含氟醚化合物、磁记录介质用润滑剂及磁记录介质 |
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| 申请号 | CN202280057143.9 | 申请日 | 2022-08-31 | 公开(公告)号 | CN117836268A | 公开(公告)日 | 2024-04-05 |
| 申请人 | 株式会社力森诺科; | 发明人 | 柳生大辅; 加藤刚; 丹治优; 浅野绫乃; 福本直也; 落合宏平; | ||||
| 摘要 | 下述式表示的含氟醚化合物。R1‑[B]‑[A][D]‑‑RO3‑(RCH12为包含酰胺键的‑R2‑CH2‑O‑[C]‑羰基 碳 原子 或氮原子与芳香族 烃 直接键合而成的基团的碳原子数7～18的有机基团；R2为全氟聚醚链；R3为式(2)；X1为氢原子或者碳原子数7～18的有机基团，所述碳原子数7～18的有机基团包含酰胺键的羰基碳原子或氮原子与芳香族烃直接键合而成的基团；[A]为式(3‑1)；[B]为式(3‑2)；[C]为式(4‑1)；[D]为式(4‑2)；式(1)中的羟基的数量为3以上。) | ||||||
| 权利要求 | 1.一种含氟醚化合物，其特征在于，其由下述式(1)表示， |
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| 说明书全文 | 含氟醚化合物、磁记录介质用润滑剂及磁记录介质技术领域[0001] 本发明涉及含氟醚化合物、磁记录介质用润滑剂及磁记录介质。 [0002] 本申请基于2021年9月2日在日本提出申请的特愿2021‑143420号来主张优先权，将其内容援用到本文中。 背景技术[0003] 近年来，介由网络的信息处理量飞跃性地增大。因此，记录介质的开发备受瞩目。尤其是，作为记录介质中的一种的磁记录介质的成本低并且能够保存大容量的数据，因此作为增多的数据的接收器而受到期待。 [0004] 作为磁记录介质，有在基板上形成磁性层(磁记录层)并在磁性层上形成碳等保护层而得到的磁记录介质。保护层对磁性层中所记录的信息进行保护，并且提高磁头的滑动性。但是，仅仅通过在磁性层上设置保护层，不能充分获得磁记录介质的耐久性。因此，通常在保护层的表面涂布润滑剂而形成润滑层。 [0007] 专利文献1及专利文献2中公开了一种含氟醚化合物，其能够形成即使厚度较薄也能获得优异的化学物质耐性及耐磨损性的润滑层。在专利文献1中，公开了在PFPE链的一端配置有芳基和羟基、在另一端配置有2个或3个羟基的含氟醚化合物。在专利文献2中，公开了在PFPE链的一个末端或两个末端配置有具有酰胺键的链状有机基团的含氟醚化合物。 [0008] 专利文献3中公开了一种润滑剂，其含有氟聚醚化合物，所述润滑剂维持优异的耐分解性，并且减小了每一分子的膜厚。专利文献3中公开了一种氟聚醚化合物，其中，在PFPE链的一端配置有被烷氧基、氨基或酰胺基取代的苯基，在另一端配置有包含羟基的特定末端基团。 [0009] 专利文献4中公开了一种磁盘，其设置有润滑层，并且LUL(Load Unload(加载卸载))耐久性及氧化铝耐性(抑制由氧化铝导致的润滑剂的分解)优异。在专利文献4中，作为润滑层中所含的化合物，公开了一种化合物，其具有PFPE主链，在分子的末端具有芳香族基团和羟基，并且芳香族基团和羟基分别与不同的碳原子键合。 [0010] 专利文献5中公开了一种润滑剂，其含有氟聚醚化合物，所述润滑剂即使在高热下也不发生热分解，不会转移附着(粘着)至磁头，耐热性高。专利文献5中公开了一种氟聚醚化合物，其在PFPE链的两个末端配置有包含一个羟基的特定连接基团和被烷氧基、氨基或酰胺基取代的苯基。 [0011] 现有技术文献 [0012] 专利文献 [0013] 专利文献1：国际公开第2017/154403号 [0014] 专利文献2：国际公开第2019/039265号 [0015] 专利文献3：日本专利第5909837号公报 [0016] 专利文献4：日本专利第5465454号公报 [0017] 专利文献5：日本专利第6040455号公报 发明内容[0018] 发明所要解决的课题 [0019] 为了磁记录再生装置的大容量化，正在进行适于高记录密度的磁记录介质的开发。近年来，为了提高磁记录介质的记录密度，要求磁间距(磁头与磁记录介质的磁性层之间的距离(上浮高度))的降低和磁记录介质的旋转速度的高速化。 [0020] 但是，若降低磁头的上浮高度，则容易发生润滑剂作为异物(污渍)附着于磁头的现象即粘着。若发生粘着，则磁头的上浮变得不稳定，存在磁头与磁记录介质表面接触的担忧。 [0021] 另外，若加快磁记录介质的旋转速度，则会发生脱落(spin‑off)，润滑层的膜厚容易减少。所谓脱落，是由于伴随磁记录介质的旋转产生的离心力和/或发热而使润滑剂飞散或蒸发的现象。若由于脱落而使润滑层的膜厚减少，则无法维持润滑层所需要的化学物质耐性、耐磨损性、耐腐蚀性、磁头的上浮稳定性等特性。 [0022] 另外，为了提高磁头的上浮稳定性，除了抑制粘着及脱落的发生之外，重要的是，润滑层对于保护层的密合性良好，并且配置于磁记录介质的最表面的润滑层的平滑性良好。 [0023] 本发明是鉴于上述情况而提出的，其目的在于提供一种含氟醚化合物，其能够形成不易发生粘着及脱落并且对于保护层的密合性及平滑性良好的润滑层，所述含氟醚化合物能够合适地用作磁记录介质用润滑剂的材料。 [0024] 另外，本发明的目的在于提供一种磁记录介质用润滑剂，其包含本发明的含氟醚化合物，所述磁记录介质用润滑剂能够形成不易发生粘着及脱落并且对于保护层的密合性及平滑性良好的润滑层。 [0025] 另外，本发明的目的在于提供一种磁记录介质，其具有包含本发明的含氟醚化合物的润滑层，并且磁头的上浮稳定性优异。 [0026] 用于解决课题的手段 [0027] 本申请的发明人为了解决上述课题而反复进行了深入研究。 [0028] 结果获知，使用下述特定的含氟醚化合物即可，所述含氟醚化合物在全氟聚醚链的一个或两个末端具有包含酰胺键的羰基碳原子或氮原子与芳香族烃直接键合而成的基团的末端基团，并且具有3个以上的羟基。而且确认到，通过使用包含这样的含氟醚化合物的磁记录介质用润滑剂，能够形成不易发生粘着及脱落并且对于保护层的密合性及平滑性良好的润滑层，从而想到了本发明。 [0029] 本发明包括以下方式。 [0030] 本发明的第一方式提供以下的含氟醚化合物。 [0031] [1]一种含氟醚化合物，其特征在于，其由下述式(1)表示。 [0032] R1‑[B]‑[A]‑O‑CH2‑R2‑CH2‑O‑[C]‑[D]‑R3 (1) [0033] (式(1)中，R1为包含酰胺键的羰基碳原子或氮原子与芳香族烃直接键合而成的基2 3 团的碳原子数7～18的有机基团；R为全氟聚醚链；R由下述式(2)表示；式(2)中，a表示2～6 1 的整数，b表示0或1；X 为氢原子或者碳原子数7～18的有机基团，所述碳原子数7～18的有机基团包含酰胺键的羰基碳原子或氮原子与芳香族烃直接键合而成的基团；式(1)中，[A]由下述式(3‑1)表示；式(3‑1)中的c为0～3的整数；式(1)中，[B]由下述式(3‑2)表示；式(3‑ 2)中的d为0～3的整数，e为2～5的整数；其中，式(3‑1)中的c与式(3‑2)中的d的合计为1～ 3；式(1)中[A]与[B]可以互换；式(1)中，[C]由下述式(4‑1)表示；式(4‑1)中的f为0～3的整数；式(1)中，[D]由下述式(4‑2)表示；式(4‑2)中的g为0～3的整数，h为2～5的整数；其中，式(4‑1)中的f与式(4‑2)中的g的合计为1～3；式(1)中[C]与[D]可以互换；在[C]直接键合 3 3 1 3 于R的情况下，R不是氢原子；式(1)中的羟基的数量为3以上，R 及R 中的羟基的数量各自为0或1。) [0034] [0035] 本发明的第一方式的所述含氟醚化合物优选具有以下的[2]～[8]所记载的特征。以下的[2]～[8]所记载的特征也优选将2个以上的特征任意组合。 [0036] [2]根据[1]所述的含氟醚化合物，所述式(1)中的R1为下述式(5‑1)～(5‑5)表示的任一结构。 [0037] [0038] (式(5‑1)～(5‑3)中，X2为1种或2种以上的式(6‑1)或(6‑2)表示的基团。)[0039] (式(5‑4)及(5‑5)中，Y5为氢原子或碳原子数1～6的烷基；L表示1～6的整数；Z为选自氢原子、碳原子数1～6的烷基、碳原子数1～6的烷氧基、式(6‑1)或(6‑2)表示的基团中的任意1种或2种以上。) [0040] [0041] (式(6‑1)中，Y1及Y2各自独立地为氢原子、碳原子数1～7的烷基、Y1与Y2彼此键合而成的环状结构中的任一者；式(6‑1)中所含的碳原子数的合计为1～8。) [0042] (式(6‑2)中，Y3为碳原子数1～7的烷基，Y4为氢原子或碳原子数1～6的烷基；也可3 4 以是Y与Y彼此键合而成的环状结构；式(6‑2)中所含的碳原子数的合计为2～8。) [0043] [3]根据[1]或[2]所述的含氟醚化合物，所述式(1)中的R1‑[B]‑[A]‑与‑[C]‑[D]‑3 R是相同的。 [0044] [4]根据[1]或[2]所述的含氟醚化合物，所述式(2)中的X1为氢原子。 [0045] [5]根据[1]或[2]所述的含氟醚化合物，所述式(1)中的‑[C]‑[D]‑R3为下述式(7‑1)～(7‑3)中的任一者。 [0046] [0047] (式(7‑1)中，i表示1或2，j表示1～5的整数。) [0048] (式(7‑2)中，k表示2～5的整数，t表示0或1，p表示1～5的整数。) [0049] (式(7‑3)中，q表示0或1，r表示1～5的整数，s表示1～4的整数。) [0050] [6]根据[1]～[5]中任一项所述的含氟醚化合物，所述式(1)中的R2由下述式(8‑1)表示。 [0051] ‑(CF2)w1‑O‑(CF2O)w2‑(CF2CF2O)w3‑(CF2CF2CF2O)w4‑(CF2CF2CF2CF2O)w5‑(CF2)w6‑ (8‑1) [0052] (式(8‑1)中，w2、w3、w4、w5表示平均聚合度，各自独立地表示0～30；其中，不包括w2、w3、w4、w5全部同时为0的情况；w1、w6是表示CF2的数量的平均值，各自独立地表示1～3；式(8‑1)中的重复单元的排列顺序没有特别限制。) [0053] [7]根据[1]～[6]中任一项所述的含氟醚化合物，所述式(1)中的R2为下述式(8‑2)～(8‑5)中的任一者。 [0054] ‑CF2O‑(CF2CF2O)u‑(CF2O)v‑CF2‑ (8‑2) [0055] (式(8‑2)中，u、v表示平均聚合度，各自表示0～30；其中，u或v为0.1以上。)[0056] ‑(CF2)w7‑O‑(CF2CF2CF2O)w8‑(CF2CF2O)w9‑(CF2)w10‑ (8‑3) [0057] (式(8‑3)中，w8、w9表示平均聚合度，各自独立地表示0.1～30；w7、w10是表示CF2的数量的平均值，各自独立地表示1～2。) [0058] ‑CF2CF2O‑(CF2CF2CF2O)x‑CF2CF2‑ (8‑4) [0059] (式(8‑4)中，x表示平均聚合度，并且表示0.1～30。) [0060] ‑CF2CF2CF2O‑(CF2CF2CF2CF2O)y‑CF2CF2CF2‑ (8‑5) [0061] (式(8‑5)中，y表示平均聚合度，并且表示0.1～30。) [0062] [8]根据[1]～[7]中任一项所述的含氟醚化合物，其数均分子量在500～10000的范围内。 [0063] 本发明的第二方式提供以下的磁记录介质用润滑剂。 [0064] [9]一种磁记录介质用润滑剂，其特征在于，其包含[1]～[8]中任一项所述的含氟醚化合物。 [0065] 本发明的第三方式提供以下的磁记录介质。 [0066] [10]一种磁记录介质，其特征在于，其是在基板上至少依次设置有磁性层、保护层和润滑层的磁记录介质，所述润滑层包含[1]～[8]中任一项所述的含氟醚化合物。 [0067] 本发明的第三方式的磁记录介质优选具有以下的[11]所记载的特征。 [0068] [11]根据[10]所述的磁记录介质，所述润滑层的平均膜厚为0.5nm～2.0nm。 [0069] 发明效果 [0070] 本发明的含氟醚化合物为上述式(1)表示的化合物，适合作为磁记录介质用润滑剂的材料。 [0071] 本发明的磁记录介质用润滑剂包含本发明的含氟醚化合物。因此，能够形成不易发生粘着及脱落并且对于保护层的密合性及平滑性良好的润滑层。 [0072] 本发明的磁记录介质具有不易发生粘着及脱落并且对于保护层的密合性及平滑性良好的润滑层，因此磁头的上浮稳定性优异。因此，本发明的磁记录介质能实现磁间距的降低和旋转速度的高速化，能够有助于提高记录密度。附图说明 [0073] [图1]为示出本发明的磁记录介质的一个优选实施方式的概略截面图。 具体实施方式[0074] 为了解决上述课题，本申请的发明人着眼于润滑层中所含的含氟醚化合物的分子结构与保护层之间的关系，以下所示地反复进行了深入研究。 [0075] 以往，为了得到对于保护层的密合性良好的润滑层，使用了在分子中具有羟基的含氟醚化合物作为润滑剂。然而，即使是在分子中具有多个羟基的含氟醚化合物，使用以往的润滑剂所形成的润滑层有时也不能充分获得对于保护层的密合性。 [0076] 若润滑层与保护层的密合性不充分，则润滑层变得膨松，难以得到膜厚均匀且平滑性良好的润滑层。推测这是因为，润滑层中所含的含氟醚化合物彼此局部地凝集，或者含氟醚化合物的分子的一部分从保护层表面浮起，在润滑层的表面形成凹凸。另外，含氟醚化合物彼此的局部的凝集及含氟醚化合物的分子从保护层表面的浮起成为粘着及脱落的原因。 [0077] 另外，本申请的发明人深入研究的结果获知，若在润滑层中所含的含氟醚化合物中存在未参与与保护层的吸附的羟基，则不能充分获得润滑层与保护层的密合性，润滑层表面的凹凸变大，容易发生粘着及脱落。 [0078] 例如，在具有键合有羟基的碳原子彼此键合而成的邻二醇结构(‑CH(OH)‑CH(OH)‑)的含氟醚化合物中，邻二醇结构所具有的相邻的两个羟基由于立体上的因素而不能同时吸附于保护层。因此，若两个羟基中的一个羟基吸附于保护层，则另一个羟基不能参与与保护层的吸附，而会从保护层表面浮起。其结果是，包含具有邻二醇结构的含氟醚化合物的润滑层与保护层的密合性容易变得不充分，容易发生粘着及脱落。并且，含氟醚化合物中所含的羟基之中从保护层表面浮起了的羟基容易诱发润滑层的沾污。因此，从磁头的上浮稳定性及化学物质耐性的观点考虑，包含具有邻二醇结构的含氟醚化合物的润滑层是不优选的。 [0079] 因此，为了提高润滑层对于保护层的密合性，本申请的发明人针对用作润滑层的材料的含氟醚化合物的分子结构反复进行了研究。其结果是，发现了制成下述含氟醚化合物即可，所述含氟醚化合物在PFPE链的两端介由亚甲基(‑CH2‑)而分别配置有具有仲羟基的特定连接基团，并且在至少一个末端配置有包含酰胺键的羰基碳原子或氮原子与芳香族烃直接键合而成的基团的有机基团，从而想到了本发明。 [0080] 以下，对本发明的含氟醚化合物、磁记录介质用润滑剂及磁记录介质的例子进行详细说明。需要说明的是，本发明并不仅限定于以下所示的实施方式。本发明可在不脱离本发明的主旨的范围内对数量、量、比率、材料、构成等进行附加、省略、替换、变更。 [0081] [含氟醚化合物] [0082] 本实施方式的含氟醚化合物由下述式(1)表示。 [0083] R1‑[B]‑[A]‑O‑CH2‑R2‑CH2‑O‑[C]‑[D]‑R3(1) [0084] (式(1)中，R1为包含酰胺键的羰基碳原子或氮原子与芳香族烃直接键合而成的基2 3 团的碳原子数7～18的有机基团；R为全氟聚醚链；R由下述式(2)表示；式(2)中，a表示2～6 1 的整数，b表示0或1；X 为氢原子或者碳原子数7～18的有机基团，所述碳原子数7～18的有机基团包含酰胺键的羰基碳原子或氮原子与芳香族烃直接键合而成的基团；式(1)中，[A]由下述式(3‑1)表示；式(3‑1)中的c为0～3的整数；式(1)中，[B]由下述式(3‑2)表示；式(3‑ 2)中的d为0～3的整数，e为2～5的整数；其中，式(3‑1)中的c与式(3‑2)中的d的合计为1～ 3；式(1)中[A]与[B]可以互换；式(1)中，[C]由下述式(4‑1)表示；式(4‑1)中的f为0～3的整数。式(1)中，[D]由下述式(4‑2)表示；式(4‑2)中的g为0～3的整数，h为2～5的整数；其中，式(4‑1)中的f与式(4‑2)中的g的合计为1～3；式(1)中[C]与[D]可以互换；在[C]直接键合 3 3 1 3 于R的情况下，R不是氢原子；式(1)中的羟基的数量为3以上，R 及R 中的羟基的数量各自为0或1。) [0085] [0086] (R2表示的PFPE链) [0087] 在式(1)表示的本实施方式的含氟醚化合物中，R2为全氟聚醚(PFPE)链。在将含有含氟醚化合物的润滑剂涂布于保护层上而形成了润滑层的情况下，PFPE链被覆保护层的表2 面，并且向润滑层赋予润滑性从而降低磁头与保护层的摩擦力。R 表示的PFPE链没有特别限定，可以根据润滑剂所需要的性能等而适宜地选择。 [0088] 作为R2表示的PFPE链，可举出例如，全氟氧化亚甲基聚合物、全氟氧化亚乙基聚合物、全氟氧化亚正丙基聚合物、全氟氧化亚异丙基聚合物、全氟氧化亚正丁基聚合物、由它们的共聚物形成的PFPE链等。 [0089] 式(1)中的R2例如优选为来自全氟氧化亚烷基的聚合物或共聚物的由下述式(8‑1)表示的结构。 [0090] ‑(CF2)w1‑O‑(CF2O)w2‑(CF2CF2O)w3‑(CF2CF2CF2O)w4‑(CF2CF2CF2CF2O)w5‑(CF2)w6‑ (8‑1)[0091] (式(8‑1)中，w2、w3、w4、w5表示平均聚合度，各自独立地表示0～30；其中，不包括w2、w3、w4、w5全部同时为0的情况；w1、w6是表示CF2的数量的平均值，各自独立地表示1～3；式(8‑1)中的重复单元的排列顺序没有特别限制。) [0092] 式(8‑1)中，w2、w3、w4、w5表示平均聚合度，各自独立地表示0～30，优选为0～20，更优选为0～15。例如，w2、w3、w4、w5各自独立地可以为1～28、2～25、3～17、5～10等。 [0093] 式(8‑1)中，w1、w6是表示CF2的数量的平均值，各自独立地表示1～3。w1、w6可根据式(8‑1)表示的PFPE链中配置于链状结构的端部的重复单元的结构等而确定。 [0094] 式(8‑1)中的(CF2O)、(CF2CF2O)、(CF2CF2CF2O)、(CF2CF2CF2CF2O)为重复单元。式(8‑1)中的重复单元的排列顺序没有特别限制。另外，式(8‑1)中的重复单元的种类数也没有特别限制。 [0095] 具体而言，式(1)中的R2优选为下述式(8‑2)～(8‑5)中的任一者。 [0096] ‑CF2O‑(CF2CF2O)u‑(CF2O)v‑CF2‑ (8‑2) [0097] (式(8‑2)中，u、v表示平均聚合度，各自表示0～30；其中，u或v为0.1以上。)[0098] ‑(CF2)w7‑O‑(CF2CF2CF2O)w8‑(CF2CF2O)w9‑(CF2)w10‑ (8‑3) [0099] (式(8‑3)中，w8、w9表示平均聚合度，各自独立地表示0.1～30；w7、w10是表示CF2的数量的平均值，各自独立地表示1～2。) [0100] ‑CF2CF2O‑(CF2CF2CF2O)x‑CF2CF2‑ (8‑4) [0101] (式(8‑4)中，x表示平均聚合度，并且表示0.1～30。) [0102] ‑CF2CF2CF2O‑(CF2CF2CF2CF2O)y‑CF2CF2CF2‑ (8‑5) [0103] (式(8‑5)中，y表示平均聚合度，并且表示0.1～30。) [0104] 式(8‑2)中，重复单元(CF2CF2O)和(CF2O)的排列顺序没有特别限制。式(8‑2)中，(CF2CF2O)的数量u与(CF2O)的数量v可以相同，也可以不同。式(8‑2)表示的PFPE链可以为(CF2CF2O)的聚合物，也可以为(CF2O)的聚合物。另外，式(8‑2)表示的PFPE链可以包含由(CF2CF2O)和(CF2O)形成的无规共聚物、嵌段共聚物、交替共聚物中的任一者。 [0105] 式(8‑2)中，表示平均聚合度的u为0～30，优选为1～20，进一步优选为2～15。式(8‑2)中，表示平均聚合度的v为0～30，优选为0～20，进一步优选为0～15。v也可以为1～10、2～5等。式(8‑2)中，在v为0的情况下，u优选为1～20。若表示平均聚合度的u、v在上述范围内，则成为容易在保护层上浸润展开从而容易得到具有均匀的膜厚的润滑层的含氟醚化合物，因此优选。 [0106] 式(8‑3)中，重复单元(CF2CF2CF2O)和(CF2CF2O)的排列顺序没有特别限制。式(8‑3)中，表示平均聚合度的(CF2CF2CF2O)的数量w8与(CF2CF2O)的数量w9可以相同，也可以不同。式(8‑3)表示的PFPE链可以包含由(CF2CF2CF2O)和(CF2CF2O)形成的无规共聚物、嵌段共聚物、交替共聚物中的任一者。 [0107] 式(8‑3)中，表示平均聚合度的w8及w9各自独立地为0.1～30，优选为0.1～20，进一步优选为1～15。若表示平均聚合度的w8、w9在上述范围内，则成为容易在保护层上浸润展开从而容易得到具有均匀的膜厚的润滑层的含氟醚化合物，因此优选。式(8‑3)中的w7及w10是表示CF2的数量的平均值，各自独立地表示1～2。w7及w10可根据式(8‑3)表示的PFPE链中配置于链状结构的端部的重复单元的结构等而确定。 [0108] 式(8‑4)中，表示平均聚合度的x表示0.1～30。在x为0.1～30的情况下，本实施方式的含氟醚化合物的数均分子量容易在优选的范围内。x优选为1～20，更优选为2～15。 [0109] 式(8‑5)中，表示平均聚合度的y表示0.1～30。在y为0.1～30的情况下，本实施方式的含氟醚化合物的数均分子量容易在优选的范围内。y优选为1～20，更优选为2～15。 [0110] 若式(1)中的R2为式(8‑2)～(8‑5)中的任一者，则成为可得到具有良好的润滑性2 的润滑层的含氟醚化合物。另外，在式(1)中的R为式(8‑2)～(8‑5)中的任一者的情况下，PFPE链中的氧原子数(醚键(‑O‑)数)相对于碳原子数的比例、和PFPE链中的氧原子的配置变得适当。因此，成为具有适度的硬度的含氟醚化合物。由此，涂布至保护层上的含氟醚化合物不易在保护层上凝集，能够以充分的被覆率形成厚度更薄的润滑层。另外，若式(1)中 2 2 的R为式(8‑2)～(8‑5)中的任一者，则含氟醚化合物容易合成，因而优选。尤其是在R为式(8‑2)或式(8‑4)的情况下，原料容易获得，因而更优选。 [0111] (‑[B]‑[A]‑表示的连接基团) [0112] 在式(1)表示的本实施方式的含氟醚化合物中，‑[B]‑[A]‑为二价连接基团。式(1)中[A]与[B]可以互换。[A]由上述式(3‑1)表示，[B]由上述式(3‑2)表示。式(3‑1)中的c及式(3‑2)中的d为0～3的整数。 [0113] 对于‑[B]‑[A]‑表示的连接基团而言，从原料获得及合成的容易性的观点考虑，优选式(3‑1)中的c为1且式(3‑2)中的d为0的组合、或上述c为0且上述d为1的组合。 [0114] 另外，对于‑[B]‑[A]‑表示的连接基团而言，从与保护层的密合性的观点考虑，优选上述c为2且上述d为0的组合、或上述c为1且上述d为1的组合。在上述c为2且上述d为0的情况下，在含氟醚化合物中，式(3‑1)所具有的2个羟基的配置方向相对于PFPE链的延伸方向而言在立体上为相同方向，可观察到式(3‑1)所具有的2个羟基变得容易吸附于保护层的1 倾向。另外，在上述c及上述d为1并且[A]与[B]的键合顺序从R 侧起为‑[A]‑[B]‑的情况下，‑[A]‑[B]‑表示的连接基团中所含的羟基彼此之间的距离变得更远。因此，能够减小式(1)表示的含氟醚化合物的分子内氢键，提高其与保护层的密合性。 [0115] 式(3‑2)中的e为2～5的整数。由于e为2以上，因此，在[A]与[B]的键合顺序从R1侧起为‑[A]‑[B]‑的情况下，能够减小[B]中所含的羟基彼此形成的分子内氢键、以及[B]中所含的羟基和与[B]相邻的[A]中所含的羟基形成的分子内氢键。由于e为5以下，因此，含氟醚化合物分子中的氟原子的比例降低，能够抑制分子整体的表面自由能变大。通常，分子整体的表面自由能大的含氟醚化合物容易诱发包含其的润滑层的沾污。因此，从润滑层的化学物质耐性的观点考虑，含氟醚化合物优选为分子整体的表面自由能小的含氟醚化合物。在d为1～3的整数的情况下，e优选为2～4的整数，最优选为2。 [0116] 在‑[B]‑[A]‑表示的连接基团中，式(3‑1)中的c与式(3‑2)中的d的合计为1～3。由于c与d的合计为1以上，因此，能够利用‑[B]‑[A]‑表示的连接基团所具有的羟基对保护层的吸附力而形成与保护层的密合性优异的润滑层。由于c与d的合计为3以下，因此，能够充分地确保含氟醚化合物分子中的氟原子的比例。c与d的合计优选为1或2，可根据‑[C]‑[D]‑3 R中所含的羟基的数量等而适宜地确定。 [0117] (R1表示的末端基团) [0118] 式(1)中，R1表示的末端基团中所含的羟基的数量为0或1。R1为包含酰胺键的羰基1 碳原子或氮原子与芳香族烃直接键合而成的基团的碳原子数7～18的有机基团。R中，构成酰胺键的羰基碳原子和氮原子中的任一者均可以与芳香族烃基直接键合。 [0119] 通常，已知直接键合于芳香族烃基的酰胺键与芳香族烃基形成同一平面从而稳定1 化。因此，式(1)中的R由于酰胺键与芳香族烃基形成同一平面而具有键的自由旋转被抑制 1 的刚直结构。因此，推测式(1)中的R容易吸附于保护层。由此，包含本实施方式的含氟醚化合物的润滑层中，含氟醚化合物分子的一部分不易从保护层表面浮起，成为与保护层的密合性良好的润滑层。 [0120] 与此相对，在具有酰胺键的羰基碳原子或氮原子与芳香族烃基不直接键合、而作为连接基团的亚甲基(‑CH2‑)介在于酰胺键的羰基碳原子或氮原子与芳香族烃基之间的有1 机基团来代替式(1)中的R作为末端基团的情况下，含有含氟醚化合物的润滑层变得难以吸附于保护层。推测这是因为，末端基团在由亚甲基构成的键合部位弯曲，酰胺键与芳香族烃基不形成同一平面。 [0121] 另外，在具有含有酰胺键的链状有机基团来代替式(1)中的R1作为末端基团的情况下，含有含氟醚化合物的润滑层也变得难以吸附于保护层。推测这是因为，末端基团所具1 有的链状有机基团的键合的自由度高，因此不能形成式(1)中的R那样的平面结构。 [0122] 式(1)中的R1中所含的酰胺键的数量没有特别限定，可以为1个，也可以为2个以1 1 上。从含氟醚化合物的合成的容易性的观点考虑，R中所含的酰胺键的数量优选为1个。在R 1 所具有的芳香族烃基上直接键合有多个酰胺键的羰基碳原子或氮原子的情况下，R中所含的优选的酰胺键的数量为2个。 [0123] 从含氟醚化合物在溶剂中的溶解性的观点考虑，式(1)中的R1中所含的芳香族烃基优选为苯环或萘环，更优选为苯环。在芳香族烃基为苯环或萘环的情况下，与具有3个以上的环稠合而成的多环芳香族烃基的含氟醚化合物相比，在溶剂中的溶解性良好，因此，包含其的润滑剂的涂布变得容易。 [0124] 式(1)中的R1中所含的碳原子数的合计为7～18，为了能够抑制含氟醚化合物分子中的氟原子的比例降低，优选为7～15，更优选为7～13。 [0125] 式(1)中，从含氟醚化合物对保护层的密合性的观点考虑，R1优选为下述式(5‑1)1 ～(5‑5)表示的任一结构，从含氟醚化合物在溶剂中的溶解性的观点考虑，R 更优选为式(5‑1)、式(5‑4)及式(5‑5)表示的任一结构，从酰胺键与芳香族烃基容易形成同一平面的方 1 面考虑，R特别优选为式(5‑1)表示的结构。 [0126] [0127] (式(5‑1)～(5‑3)中，X2为1种或2种以上的式(6‑1)或(6‑2)表示的基团。)[0128] (式(5‑4)及(5‑5)中，Y5为氢原子或碳原子数1～6的烷基；L表示1～6的整数；Z为选自氢原子、碳原子数1～6的烷基、碳原子数1～6的烷氧基、式(6‑1)或(6‑2)表示的基团中的任意1种或2种以上。) [0129] [0130] (式(6‑1)中，Y1及Y2各自独立地为氢原子、碳原子数1～7的烷基、Y1与Y2彼此键合而成的环状结构中的任一者；式(6‑1)中所含的碳原子数的合计为1～8。) [0131] (式(6‑2)中，Y3为碳原子数1～7的烷基，Y4为氢原子或碳原子数1～6的烷基；也可3 4 以是Y与Y彼此键合而成的环状结构；式(6‑2)中所含的碳原子数的合计为2～8。) [0132] 式(5‑1)、(5‑4)及(5‑5)中，键合于苯环的取代基的位置没有特别限定。例如，在式2 (5‑1)中的X 为1个的情况下，其位置关系可以为邻、间、对中的任意关系。另外，在式(5‑4)及(5‑5)中的Z为1个的情况下，其位置关系可以为邻、间、对中的任意关系。 [0133] 式(5‑2)及(5‑3)中，键合于萘环的取代基的位置没有特别限定，可以选择全部的组合。 [0134] 式(6‑1)中，Y1及Y2各自独立地为氢原子、碳原子数1～7的烷基、Y1与Y2彼此键合而成的环状结构中的任一者。 [0135] 碳原子数1～7的烷基可以为直链，也可以具有支链。具体而言，作为碳原子数1～7的烷基，可举出甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、仲丁基、异丁基、叔丁基、正戊基及其结构异构体、正己基及其结构异构体、正庚基及其结构异构体。 [0136] 从吸附于保护层时的空间位阻的观点考虑，Y1和/或Y2优选为选自氢原子、甲基、乙1 2 1 2 基、正丙基中的任一者，更优选Y 及Y 中的至少一者为氢原子，最优选Y 及Y这两者均为氢 1 2 1 原子。若Y及Y 中的一者为氢原子，则R 中所含的‑NH‑基会吸附于保护层，由此成为能够形 1 2 成对于保护层的密合性更良好的润滑层的含氟醚化合物。另外，在Y及Y这两者均为氢原子 1 2 1 的情况下，吸附于保护层时的由Y及Y产生的空间位阻变得最小，R中所含的‑NH2基吸附于保护层。由此，成为能够形成对于保护层的密合性更良好的润滑层的含氟醚化合物。 [0137] 在式(6‑1)中的Y1与Y2彼此键合而形成环状结构的情况下，优选为仅由构成酰胺键的氮原子和亚甲基(‑CH2‑)所构成的环状结构、或者由构成酰胺键的氮原子和亚甲基(‑CH2‑)与醚键(‑O‑)的组合所构成的环状结构。从式(6‑1)中所含的酰胺键(‑C(＝O)‑N‑)的1 2 化学稳定性的观点考虑，Y与Y彼此键合而形成的环状结构优选为五元环或六元环。 [0138] 式(6‑1)中所含的碳原子数的合计为1～8，从吸附于保护层时的空间位阻的观点考虑，优选为1～5，更优选为1～3。 [0139] 式(6‑2)中，Y3为碳原子数1～7的烷基。碳原子数1～7的烷基可以为直链，也可以3 具有支链。从吸附于保护层时的空间位阻的观点考虑，Y优选为选自甲基、乙基、正丙基、异丙基中的任一者，更优选为甲基。 [0140] 式(6‑2)中，Y4为氢原子或碳原子数1～6的烷基。碳原子数1～6的烷基可以为直4 链，也可以具有支链。从吸附于保护层时的空间位阻的观点考虑，Y优选为选自氢原子、甲 4 1 基、乙基中的任一者，更优选为氢原子或甲基，最优选为氢原子。若Y为氢原子，则R中所含的‑NH‑基会吸附于保护层，由此成为能够形成对于保护层的密合性更良好的润滑层的含氟醚化合物。 [0141] 式(6‑2)中的Y3与Y4也可以为彼此键合而成的环状结构。Y3与Y4彼此键合而形成的环状结构优选为仅由酰胺键(‑C(＝O)‑N‑)和亚甲基(‑CH2‑)构成的环状结构。从式(6‑2)中3 4 所含的酰胺键的化学稳定性的观点考虑，Y与Y 彼此键合而形成的环状结构优选为五元环或六元环。 [0142] 式(6‑2)中所含的碳原子数的合计为2～8，从吸附于保护层时的空间位阻的观点考虑，优选为2～5，更优选为2～3。 [0143] 式(5‑4)及(5‑5)中，Y5为氢原子或碳原子数1～6的烷基。碳原子数1～6的烷基可5 以为直链，也可以具有支链。从吸附于保护层时的空间位阻的观点考虑，Y优选为选自氢原 5 1 子、甲基、乙基中的任一者，更优选为氢原子或甲基，最优选为氢原子。若Y为氢原子，则R 中所含的‑NH‑基会吸附于保护层，由此成为能够形成对于保护层的密合性更良好的润滑层的含氟醚化合物。 [0144] 式(5‑4)及(5‑5)中，L表示1～6的整数。若L为6以下的整数，则含氟醚化合物分子中的氟原子的比例降低，能够抑制分子整体的表面自由能变大。从能够有效地抑制分子整体的表面自由能变大的方面考虑，L更优选为3以下的整数。另外，从含氟醚化合物的稳定性的观点考虑，L优选为2以上的整数。为了能够抑制分子整体的表面自由能变大、并且成为稳定性良好的含氟醚化合物，L最优选为2或3。 [0145] 式(5‑4)及(5‑5)中，Z为选自氢原子、碳原子数1～6的烷基、碳原子数1～6的烷氧基、式(6‑1)或(6‑2)表示的基团中的任意1种或2种以上，优选为选自上述基团中的任意1种。碳原子数1～6的烷基及碳原子数1～6的烷氧基可以为直链，也可以具有支链。 [0146] Z优选为选自氢原子、碳原子数1～3的烷基、碳原子数1～3的烷氧基中的任意1种，更优选为选自氢原子、甲基、甲氧基中的任意1种。若Z为选自氢原子、甲基、甲氧基中的任意1种，则含氟醚化合物分子中的氟原子的比例降低，能够抑制分子整体的表面自由能变大。 [0147] 式(5‑4)或(5‑5)中所含的碳原子数的合计为8～18，为了能够抑制含氟醚化合物分子中的氟原子的比例降低，优选为8～15，更优选为8～13。 [0148] 具体而言，R1表示的末端基团优选为下述式(10‑1)～(10‑34)中的任一者，为了通1 过使R中所含的‑NH‑基或‑NH2基吸附于保护层而成为能够形成对于保护层的密合性更良好的润滑层的含氟醚化合物，更优选为下述式(10‑1)～(10‑4)、(10‑10)～(10‑14)、(10‑16)～(10‑19)、(10‑21)、(10‑22)、(10‑25)～(10‑27)、(10‑29)、(10‑31)～(10‑34)中的任一者，尤其是为了能够抑制含氟醚化合物分子中的氟原子的比例降低，优选为式(10‑1)或式(10‑12)。 [0149] [0150] [0151] [0152] [0153] (‑[C]‑[D]‑表示的连接基团) [0154] 在式(1)表示的本实施方式的含氟醚化合物中，‑[C]‑[D]‑为二价连接基团。式(1)中[C]与[D]可以互换。[C]由上述式(4‑1)表示，[D]由上述式(4‑2)表示。式(4‑1)中的f及式(4‑2)中的g为0～3的整数。 [0155] 对于‑[C]‑[D]‑表示的连接基团而言，从原料获得及合成的容易性的观点考虑，优选式(4‑1)中的f为1且式(4‑2)中的g为0的组合、或上述f为0且上述g为1的组合。 [0156] 另外，对于‑[C]‑[D]‑表示的连接基团而言，从与保护层的密合性的观点考虑，优选上述f为2且上述g为0的组合、或上述f为1且上述g为1的组合。