用于供给化学溶液的系统与方法

申请号 CN202110259551.X 申请日 2021-03-10 公开(公告)号 CN113701058B 公开(公告)日 2024-03-22
申请人 台湾积体电路制造股份有限公司; 发明人 曾志江; 李明利; 陈锵泽;
摘要 本 发明 实施例 涉及用于供给化学溶液的系统与方法。一种系统包含化学品存储槽、管线、 泵 、第一静电探针及控制单元。所述管线连接到所述化学品存储槽。所述泵连接到所述管线且经配置以将化学溶液从所述化学品存储槽泵送到所述管线中。所述第一静电探针耦合到所述泵且经配置以测量所述泵的静电 电压 。所述控制单元耦合到所述第一静电探针且经配置以从所述第一静电探针获得静电电压的测量。
权利要求

1.一种用于供给化学溶液的系统,其包括:
化学品存储槽;
管线,其连接到所述化学品存储槽;
,其连接到所述管线且经配置以将化学溶液从所述化学品存储槽泵送到所述管线中;
第一静电探针,其耦合到所述泵且经配置以测量所述泵的静电电压;及
控制单元,其耦合到所述第一静电探针且经配置以从所述第一静电探针获得所述静电电压的所述测量,其中
所述第一静电探针包含绝缘密封部分及由所述绝缘密封部分所围封的导电部分,所述导电部分的宽度小于所述绝缘密封部分的宽度,
所述控制单元经配置以根据所述泵的所述静电电压的所述测量调整所述泵的至少一参数,所述参数包括流体、泵操作速度及频率
2.根据权利要求1所述的系统,其中所述泵包括至少一移动元件,且所述第一静电探针接近所述移动元件采用。
3.根据权利要求2所述的系统,其中所述移动元件包括止回球。
4.根据权利要求1所述的系统,其进一步包括耦合到所述控制单元及所述管线的内部且经配置以将所述管线的所述内部的静电电压的测量提供到所述控制单元的第二静电探针。
5.根据权利要求1所述的系统,其进一步包括耦合到所述控制单元及所述管线的外部且经配置以将所述管线的所述外部的静电电压的测量提供到所述控制单元的第三静电探针。
6.根据权利要求1所述的系统,其中所述管线包括绝缘材料。
7.根据权利要求6所述的系统,其中所述绝缘材料是选自由全氟烷基PFA、聚四氟乙烯PTFE、非爆炸性可溶性聚四氟乙烯NE‑PFA及抗静电可溶性聚四氟乙烯AS‑PFA组成的群组。
8.一种用于供给化学溶液的方法,其包括:
将第一静电探针提供到化学品供给系统,其中所述化学品供给系统包括化学品存储槽、管线、连接到所述化学品存储槽及所述管线的泵、耦合到所述泵的第一静电探针及耦合到所述第一静电探针的控制单元;
通过所述泵将化学溶液从所述化学品存储槽泵送到所述管线中;
在所述化学溶液的所述泵送期间通过所述第一静电探针将所述泵的静电电压的测量提供到所述控制单元;及
通过所述控制单元根据所述泵的所述静电电压的所述测量调整所述泵的参数,所述参数包括流体马力、泵操作速度及频率,其中所述第一静电探针包含绝缘密封部分及由所述绝缘密封部分所围封的导电部分,所述导电部分具有通过绝缘密封部分暴露以接触所述泵中的所述化学溶液的第一端以及电连接到预放大器的第二端。
9.根据权利要求8所述的方法,其中所述泵的所述参数的所述调整是在所述泵的所述静电电压大于5 KV时执行。
10.根据权利要求8所述的方法,其进一步包括:
将第二静电探针提供到所述管线的内部;
在所述化学溶液的所述泵送期间通过所述第二静电探针将所述管线的所述内部的静电电压的测量提供到所述控制单元;及
通过所述控制单元根据所述泵的所述静电电压及所述管线的所述内部的所述静电电压的所述测量调整所述泵的所述参数。
11.根据权利要求10所述的方法,其进一步包括:
将第三静电探针提供到所述管线的外部;
在所述化学溶液的所述泵送期间通过所述第三静电探针将所述管线的所述外部的静电电压的测量提供到所述控制单元;及
通过所述控制单元根据所述泵的所述静电电压、所述管线的所述内部的所述静电电压及所述管线的所述外部的所述静电电压的所述测量调整所述泵的所述参数。
12.一种供给化学溶液的方法,其包括:
提供耦合到处理工具的化学品供给系统,其中所述化学品供给系统包括管线、连接到所述管线的泵及控制单元;
将第一静电探针提供到所述泵;
通过所述泵经由所述管线将化学溶液提供到所述处理工具;
在所述化学溶液到所述处理工具的所述提供期间通过所述第一静电探针将所述泵的静电电压的测量提供到所述控制单元;及
