。背景技术 [0002] 在核能、化工、冶金、矿山等工业生产中，常常需要对放射性、腐蚀性、高温等危险性料液进行输送。料液输送设备可分为两大类：主动输送设备和被动输送设备。前者含有叶片等机械可动部件，用于给被输送流体施加驱动力；后者则不含有机械可动部件，而是依靠高压空气等以被动的方式驱动流体运动。对于危险料液输送来说，与料液直接接触的机械可动部件、电子元件等非常容易被辐射、腐蚀、高温等损坏，而在这种危险环境下又不容易近距操作、维修和更换，因此采用可免维修的被动式输送设备是最佳选择。 [0003] 可逆转流体泵送系统(Reveres Fluidic Device)简称为RFD泵送系统，是目前为止适用性最好的被动式输送设备之一。RFD泵送系统中与料液直接接触的部分不含有机械可动部件和电子元件，完全依靠高压空气和真空抽吸完成料液输送。RFD泵送系统的一个操作循环由抽吸和压冲两个过程组成，有的情况还会再增加一个放空，将上述过程反复循环进行即可实现料液输送。如图1所示，现有技术中RFD泵送系统的工作过程包括如下内容：在抽吸过程中，关闭压冲电磁阀1，同时打开抽吸电磁阀2，将真空源5与活塞筒8实现连通，在活塞筒8内产生负压，使得料液贮罐11中的料液通过第二开口14进入RFD元件12，再通过第一开口13进入活塞筒8，使得料液达到目标位置；在压冲过程中，关闭抽吸电磁阀2，同时打开压冲电磁阀1，将高压空气源4送入活塞筒8中，驱动活塞筒8内的料液通过第一开口13进入RFD元件12，大部分料液转向进入提升管10进行输送，少部分料液通过第二开口14返回料液贮罐11，直至活塞筒8内的料液液位达到设定值，重新关闭压冲电磁阀1，同时打开抽吸电磁阀2，进入下一次抽吸过程，使得RFD泵送系统周而复始形成间歇性料液输送。 [0004] 然而，如果在压冲过程中没有及时检测到活塞筒内的料液已经被输送完毕，则高压空气会冲入料液贮罐和提升管中，这种现象被称为击穿。由于料液具有放射性、腐蚀性或处于高温状态等，这种击穿容易导致放射性泄漏、容器和管路破损等严重的安全问题。因此，在RFD泵送系统的操作过程中，尤其是输送危险料液时，如何避免机械可动部件和电子元件损坏，并能够准确判断泵内设置的目标低液位是否到达以及如何有效防止击穿，一直是一个难以解决的问题。 [0005] 综上所述，目前亟需开发一种带有压冲过程控制的RFD泵送系统装置及其控制方法，不仅可以在免维修的情况下准确判断设置的目标低液位是否到达，还可以有效防止击穿现象的发生。发明内容 [0006] 鉴于现有技术中存在的问题，本发明提供了一种带有压冲过程控制的RFD泵送系统装置及其控制方法，在现有RFD泵送系统基础上，增设了压冲过程控制装置，包括压冲控制电磁阀、压差传感器与低液位探测管，通过压差传感器实时监测低液位探测管与活塞筒之间的压差信号，可以在免维修的情况下准确判断设置的目标低液位是否到达，同时有效防止击穿现象的发生，而且没有与料液直接接触的机械可动部件和电子元件等易损元件，完全依靠气力式操作。 [0007] 为达此目的，本发明采用以下技术方案： [0008] 本发明的目的之一在于提供一种带有压冲过程控制的RFD泵送系统装置，包括活塞筒，高压空气源与所述活塞筒的顶部通过压冲电磁阀相连接，真空源与所述活塞筒的顶部通过抽吸电磁阀相连接；所述活塞筒通过底部开口与料液相连通；提升管沿所述活塞筒的轴向嵌入，底部开口位于所述活塞筒的下部，顶部开口位于所述活塞筒的外部； [0009] 还包括压冲过程控制装置，所述压冲过程控制装置包括压冲控制电磁阀、压差传感器与低液位探测管；所述低液位探测管沿所述活塞筒的轴向嵌入，底部开口位于所述活塞筒的下部，顶部开口位于所述活塞筒的外部；压冲控制高压空气源与所述低液位探测管的顶部开口通过所述压冲控制电磁阀相连接，所述压差传感器的高压端与所述低液位探测管的顶部开口相连接，所述压差传感器的低压端与所述活塞筒的顶部相连接。 [0010] 本发明所述带有压冲过程控制的RFD泵送系统，在现有RFD泵送系统基础上，增设了压冲过程控制装置，包括压冲控制电磁阀、压差传感器与低液位探测管，通过压差传感器实时监测低液位探测管与活塞筒之间的压差信号，可以在免维修的情况下准确判断设置的目标低液位是否到达，同时有效防止击穿现象的发生，而且没有与料液直接接触的机械可动部件和电子元件等易损元件，完全依靠气力式操作；另外，通过设置压冲控制高压空气源可以有效防止活塞筒中的料液被压入低液位探测管并上行进入上部管线，有效防止压冲控制电磁阀与压差传感器被污染。 [0011] 作为本发明优选的技术方案，在所述活塞筒的底部设置RFD元件，所述RFD元件的第一开口与所述活塞筒的内部相连通，所述RFD元件的第二开口与所述活塞筒的底部开口相重合，通过所述RFD元件实现所述活塞筒与料液相连通；所述RFD元件的出口与所述提升管的底部开口相连通。 [0012] 值得说明的是，相比于现有技术将RFD元件设置在活塞筒外部，本发明所述RFD元件位于活塞筒内部，且被设置在活塞筒的底部，可利用贮罐上现有通孔直接入罐安装，无需额外的破壁操作，可以进一步避免放射性、腐蚀性或处于高温状态等料液的泄露问题，提高安全性能。 [0013] 作为本发明优选的技术方案，通过所述RFD元件实现所述活塞筒与料液贮罐中的料液相连通。 [0014] 作为本发明优选的技术方案，所述低液位探测管的外径为6‑10mm，例如6mm、7mm、8mm、9mm或10mm等，内径为4‑8mm，例如4mm、5mm、6mm、7mm或8mm等，但并不仅限于所列举的数值，上述数值范围内其他未列举的数值同样适用。 [0015] 值得说明的是，本发明所述低液位探测管属于管径较小的长直管，使得低液位探测管内部的料液对于压差反应更灵敏，可以提高压差传感器监测的准确度。 [0016] 作为本发明优选的技术方案，所述低液位探测管的底部开口与所述活塞筒的底部之间距离为400‑500mm，例如400mm、420mm、440mm、450mm、470mm或500mm等，但并不仅限于所列举的数值，上述数值范围内其他未列举的数值同样适用。 [0017] 本发明的目的之二在于提供一种目的之一所述的带有压冲过程控制的RFD泵送系统的控制方法，所述控制方法包括周期性依次进行的高压压冲、余压压冲与抽吸； [0018] 所述高压压冲包括：同时打开压冲电磁阀与压冲控制电磁阀，关闭抽吸电磁阀；通过所述压冲电磁阀将来源于高压空气源的压力为PHC的高压空气进入活塞筒中，驱动其中填充的料液向下，通过提升管的底部开口进入提升管实现料液输送；同时，通过所述压冲控制电磁阀将来源于压冲控制高压空气源的压力为PLC的高压空气进入低液位探测管，防止料液沿所述低液位探测管上行；实时监测压差传感器的压差信号ΔPL，若监测到ΔPL≤(PLC‑PHC)‑ΔPH时，同时关闭压冲电磁阀与压冲控制电磁阀，进入余压压冲； [0019] 所述余压压冲包括：在压冲电磁阀、压冲控制电磁阀以及抽吸电磁阀均关闭的状态下，活塞筒中现存的高压空气自由膨胀并驱动料液继续下行，实时监测压差传感器的压差信号ΔPL，若监测到ΔPL≤ΔPL,set时，即目标低液位到达，打开抽吸电磁阀，进入抽吸过程； [0020] 所述抽吸包括：打开抽吸电磁阀，维持压冲电磁阀与压冲控制电磁阀均关闭的状态，通过所述抽吸电磁阀将活塞筒与真空源相连通，使得活塞筒内产生负压，料液通过活塞筒的底部开口填充至活塞筒内直至目标高液位，同时打开压冲电磁阀与压冲控制电磁阀，关闭抽吸电磁阀，重新进行下一次高压压冲。 [0021] 本发明所述控制方法基于压冲过程控制装置通过随时监测低液位探测管和活塞筒之间的压差，将压冲过程分为高压压冲过程和余压压冲过程，可以在免维修的情况下准确判断设置的目标低液位是否到达，可有效防止击穿现象的发生，从而能够有效避免环境泄漏、管路和容器破损等风险；不存在与料液直接接触的机械可动部件、电子元件等易损元件，全程采用气力被动式操作，从而能够实现免维修。 [0022] 值得说明的是，所述高压压冲中ΔPH对应于液位下降导致的低液位探测管和活塞筒之间的压差变化。 [0023] 作为本发明优选的技术方案，在活塞筒的底部设置RFD元件，通过所述RFD元件实现所述活塞筒与料液贮罐中的料液相连通； [0024] 所述高压压冲与所述余压压冲均包括：活塞筒中填充的料液向下，通过RFD元件的第一开口进入RFD元件，进入RFD元件中的料液一部分通过RFD元件的出口进入提升管实现料液输送，剩余部分通过RFD元件的第二开口返回料液贮罐； [0025] 所述抽吸包括：料液贮罐中的料液通过RFD元件的第二开口进入RFD元件，进入RFD元件中的料液再通过RFD元件的第一开口填充至活塞筒内直至目标高液位。 [0026] 值得说明的是，本发明所述高压压冲与所述余压压冲将活塞筒中料液分为“一部分”与“剩余部分”的两部分，属于清楚表述；而且，在高压压冲与余压压冲过程中，进入提升管的料液流量为Q1，提升管的阻力为R1，返回料液贮罐的料液流量为Q2，返回料液贮罐的阻力为R2，大致满足Q1/Q2＝R2/R1的关系。作为本发明优选的技术方案，在所述高压压冲中，高压空气源的压力PHC为200‑400kPa，例如200kPa、250kPa、300kPa、350kPa或400kPa等，压冲控制高压空气源的压力PLC为400‑600kPa，例如400kPa、450kPa、500kPa、550kPa或600kPa等，且PHC＜PLC，但并不仅限于所列举的数值，上述数值范围内其他未列举的数值同样适用。 [0027] 作为本发明优选的技术方案，在所述高压压冲中，ΔPH为20‑40kPa，例如20kPa、25kPa、30kPa、35kPa或40kPa等，但并不仅限于所列举的数值，上述数值范围内其他未列举的数值同样适用。 [0028] 作为本发明优选的技术方案，在所述余压压冲中，ΔPL,set为0‑5kPa，例如0kPa、1kPa、2kPa、3kPa、4kPa或5kPa等，但并不仅限于所列举的数值，上述数值范围内其他未列举的数值同样适用。 [0029] 值得说明的是，所述余压压冲与所述高压压冲相比，属于料液下行速度逐渐降低的过程，即惯性降速，而且ΔPL,set可设置为零或近于零的一个小正值，如0‑5kPa，对应于当液位低于低液位探测管的底部开口时，低液位探测管中无液柱或存在的高度很低的一段液柱的情况。 [0030] 值得说明的是，ΔPH与ΔPL,set均与被输送料液的性质有关，然而被输送料液具有放射性、腐蚀性或处于高温状态等特点，不容易得到其相关性质，因而实际操作中一般采用“先设定初始值，再试验调整”的方法，更能提高工作效率。 [0031] 与现有技术方案相比，本发明至少具有以下有益效果： [0032] 本发明所述带有压冲过程控制的RFD泵送系统及其控制方法，基于压冲过程控制装置，通过随时监测低液位探测管和活塞筒之间的压差，将压冲过程分为高压压冲过程和余压压冲过程，可以在免维修的情况下准确判断设置的目标低液位是否到达，可有效防止击穿现象的发生，从而能够有效避免环境泄漏、管路和容器破损等风险；不存在与料液直接接触的机械可动部件、电子元件等易损元件，全程采用气力被动式操作，从而能够实现免维修。附图说明 [0033] 图1是现有技术中RFD泵送系统的结构示意图； [0034] 图2是本发明实施例1所述带有压冲过程控制的RFD泵送系统的结构示意图； [0035] 图中：1‑压冲电磁阀；2‑抽吸电磁阀；3‑压冲控制电磁阀；4‑高压空气源；5‑真空源；6‑压冲控制高压空气源；7‑压差传感器；8‑活塞筒；9‑低液位探测管；10‑提升管；11‑料液贮罐；12‑RFD元件；13‑第一开口；14‑第二开口。具体实施方式 [0036] 下面结合附图并通过具体实施方式来进一步说明本发明的技术方案。 [0037] 为使本发明的技术方案、目的和优点更加清楚，下面通过具体的实施例子并结合附图对本发明做进一步的详细描述。应当理解的是，此处所描述的具体实施方式仅用于说明和解释本发明，并不用于限制本发明。 [0038] 在本发明的描述中，需要说明的是，术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。此外，术语“第一”、“第二”、“第三”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。 [0039] 在本发明的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于电和通信领域而言，可以是有线连接，也可以是无线连接。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。 [0040] 为更好地说明本发明，便于理解本发明的技术方案，本发明的典型但非限制性的实施例如下： [0041] 实施例1 [0042] 本实施例提供了一种带有压冲过程控制的RFD泵送系统装置，如图2所示，包括活塞筒8，高压空气源4与活塞筒8的顶部通过压冲电磁阀1相连接，真空源5与活塞筒8的顶部通过抽吸电磁阀2相连接；在活塞筒8的底部设置RFD元件12，RFD元件的第一开口13与活塞筒8的内部相连通，RFD元件12的第二开口14与活塞筒8的底部开口相重合，通过RFD元件12实现活塞筒8与料液贮罐11中的料液相连通；提升管10沿活塞筒8的轴向嵌入，底部开口位于活塞筒8的下部，RFD元件12的出口与提升管10的底部开口相连通，顶部开口位于活塞筒8的外部； [0043] 还包括压冲过程控制装置，所述压冲过程控制装置包括压冲控制电磁阀3、压差传感器7与低液位探测管9；低液位探测管9沿活塞筒8的轴向嵌入，底部开口位于活塞筒8的下部，顶部开口位于活塞筒8的外部；压冲控制高压空气源6与低液位探测管9的顶部开口通过压冲控制电磁阀3相连接，压差传感器7的高压端与低液位探测管9的顶部开口相连接，压差传感器7的低压端与活塞筒8的顶部相连接； [0044] 其中，低液位探测管9是外径为6毫米、内径4毫米的长直管，低液位探测管9的底部开口与活塞筒8的底部之间距离为450毫米；活塞筒8的外径为48毫米、内径为45毫米、高度为8.3米。 [0045] 应用例1 [0046] 本应用例提供了一种实施例1所述带有压冲过程控制的RFD泵送系统的控制方法，用于输送料液贮罐11中的1.0mol/L的硝酸废液，硝酸废液在料液贮罐11中的液位高度为20厘米，RFD元件12的第二开口14与活塞筒8的底部之间距离为8毫米；所述控制方法包括周期性依次进行的高压压冲、余压压冲与抽吸； [0047] 所述高压压冲包括：同时打开压冲电磁阀1与压冲控制电磁阀3，关闭抽吸电磁阀2；通过压冲电磁阀1将来源于高压空气源4的压力为PHC＝300kPa的高压空气进入活塞筒8中，驱动其中填充的硝酸废液向下，通过RFD元件12的第一开口13进入RFD元件12，进入RFD元件12中的硝酸废液一部分通过RFD元件12的出口进入提升管10实现料液输送，剩余部分通过RFD元件12的第二开口14返回料液贮罐11；同时，通过压冲控制电磁阀3将来源于压冲控制高压空气源6的压力为PLC＝500kPa的高压空气进入低液位探测管9，防止硝酸废液沿低液位探测管9上行；根据1.0mol/L的硝酸废液对应的3m液柱所产生的压强设置ΔPH为 30kPa，实时监测压差传感器的压差信号ΔPL，若监测到ΔPL≤(PLC‑PHC)‑ΔPH时，即ΔPL≤ 170kPa时，同时关闭压冲电磁阀与压冲控制电磁阀，进入余压压冲； [0048] 所述余压压冲包括：在压冲电磁阀1、压冲控制电磁阀3以及抽吸电磁阀2均关闭的状态下，活塞筒8中现存的高压空气自由膨胀并驱动硝酸废液继续下行；根据1.0mol/L的硝酸废液对应的0.5m液柱所产生的压强设置ΔPL,set为5kPa，实时监测压差传感器的压差信号ΔPL，若监测到ΔPL≤ΔPL,set时，即ΔPL≤5kPa时，即目标低液位到达，打开抽吸电磁阀2，进入抽吸过程； [0049] 所述抽吸包括：打开抽吸电磁阀2，维持压冲电磁阀1与压冲控制电磁阀3均关闭的状态，通过抽吸电磁阀2将活塞筒8与真空源5相连通，使得活塞筒8内产生负压，硝酸废液通过活塞筒8的底部开口填充至活塞筒8内直至目标高液位，同时打开压冲电磁阀1与压冲控制电磁阀3，关闭抽吸电磁阀2，重新进行下一次高压压冲。 [0050] 本应用例经过4小时的连续输送，高压压冲与余压压冲组成的压冲过程操作稳定，未发生击穿现象。 [0051] 综上所述，本发明所述带有压冲过程控制的RFD泵送系统及其控制方法，基于压冲过程控制装置，通过随时监测低液位探测管和活塞筒之间的压差，将压冲过程分为高压压冲过程和余压压冲过程，可以在免维修的情况下准确判断设置的目标低液位是否到达，可有效防止击穿现象的发生，从而能够有效避免环境泄漏、管路和容器破损等风险；不存在与料液直接接触的机械可动部件、电子元件等易损元件，全程采用气力被动式操作，从而能够实现免维修。 [0052] 本发明通过上述实施例来说明本发明的详细结构特征，但本发明并不局限于上述详细结构特征，即不意味着本发明必须依赖上述详细结构特征才能实施。所属技术领域的技术人员应该明了，对本发明的任何改进，对本发明所选用部件的等效替换以及辅助部件的增加、具体方式的选择等，均落在本发明的保护范围和公开范围之内。 [0053] 以上详细描述了本发明的优选实施方式，但是，本发明并不限于上述实施方式中的具体细节，在本发明的技术构思范围内，可以对本发明的技术方案进行多种简单变型，这些简单变型均属于本发明的保护范围。 [0054] 另外需要说明的是，在上述具体实施方式中所描述的各个具体技术特征，在不矛盾的情况下，可以通过任何合适的方式进行组合，为了避免不必要的重复，本发明对各种可能的组合方式不再另行说明。 [0055] 此外，本发明的各种不同的实施方式之间也可以进行任意组合，只要其不违背本发明的思想，其同样应当视为本发明所公开的内容。

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