在上述f为2且上述g为0的情况下，在含氟醚化合物中，式(4‑1)所具有的2个羟基的配置方向相对于PFPE链的延伸方向而言在立体上为相同方向，可观察到式(4‑1)所具有的2个羟基变得容易吸附于保护层的2 倾向。另外，在上述f及上述g为1并且[C]与[D]的键合顺序从R 侧起为‑[D]‑[C]‑的情况下，‑[D]‑[C]‑表示的连接基团中所含的羟基彼此之间的距离变得更远。因此，能够减小式(1)表示的含氟醚化合物的分子内氢键，提高其与保护层的密合性。 [0157] 式(4‑2)中的h为2～5的整数。由于h为2以上，因此，在[C]与[D]的键合顺序从R2侧起为‑[D]‑[C]‑的情况下，能够减小[D]中所含的羟基彼此形成的分子内氢键、以及[D]中所含的羟基和与[D]相邻的[C]中所含的羟基形成的分子内氢键。由于h为5以下，因此，含氟醚化合物分子中的氟原子的比例降低，能够抑制分子整体的表面自由能变大。在g为1～3的整数的情况下，h优选为2～4的整数，最优选为2。 [0158] 在‑[C]‑[D]‑表示的连接基团中，式(4‑1)中的f与式(4‑2)中的g的合计为1～3。由于f与g的合计为1以上，因此，能够利用‑[C]‑[D]‑表示的连接基团所具有的羟基对保护层的吸附力而形成与保护层的密合性优异的润滑层。由于f与g的合计为3以下，因此，能够充1 分地确保含氟醚化合物分子中的氟原子的比例。f与g的合计优选为1或2，可根据R ‑[B]‑[A]‑中所含的羟基的数量等而适宜地确定。 [0159] (R3表示的末端基团) [0160] 式(1)中，R3表示的末端基团中所含的羟基的数量为0或1。R3由上述式(2)表示。式(2)中的a表示2～6的整数，b表示0或1。 [0161] 在式(2)中的b为0的情况下，含氟醚化合物分子中的氟原子的比例降低，能够有效地抑制分子整体的表面自由能变大。 [0162] 在式(2)中的b为1、并且X1为包含酰胺键的羰基碳原子或氮原子与芳香族烃直接键合而成的基团的碳原子数7～18的有机基团的情况下，式(2)中所含的醚键向式(1)表示的含氟醚化合物赋予柔软性，因此变得更容易吸附于保护层。 [0163] 在式(2)中的b为1、并且X1为氢原子的情况下，在R3表示的末端基团的最末端(‑3 CH2OH)配置有伯羟基。与仲羟基相比，伯羟基对保护层的吸附力强。因此，包含在R表示的末端基团的最末端(‑CH2OH)配置有伯羟基的含氟醚化合物的润滑层中，含氟醚化合物分子的一部分不会从保护层表面浮起，对于保护层的密合性变得更良好。 [0164] 另外，在式(2)中的b为1的情况下，由于a为2～6的整数，因此，R3表示的末端基团变得化学稳定而不易分解。a优选为2～4的整数，更优选为2或3。若a为2或3，则含氟醚化合物分子中的氟原子的比例降低，能够抑制分子整体的表面自由能变大。 [0165] 式(2)中的X1为氢原子或者碳原子数7～18的有机基团，所述碳原子数7～18的有1 机基团包含酰胺键的羰基碳原子或氮原子与芳香族烃直接键合而成的基团。在X为包含酰胺键的羰基碳原子或氮原子与芳香族烃直接键合而成的基团的碳原子数7～18的有机基团 1 1 1 1 的情况下，作为X ，可以使用作为上述的R表示的末端基团而例示的基团。X与R可以相同，也可以不同。 [0166] 在式(2)中的X1为包含酰胺键的羰基碳原子或氮原子与芳香族烃直接键合而成的基团的碳原子数7～18的有机基团的情况下，式(1)表示的含氟醚化合物在分子的两个末端具有包含酰胺键的羰基碳原子或氮原子与芳香族烃直接键合而成的基团的有机基团。由此，式(1)表示的含氟醚化合物能够形成对于保护层的密合性更良好的润滑层。 [0167] 另外，在式(2)中的X1为包含酰胺键的羰基碳原子或氮原子与芳香族烃直接键合1 3 而成的基团的碳原子数7～18的有机基团的情况下，式(1)中的R‑[B]‑[A]‑与‑[C]‑[D]‑R 2 优选为相同的结构。换言之，在式(1)表示的含氟醚化合物中，R表示的PFPE链的两侧优选呈对称结构。这是因为，这样的含氟醚化合物能够容易地制造，制造成本廉价。在该情况下， 1 1 式(2)中的b为0，X与R相同。 [0168] 式(2)中的X1优选为氢原子。X1为氢原子的含氟醚化合物在溶剂中的溶解性良好。1 因此，包含其的润滑剂容易涂布于磁记录介质，因而优选。另外，在X 为氢原子的情况下，无 3 论b是0还是1，均在R表示的末端基团的最末端(‑CH2OH)配置有伯羟基。因此，含氟醚化合物的分子的一部分不会从保护层表面浮起，润滑层对于保护层的密合性变得更良好。 [0169] 但是，在式(1)表示的本实施方式的含氟醚化合物中，在[C]直接键合于R3的情况3 1 3 下，R不是氢原子(换言之，式(2)中的b为0且X为氢原子)。在[C]直接键合于R的情况下，式 1 (2)中的b为0并且X为包含酰胺键的羰基碳原子或氮原子与芳香族烃直接键合而成的基团 3 的碳原子数7～18的有机基团，或者，式(2)中的b为1。这是因为，在[C]直接键合于R的情况 3 下，若R为氢原子，则成为具有邻二醇结构(‑CH(OH)‑CH(OH)‑)的含氟醚化合物。如上所述，邻二醇结构所具有的相邻的两个羟基由于立体上的因素而不能同时吸附于保护层。因此，从磁头的上浮稳定性及化学物质耐性的观点考虑，包含具有邻二醇结构的含氟醚化合物的润滑层是不优选的。 [0170] 式(1)中的‑[C]‑[D]‑R3优选为下述式(7‑1)～(7‑3)中的任一者，为了成为能够形成对于保护层的密合性更良好的润滑层的含氟醚化合物，更优选为式(7‑1)。 [0171] [0172] (式(7‑1)中，i表示1或2，j表示1～5的整数。) [0173] (式(7‑2)中，k表示2～5的整数，t表示0或1，p表示1～5的整数。) [0174] (式(7‑3)中，q表示0或1，r表示1～5的整数，s表示1～4的整数。) [0175] 式(7‑1)～(7‑3)中，式(7‑1)中的i为1或2，式(7‑2)中的t为0或1，式(7‑3)中的q为3 0或1，因此‑[C]‑[D]‑所具有的羟基的数量合计为1或2，‑[C]‑[D]‑R 所具有的羟基的数量 3 为2或3。