通过所述控制单元根据所述泵的所述静电电压的所述测量调整所述泵的参数,所述参数包括流体马力、泵操作速度及频率,其中所述第一静电探针包含绝缘密封部分及导电部分,所述导电部分的一部分被所述绝缘密封部分围绕,所述导电部分的另一部分被所述绝缘密封部分暴露以接触所述泵中的所述化学溶液。
13.根据权利要求12所述的方法,其中所述泵的所述参数的所述调整是在所述泵的所述静电电压大于5 KV时执行。
14.根据权利要求12所述的方法,其中所述处理工具包括蚀刻器、湿式清洁器及光刻系统。
15.根据权利要求12所述的方法,其进一步包括:
将第二静电探针提供到所述管线的内部;
在所述化学溶液到所述处理工具的所述提供期间通过所述第二静电探针将所述管线的所述内部的静电电压的测量提供到所述控制单元;及
通过所述控制单元根据所述泵的所述静电电压及所述管线的所述内部的所述静电电压的所述测量调整所述泵的所述参数。
16.根据权利要求15所述的方法,其进一步包括:
将第三静电探针提供到所述管线的外部;
在所述化学溶液到所述处理工具的所述提供期间通过所述第三静电探针将所述管线的所述外部的静电电压的测量提供到所述控制单元;及
通过所述控制单元根据所述泵的所述静电电压、所述管线的所述内部的所述静电电压及所述管线的所述外部的所述静电电压的所述测量调整所述泵的所述参数。

说明书全文

用于供给化学溶液的系统与方法

技术领域

[0001] 本发明实施例涉及用于供给化学溶液的系统与方法。

背景技术

[0002] 在半导体制造设施中,当由绝缘材料制成的物品被其它绝缘材料触碰或摩擦时,导致静电放电(ESD)的静电在物品的表面上频繁地产生。静电的积累通常由被称为摩擦带电理论的现象产生。静电到机器及人类操作者的放电可引起对半导体晶片及工艺工具的损害,或引起对机器操作者的伤害。因此,在半导体制造设施中,需要通过将机器接地,通过控制相对湿度或通过使用稍微导电材料构建壁及地板覆盖物,使得电荷可经路由到接地而控制ESD。当摩擦电经适合地控制时,还增强粉尘及粒子污染的控制。

发明内容

[0003] 本发明的实施例涉及一种用于供给化学溶液的系统,其包括:化学品存储槽;管线,其连接到所述化学品存储槽;,其连接到所述管线且经配置以将化学溶液从所述化学品存储槽泵送到所述管线中;第一静电探针,其耦合到所述泵且经配置以测量所述泵的静电电压;及控制单元,其耦合到所述第一静电探针且经配置以从所述第一静电探针获得所述静电电压的所述测量。
[0004] 本发明的实施例涉及一种用于供给化学溶液的方法,其包括:将第一静电探针提供到化学品供给系统,其中所述化学品供给系统包括化学品存储槽、管线、连接到所述化学品存储槽及所述管线的泵、耦合到所述泵的第一静电探针及耦合到所述第一静电探针的控制单元;通过所述泵将化学溶液从所述化学品存储槽泵送到所述管线中;在所述化学溶液的所述泵送期间通过所述第一静电探针将所述泵的静电电压的测量提供到所述控制单元;及通过所述控制单元根据所述泵的所述静电电压的所述测量调整所述泵的参数。
[0005] 本发明的实施例涉及一种供给化学溶液的方法,其包括:提供耦合到处理工具的化学品供给系统,其中所述化学品供给系统包括管线、连接到所述管线的泵及控制单元;将第一静电探针提供到所述泵;通过所述泵经由所述管线将化学溶液提供到所述处理工具;在所述化学溶液到所述处理工具的所述提供期间通过所述第一静电探针将所述泵的静电电压的测量提供到所述控制单元;及通过所述控制单元根据所述泵的所述静电电压的所述测量调整所述泵的参数。
附图说明
[0006] 当结合附图阅读时从以下详细描述最好理解本揭露的方面。应注意,根据行业中的标准实践,各种构件未按比例绘制。事实上,为了清楚论述起见,可任意增大或减小各种构件的尺寸。
[0007] 图1是根据本发明的一或多个实施例的方面的用于供给化学溶液的系统的示意图。
[0008] 图2是根据本发明的一或多个实施例的方面的用于供给化学溶液的系统的示意图。
[0009] 图3是根据本发明的一或多个实施例的方面的用于供给化学溶液的系统的示意图。
[0010] 图4是根据本发明的一或多个实施例的方面的泵的一部分的示意图。
[0011] 图5是根据本发明的一或多个实施例的方面的静电探针的示意图。
[0012] 图6是表示根据本发明的一或多个实施例的方面的用于供给化学溶液的方法的流程图
[0013] 图7是说明粒子与时间之间的关系的图表。

具体实施方式

[0014] 下列揭露内容提供用于实施所提供主题的不同特征的许多不同实施例或实例。下文描述元件及布置的特定实例以简化本揭露。当然,这些仅为实例且意不在限制。例如,在下列描述中的第一构件形成于第二构件上方或上可包含其中所述第一构件及所述第二构件经形成为直接接触的实施例,且还可包含其中额外构件可形成在所述第一构件与所述第二构件之间,使得所述第一构件及所述第二构件可不直接接触的实施例。另外,本揭露可在各种实例中重复元件符号及/或字母。此重复出于简化及清楚的目的,且本身不指示所论述的各个实施例及/或配置之间的关系。
[0015] 此外,为便于描述,可在本文中使用例如“在…下面”、“在…下方”、“下”、“在…上方”、“上”、“在…上”及类似者的空间相对术语来描述一个元件或构件与另一(些)元件或构件的关系,如图中说明。空间相对术语希望涵盖除在图中描绘的定向以外的使用或操作中的装置的不同定向。装置可以其它方式定向(旋转100度或按其它定向)且本文中使用的空间相对描述词同样可相应地解释。
[0016] 如本文中使用,例如“第一”、“第二”及“第三”的术语描述各种元件、组件、区、层及/或区段,但此类元件、组件、区、层及/或区段不应受此类术语限制。此类术语可仅用于将一个元件、组件、区、层或区段彼此区分。例如“第一”、“第二”及“第三”的术语当在本文中使用时不暗示序列或顺序,除非背景内容清楚指示。
[0017] 半导体工艺(例如光刻、湿式蚀刻及清洁)在先进工艺节点处已变得更敏感。在光刻、湿式蚀刻及清洁中使用的液体、溶剂或溶液可萃取金属粒子。来自化学递送系统的萃取金属可引起不利地影响工艺良率的关键晶片缺陷。在一些比较方法中,为了应对此不利良率影响,制造商已使用绝缘管线(例如塑料管线)替换金属管线。此改变导致工艺化学物中的经萃取金属减少。
[0018] 然而,当运送或递送低导电率或高电阻化学溶液时,比较方法引起静电放电(ESD)的另一顾虑。当运送此化学溶液时,其可容易地在泵及管线的壁边界处引起电荷分离及积累。泵及管线中的电荷分离及积累的整体机制产生静电。此外,在运送期间产生的静电可损害管线及泵,且产生泄漏路径。在一些比较方法中,代替金属粒子,可在塑料管线中产生绝缘粒子,从而引起晶片的粒子污染。在其它比较方法中,当化学溶液可燃时,静电放电可进一步引起点燃或爆炸,此可引起半导体制造设施中的广泛损害。
[0019] 因此,本揭露提供一种用于供给化学溶液的系统与方法。用于供给化学溶液的系统与方法用于测量、监测且控制静电。在一些实施例中,系统包含耦合到泵及管线或在泵及管在线采用以执行在线测量及监测的静电探针。在一些实施例中,在泵及管线上采用的静电探针提供连续静电测量,此可缓解外部环境影响或人为错误。在一些实施例中,方法根据从静电探针获得的测量进一步调整或调谐用于供给化学溶液的系统的参数以减少静电产生。因此,可迅速地执行调整且因此可缓解粒子污染。
[0020] 图1到图3是根据本发明的一或多个实施例的方面的用于供给化学溶液的系统10a、10b、10c的示意图。应理解,图1到图3中的相同元件由相同数字描绘,且为了简洁起见,可省略重复细节。用于供给化学溶液的系统10a、10b、10c包含化学品存储槽100。化学品存储槽100经配置以存储一或多种类型的化学溶液。在其它实施例中,系统10a、10b、10c可包含可变体积化学品存储槽100(未展示)。在一些实施例中,系统10a、10b、10c可进一步包含经配置以混合存储于化学品存储槽100中的化学溶液的混合器。
[0021] 系统10a、10b、10c至少包含连接到化学品存储槽100的管线110及连接到管线110的泵120。取决于待通过系统10a、10b、10c供给的化学溶液,化学溶液可在被供给到管线110之前通过前述混合器混合。在一些替代实施例中,系统10a、10b、10c可存储化学溶液且将化学溶液供给到管线110而无需混合。
[0022] 在一些实施例中,管线110包含绝缘材料。在一些实施例中,管线110由绝缘材料制成。在一些实施例中,绝缘材料是选自基本上由全氟烷基(PFA)、聚四氟乙烯(PTFE)、非爆炸性可溶性聚四氟乙烯(NE‑PFA)及抗静电可溶性聚四氟乙烯(AS‑PFA)组成的群组。在其它实施例中,至少管线110的内表面包含绝缘材料。例如,可形成衬层以完全覆盖管线110的内表面。在一些实施例中,衬层可包含(例如(但不限于))PTFE或高密度聚乙烯(HDPE)。
[0023] 在一些实施例中,系统10a、10b、10c可包含其它组件。例如,组件可包含过滤器(未展示)及112。阀112有助于控制化学溶液的流量。例如,阀112有助于防止回流。在一些实施例中,阀112可为回吸阀。在一些实施例中,阀112可为止回阀。在一些实施例中,阀112包含用于释放捕集在管线110中的气体的机构。在一些实施例中,阀112是电子控制阀。在一些实施例中,阀112电连接到控制单元140且由电子单元140操作。
[0024] 请参考图4,其为根据本发明的一或多个实施例的方面的泵120的一部分的示意图。泵120连接到管线110且经配置以将化学溶液从化学品存储槽110泵送到管线110中。在一些实施例中,泵120包含泵本体121、右头部122R、左头部122L、组装波纹管123、轴件124、轴件密封件124S、止回阀座125、止回阀笼126、止回球127及止回塞128。在一些实施例中,泵120可包含聚四氟乙烯(PTFE),其减少可萃取金属离子污染。止回球127可为泵120中的移动元件。应理解,摩擦电是通过移动元件产生,且因此,止回球127可能触发静电放电。
[0025] 系统10a、10b、10c进一步包含耦合到泵120且经配置以测量泵120的静电电压的静电探针130a。在一些实施例中,静电探针130a接近移动元件(例如止回球127)采用。如上文提及,由于止回球127(其为移动元件)最可能触发静电放电,因此静电探针130a可接近止回球127耦合到泵120,如图4中展示。在一些实施例中,由于静电探针130a接近止回球127,因此可准确且迅速地测量最高静电电压。
[0026] 请参考图5,其为根据本发明的一或多个实施例的方面的静电探针的示意图。在一些实施例中,如图4及图5中展示,静电探针130a可与止回塞128整合。在此类实施例中,静电探针130a可由止回塞128围封。在一些实施例中,静电探针130a可包含绝缘密封部分132及由绝缘密封部分132围封的导电部分134。绝缘密封部分132可包含绝缘材料(例如PFA、PTFE、NE‑PFA及AS‑PFA),但本揭露不限于此。导电部分134的宽度小于止回塞128的宽度或小于绝缘密封部分132的宽度,使得导电部分134的侧壁可由止回塞128保护或由绝缘密封部分132保护。绝缘密封部分132的长度及导电部分134的长度可具有一比率,且可根据泵120中的化学溶液的液体流速调整所述比率。
[0027] 此外,静电探针130a的导电部分134的端136‑1可通过止回塞128暴露或通过绝缘密封部分132暴露以便接触泵120中的化学溶液且测量泵120的静电电压。静电探针130a的导电部分134的另一端136‑2可电连接到预放大器138。预放大器138是将弱电信号转换为足够强以用于进一步处理的输出信号的电子放大器。在一些实施例中,防爆连接器及防爆电缆可用于将静电探针130a的导电部分134的端136‑2电连接到放大器138,但本揭露不限于此。
[0028] 系统10a、10b、10c进一步包含耦合到静电探针130a的控制单元140,其中控制单元经配置以从静电探针130a获得静电电压。在一些实施例中,控制单元140电连接到泵120且经配置以调整泵120的至少一参数。在一些实施例中,控制单元140从静电探针130a接收信号(即,指示泵的静电电压的信号)且根据所获得静电电压发送信号以调整泵120的参数。泵120的参数可包含流体、泵操作速度及频率。在一些实施例中,当泵120的静电电压大于(例如(但不限于))近似5KV时,控制单元140可发送信号以降低流体马力、泵操作速度及/或频率。在一些实施例中,当泵120的静电电压大于(例如(但不限于))近似5KV到10KV时,控制单元140可发送信号以降低流体马力、泵操作速度及/或频率。在一些比较方法中,如果控制单元140在泵120的静电电压小于近似5KV时发送信号,那么系统10a如此敏感,使得假警报可被触发。在其它比较方法中,如果控制单元140在泵120的静电电压大于近似10KV时发送信号,那么可能无法及时检测静电的险。
[0029] 参考图2,在一些实施例中,系统10b包含静电探针130a及静电探针130b。静电探针130a及静电探针130b两者耦合到控制单元140。静电探针130a耦合到泵120,而静电探针
130b耦合到管线110的内部。如上文提及,静电探针130a经配置以测量泵120的静电电压且将此测量提供到控制单元140。静电探针130b经配置以测量管线110的内部的静电电压且将此测量提供到控制单元140。在一些实施例中,静电探针130b附接到管线110的内表面且用于在化学溶液行进通过时测量且监测管线110的内部的静电电压。静电探针130b可通过粘着层(未展示)附接到管线110的内表面,但本揭露不限于此。在一些实施例中,预放大器(未展示)可放置于静电探针130b与控制单元140之间且电连接到静电探针130b及控制单元
140,使得弱电信号可经放大成足够强以用于进一步处理的输出信号。在一些实施例中,静电探针130b可包含绝缘密封部分132及导电部分134,如图5中展示。因此,为了简洁起见,此处省略所述细节。
[0030] 参考图3,在一些实施例中,系统10c包含静电探针130a、静电探针130b及静电探针130c。静电探针130a、静电探针130b及静电探针130c中的每一者耦合到控制单元140。静电探针130a耦合到泵120,静电探针130b耦合到管线110的内部,且静电探针130c耦合到管线
110的外部。静电探针130a经配置以测量泵120的静电电压且将此测量提供到控制单元140,静电探针130b经配置以测量管线110的内部的静电电压且将此测量提供到控制单元140,且静电探针130c经配置以测量管线110的外部的静电电压且将此测量提供到控制单元140。在一些实施例中,静电探针130c放置于管线110的外表面上方且用于测量且监测管线110的外部的静电电压。如上文提及,静电探针130b可通过粘着层(未展示)附接到管线110的内表面,但本揭露不限于此。可在静电探针130c与管线110的外表面之间定义距离H。在一些实施例中,距离H可在近似5mm与近似10mm之间。在一些比较方法中,发现当距离H小于近似5mm或大于近似10mm时,测量受到不利影响。在一些实施例中,预放大器(未展示)可放置于静电探针130c与控制单元140之间且电连接到静电探针130c及控制单元140,使得弱电信号可经放大成足够强以用于进一步处理的输出信号。
[0031] 请参考图6,其为表示根据本发明的一或多个实施例的方面的用于供给化学溶液的方法20的流程图。用于供给化学溶液的方法20包含数个操作(201、202、203、204、205)。将根据一或多个实施例进一步描述用于供给化学溶液的方法20。应注意,可在各种方面的范围内重新布置或以其它方式修改用于供给化学溶液的方法20的操作。应进一步注意,可在用于供给化学溶液的方法20之前、期间及之后提供额外工艺,且可在本文中仅简要地描述一些其它工艺。因此,其它实施方案在本文中描述的各种方面的范围内是可能的。
[0032] 在一些实施例中,用于供给化学溶液的方法20可以操作201开始,其中提供耦合到处理工具的化学品供给系统。方法20继续进行操作202,其中将至少一静电探针提供到化学品供给系统的泵。方法20继续进行操作203,其中通过泵经由管线将化学溶液提供到处理工具。方法20继续进行操作204,其中通过静电探针测量泵的静电电压且将此测量提供到控制单元。方法20继续操作205,其中通过控制单元根据泵的静电电压调整泵的参数。
[0033] 在一些实施例中,在操作201,提供化学品供给系统且将其耦合到处理工具。参考图1到图3,化学品供给系统可包含用于供给化学溶液的系统10a、10b、10c。在一些实施例中,用于供给化学溶液的系统10a、10b、10c耦合到处理工具150,如图1到图3展示。在一些实施例中,处理工具150包含蚀刻器、湿式清洁器及光刻系统。在一些实施例中,用于将化学溶液施配到晶片的表面上的施配装置可放置于用于供给化学溶液的系统10a、10b、10c与处理工具150之间且耦合到用于供给化学溶液的系统10a、10b、10c及处理工具150。在一些实施例中,施配装置可用于光刻系统中。在此类实施例中,化学溶液适用于晶片的表面上的旋涂。例如,化学溶液可包含底部抗反射涂布(BARC)溶液或底漆溶液(例如改进晶片的表面与光致抗蚀剂之间的粘着性的底漆)。在一些实施例中,化学溶液可包含光致抗蚀剂。在一些实施例中,化学溶液可包含光致抗蚀剂显影剂,例如乙酸正丁酯(nBA)(导电率:4300ps/m)。在其它实施例中,化学溶液包含在半导体工艺中普遍使用的具有低导电率的有机溶液。例
4
如,化学溶液可包含丙二醇甲醚醋酸酯(PGMEA)(导电率:3*10ps/m)、甲基吡咯烷(nMP)
6
(导电率:2*10ps/m)等。
[0034] 在操作202,提供至少一静电探针且将其耦合到用于供给化学溶液的系统10a、10b、10c。在一些实施例中,静电探针130a耦合到系统10a的泵120,如图1中展示。在一些实施例中,静电探针130a耦合到泵120且静电探针130b耦合到系统10b的管线110的内部,如图
2中展示。在其它实施例中,静电探针130a耦合到泵120,静电探针130b耦合到管线110的内部,且静电探针130c耦合到系统10c的管线110的外部,如图3中展示。如图4中展示,在一些实施例中,静电探针130a接近移动元件(例如泵120的止回球127)耦合或采用。在一些实施例中,静电探针130a可与接近泵120的止回球127的止回塞128整合。
[0035] 在操作203,通过泵120经由管线110将化学溶液提供到处理工具150。在一些实施例中,通过泵120将化学溶液从化学品存储槽100泵送到管线110中,如图1到图3中展示。
[0036] 在操作204,在化学溶液的泵送期间,通过静电探针130a测量泵120的静电电压,且将此测量提供到控制单元140。如上文提及,由于止回球127最可能触发静电放电,因此接近止回球127的静电探针130a可准确且迅速地测量最高静电电压。在此类实施例中,可同时将泵120的静电电压的测量提供到控制单元140,如图1中展示。
[0037] 在一些实施例中,在操作204,静电探针130b还用于测量管线110的内部的静电电压。此外,在化学溶液的泵送期间,通过静电探针130b将管线110的内部的静电电压的测量提供到控制单元140。在此类实施例中,可同时将泵120的静电电压的测量及管线110的内部的静电电压的测量提供到控制单元140,如图2中展示。
[0038] 在一些实施例中,可在于控制单元140中接收泵120的静电电压的测量且接收管线110的内部的静电电压的测量之后提供加权值。在一些实施例中,取决于工艺监测要求,加权值可放大对泵120或管线110的内部的影响。在其它实施例中,取决于工艺监测要求,加权值可降低对泵120或管线110的内部的影响或噪声。
[0039] 在一些实施例中,在操作204,静电探针130c还用于测量管线110的外部的静电电压。此外,在化学溶液的泵送期间,通过静电探针130c将管线110的外部的静电电压的测量提供到控制单元140。在此类实施例中,同时将泵120的静电电压的测量、管线110的内部的静电电压的测量及管线110的外部的静电电压的测量提供到控制单元140,如图3中展示。
[0040] 在一些实施例中,可在于控制单元140中接收泵120的静电电压的测量、管线110的内部的静电电压的测量及管线110的外部的静电电压的测量之后提供加权值。在一些实施例中,取决于工艺监测要求,加权值可放大对泵120、管线110的内部或管线110的外部的影响。在其它实施例中,取决于工艺监测要求,加权值可降低对泵120、管线110的内部或管线110的外部的影响或噪声。
[0041] 在操作205,通过控制单元140调整泵120的参数。在一些实施例中,如图1中展示,通过控制单元140根据从系统10a的静电探针130a获得的泵120的静电电压的测量调整泵120的参数。在一些实施例中,泵120的参数包含流体马力、泵操作速度及频率。例如,当泵
120的静电电压大于近似5KV时,控制单元140可发送信号以降低泵120的流体马力、泵操作速度及/或频率。例如,当泵120的静电电压大于近似5KV到10KV时,控制单元140可发送信号以降低泵120的流体马力、泵操作速度及/或频率。
[0042] 在一些实施例中,在操作205,可通过控制单元140根据从静电探针130a获得的泵120的静电电压的测量及从系统10b的静电探针130b获得的管线110的内部的静电电压的测量调整或调谐泵120的参数,如图2中展示。
[0043] 在一些实施例中,在操作205,如图3中展示,可通过控制单元140根据从静电探针130a获得的泵120的静电电压的测量、从静电探针130b获得的管线110的内部的静电电压的测量及从系统10c的静电探针130c获得的管线110的外部的静电电压的测量调整或调谐泵
120的参数。
[0044] 在一些实施例中,通过降低泵120的参数,可减少在化学溶液的泵送期间产生的静电。由于减少泵中的静电,因此可缓解粒子问题。请参考图7,其为说明粒子与时间之间的关系的图表。在一些实施例中,静电放电可产生粒子且粒子可落在待处理的晶片上且因此发现粒子污染。在一些实施例中,在晶片上发现的粒子量的上限可被称为容限。当在晶片上发现的粒子量大于容限时,确定发生粒子污染。如图7中展示,在时间A之前,晶片可遭受粒子污染。由于粒子量与静电相关,因此当减少静电时,固有地减少粒子量。为了缓解此粒子污染问题,当控制单元140从静电探针130a接收泵120的静电电压的测量时,控制单元140可调整或调谐泵120的参数,使得可减少泵120中的静电。如图7中展示,在一些实施例中,控制单元140可在时间A从静电探针130a接收泵120的静电电压的测量且降低泵120的流体马力、泵操作速度及/或频率。因此,在时间A之后,减少泵120中的静电,且减少粒子量,如图7中展示。
[0045] 此外,由于静电探针130a耦合到泵120,因此可连续地监测泵120中产生的静电且因此可迅速地执行泵120的调整。
[0046] 已知来自管线110的外部的火花可在含溶剂环境中点燃可燃液体且在半导体制造设施中引起火灾或爆炸。还已知存在火灾或爆炸的两个原因:由通过管线110的壁的静电放电引起的可燃化学品泄漏及来自管线110的外部的静电放电。
[0047] 在一些实施例中,耦合到管线110的内部的静电探针130b监测管线110中的静电电压。因此,可进一步缓解粒子问题。在此类实施例中,可缓解管线110中的泄漏路径。已知在管线110内产生的静电可引起泄漏路径。因此,由于静电探针130b测量管线110的内部的静电电压且将此测量提供到控制单元140,因此可监测管线110的内部的条件,且因此可缓解泄漏路径问题。此外,可降低归因于由通过管线110的壁的静电放电引起的泄漏路径的火灾的风险。
[0048] 耦合到管线110的外部的静电探针130c监测管线110的外表面的静电电压。在此类实施例中,当控制单元140从静电探针130c接收管线110的外部的静电电压的测量时,控制单元140可调整或调谐泵120的参数,使得可减少泵120中的静电。在其它实施例中,控制单元140可发送警报。由于静电探针130c测量管线110的外部的静电电压且将静电电压的测量提供到控制单元140,因此可监测管线110的外部的条件。此外,可降低归因于来自管线110的外部的静电放电的火灾的风险。
[0049] 因此,本揭露提供一种用于供给化学溶液的系统与方法。用于供给化学溶液的所述系统与所述方法用于测量且控制静电。在一些实施例中,所述系统包含耦合到泵及管线或在泵及管线上采用以提供在线测量及监测的静电探针。在一些实施例中,在所述泵及所述管线上采用的所述静电探针提供连续静电测量,且因此可缓解外部环境影响或人为错误。在一些实施例中,所述方法根据从所述静电探针获得的所述测量进一步调整或调谐用于供给所述化学溶液的所述系统的参数以减少静电产生。因此,可迅速地执行所述调整且因此可缓解粒子污染。
[0050] 在一些实施例中,提供一种用于供给化学溶液的系统。所述系统包含化学品存储槽、管线、泵、第一静电探针及控制单元。所述管线连接到所述化学品存储槽。所述泵连接到所述管线且经配置以将化学溶液从所述化学品存储槽泵送到所述管线中。所述第一静电探针耦合到所述泵且经配置以测量所述泵的静电电压。所述控制单元耦合到所述第一静电探针且经配置以从所述第一静电探针获得所述静电电压的测量。
[0051] 在一些实施例中,所述泵包含至少一移动元件,且所述第一静电探针接近所述移动元件采用。在一些实施例中,所述移动元件包含止回球。在一些实施例中,所述系统进一步包含耦合到所述控制单元及所述管线的内部的第二静电探针。所述第二静电探针经配置以测量所述管线的所述内部的静电电压且将此测量提供到所述控制单元。在一些实施例中,所述系统进一步包含耦合到所述控制单元及所述管线的外部的第三静电探针。所述第三静电探针经配置以测量所述管线的所述外部的静电电压且将此测量提供到所述控制单元。在一些实施例中,所述控制单元经配置以调整所述泵的至少一参数。在一些实施例中,所述参数包含流体马力、泵操作速度及频率。在一些实施例中,所述管线包含绝缘材料。在一些实施例中,绝缘材料是选自PFA、PTFE、NE‑PFA及AS‑PFA。
[0052] 在一些实施例中,提供一种用于供给化学溶液的方法。所述方法包含以下操作。将第一静电探针提供到化学品供给系统。在一些实施例中,所述化学品供给系统包含化学品存储槽、管线、连接到所述化学品存储槽及所述管线的泵、耦合到所述泵的第一静电探针及耦合到所述第一静电探针的控制单元。通过所述泵将化学溶液从所述化学品存储槽泵送到所述管线中。在所述化学溶液的所述泵送期间通过所述第一静电探针测量所述泵的静电电压,且将此测量提供到所述控制单元。通过所述控制单元根据所述泵的所述静电电压的所述测量调整所述泵的参数。
[0053] 在一些实施例中,所述泵的所述参数的所述调整是在所述泵的所述静电电压大于5KV时执行。在一些实施例中,所述参数包含流体马力、泵操作速度及频率。
[0054] 在一些实施例中,所述方法进一步包含以下操作。将第二静电探针提供到所述管线的内部。在所述化学溶液的所述泵送期间通过所述第二静电探针测量所述管线的所述内部的静电电压,且将此测量提供到所述控制单元。通过所述控制单元根据所述泵的所述静电电压的所述测量及所述管线的所述内部的所述静电电压的所述测量调整所述泵的所述参数。
[0055] 在一些实施例中,所述方法进一步包含以下操作。将第三静电探针提供到所述管线的外部。在所述化学溶液的所述泵送期间通过所述第三静电探针测量所述管线的所述外部的静电电压,且将此测量提供到所述控制单元。通过所述控制单元根据所述泵的所述静电电压、所述管线的所述内部的所述静电电压及所述管线的所述外部的所述静电电压的所述测量调整所述泵的所述参数。
[0056] 在一些实施例中,提供一种用于供给化学溶液的方法。所述方法包含以下操作。提供耦合到处理工具的化学品供给系统。所述化学品供给系统包含管线、连接到所述管线的泵及控制单元。将第一静电探针提供到所述泵。通过所述泵经由所述管线将化学溶液提供到所述处理工具。在所述化学溶液到所述处理工具的所述提供期间通过所述第一静电探针测量所述泵的静电电压,且将此测量提供到所述控制单元。通过所述控制单元根据所述泵的所述静电电压的所述测量调整所述泵的参数。
[0057] 在一些实施例中,所述泵的所述参数的所述调整是在所述泵的所述静电电压大于近似5KV时执行。在一些实施例中,所述参数包含流体马力、泵操作速度及频率。在一些实施例中,所述处理工具包含蚀刻器、湿式清洁器及光刻系统。
[0058] 在一些实施例中,所述方法进一步包含以下操作。将第二静电探针提供到所述管线的内部。在所述化学溶液到所述处理工具的所述提供期间通过所述第二静电探针测量所述管线的所述内部的静电电压,且将此测量提供到所述控制单元。通过所述控制单元根据所述泵的所述静电电压及所述管线的所述内部的所述静电电压的所述测量调整所述泵的所述参数。
[0059] 在一些实施例中,所述方法进一步包含以下操作。将第三静电探针提供到所述管线的外部。在所述化学溶液到所述处理工具的所述提供期间通过所述第三静电探针测量所述管线的所述外部的静电电压,且将此测量提供到所述控制单元。通过所述控制单元根据所述泵的所述静电电压、所述管线的所述内部的所述静电电压及所述管线的所述外部的所述静电电压的所述测量调整所述泵的所述参数。
[0060] 上文概述若干实施例的特征,使得所属领域的技术人员可更好地理解本揭露的方面。所属领域的技术人员应了解,他们可容易地使用本揭露作为用于设计或修改用于实行本文中介绍的实施例的相同目的及/或实现相同优点的其它工艺及结构的基础。所属领域的技术人员还应意识到此类等效构造不脱离本揭露的精神及范围且他们可在本文中做出各种改变、替代及更改而不脱离本揭露的精神及范围。
[0061] 符号说明
[0062] 10a:用于供给化学溶液的系统
[0063] 10b:用于供给化学溶液的系统
[0064] 10c:用于供给化学溶液的系统
[0065] 20:用于供给化学溶液的方法
[0066] 100:化学品存储槽
[0067] 110:管线
[0068] 112:阀
[0069] 120:泵
[0070] 121:泵本体
[0071] 122L:左头部
[0072] 123:组装波纹管
[0073] 124:轴件
[0074] 124S:轴件密封件
[0075] 125:止回阀座
[0076] 126:止回阀笼
[0077] 127:止回球
[0078] 128:止回塞
[0079] 130a:静电探针
[0080] 130b:静电探针
[0081] 130c:静电探针
[0082] 132:绝缘密封部分
[0083] 134:导电部分
[0084] 136‑1:端
[0085] 136‑2:端
[0086] 138:预放大器
[0087] 140:控制单元
[0088] 150:处理工具
[0089] 201:操作
[0090] 202:操作
[0091] 203:操作
[0092] 204:操作
[0093] 205:操作
[0094] A:时间
[0095] H:距离。
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