因此，‑[C]‑[D]‑R 为式(7‑1)～(7‑3)中的任一者的含氟醚化合物能够利用含氟醚化合物所具有的羟基对保护层的吸附力而形成对于保护层的密合性良好的润滑层。 [0176] 式(7‑1)中的j为1～5的整数，为了容易确保含氟醚化合物分子中的氟原子的比例，优选为1～3的整数，更优选为1或2。 [0177] 式(7‑2)中的k为2～5的整数，为了容易确保含氟醚化合物分子中的氟原子的比例，优选为2或3，更优选为2。另外，式(7‑2)中的p为1～5的整数，为了容易确保含氟醚化合物分子中的氟原子的比例，优选为1～3的整数，更优选为1或2。 [0178] 式(7‑3)中的r为1～5的整数，为了容易确保含氟醚化合物分子中的氟原子的比例，优选为1～3的整数，更优选为1或2。式(7‑3)中的s为1～4的整数，为了容易确保含氟醚化合物分子中的氟原子的比例，优选为1～3的整数，更优选为1或2。 [0179] 在式(1)表示的本实施方式的含氟醚化合物中，分子中所含的羟基的数量为3以上。因此，含有含氟醚化合物的润滑层可利用含氟醚化合物中的羟基对保护层的吸附力而充分获得与保护层的密合性。另外，该润滑层与保护层的密合性良好，因此表面的凹凸小，不易发生粘着及脱落。从抑制分子整体的表面自由能的观点考虑，含氟醚化合物的分子中所含的羟基的数量优选为3～5，更优选为3～4。 [0180] 具体而言，式(1)表示的含氟醚化合物优选为下述式(AA)～(BB)表示的化合物。需要说明的是，式(AA)～(BB)中所示的重复数为表示平均聚合度的值，因此不一定为整数。 [0181] 在式(1)表示的化合物为下述式(AA)～(BB)表示的任一种化合物的情况下，原料容易获得，并且成为能够形成不易发生粘着及脱落并且对于保护层的密合性及平滑性良好的润滑层的含氟醚化合物。 [0182] 下述式(AA)～(AD)表示的化合物中，R1均由具有式(5‑1)表示的结构的上述式(10‑1)表示，键合于苯环的取代基的位置关系为邻位。下述式(AA)～(AD)表示的化合物3 中，‑[B]‑[A]‑均由式(3‑1)表示，c为1，‑[C]‑[D]‑由式(4‑1)表示，f为1。R由上述式(2)表 1 示，a为2，b为1，X为氢原子。 [0183] 下述式(AA)表示的化合物中，R2是由上述式(8‑2)表示、并且u及v各自为1～30的2 PFPE链。下述式(AB)表示的化合物中，R 是由上述式(8‑2)表示、并且u为1～30且v为0的 2 PFPE链。下述式(AC)表示的化合物中，R 为上述式(8‑4)表示的PFPE链。下述式(AD)表示的 2 化合物中，R为上述式(8‑5)表示的PFPE链。 [0184] 下述式(AE)及式(AF)表示的化合物中，R1由具有式(5‑1)表示的结构的上述式1 1 (10‑1)表示。式(AE)中，键合于R的苯环的取代基的位置关系为间位，式(AF)中，键合于R 的 1 苯环的取代基的位置关系为对位。下述式(AG)表示的化合物中，R由具有式(5‑3)表示的结构的上述式(10‑11)表示。 [0185] 下述式(AE)～(AG)表示的化合物中，‑[B]‑[A]‑由式(3‑1)表示，c为1，‑[C]‑[D]‑3 1 2 由式(4‑1)表示，f为1。R由上述式(2)表示，a为2，b为1，X 为氢原子。R是由上述式(8‑2)表示、并且u及v各自为1～30的PFPE链。 [0186] 下述式(AH)～(AM)表示的化合物中，R1均具有式(5‑1)表示的结构，键合于R1的苯1 环的取代基的位置关系为对位。下述式(AH)表示的化合物中的R由上述式(10‑27)表示，下 1 1 述式(AI)表示的化合物中的R由上述式(10‑28)表示，下述式(AJ)表示的化合物中的R由上 1 述式(10‑8)表示，下述式(AK)表示的化合物中的R由上述式(10‑12)表示，下述式(AL)表示 1 1 的化合物中的R 由上述式(10‑29)表示，下述式(AM)表示的化合物中的R由上述式(10‑30)表示。 [0187] 下述式(AN)～(AR)表示的化合物中，R1均具有式(5‑4)表示的结构。下述式(AN)表1 1 示的化合物中的R由上述式(10‑18)表示，下述式(AO)表示的化合物中的R 由上述式(10‑ 1 31)表示，下述式(AP)表示的化合物中的R 由上述式(10‑32)表示，下述式(AQ)表示的化合 1 1 物中的R由上述式(10‑33)表示，下述式(AR)表示的化合物中的R由上述式(10‑34)表示。 [0188] 下述式(AS)及式(AT)表示的化合物中，R1具有式(5‑5)表示的结构。下述式(AS)表1 1 示的化合物中的R由上述式(10‑21)表示，下述式(AT)表示的化合物中的R 由上述式(10‑ 23)表示。 [0189] 下述式(AH)～(AT)表示的化合物中，‑[B]‑[A]‑均由式(3‑1)表示，c为1，‑[C]‑3 1 2 [D]‑由式(4‑1)表示，f为1。R由上述式(2)表示，a为2，b为1，X为氢原子。R 是由上述式(8‑ 2)表示、并且u及v各自为1～30的PFPE链。 [0190] 下述式(AU)～(AZ)表示的化合物中，R1均由具有式(5‑1)表示的结构的上述式2 (10‑1)表示，键合于苯环的取代基的位置关系为邻位，R 是由上述式(8‑2)表示、并且u及v各自为1～30的PFPE链。 [0191] 下述式(AU)表示的化合物中，‑[B]‑[A]‑由式(3‑1)表示，c为1，‑[C]‑[D]‑由式(4‑3 1 1)表示，f为1。R由上述式(2)表示，a为6，b为1，X为氢原子。 [0192] 下述式(AV)表示的化合物中，‑[B]‑[A]‑由式(3‑1)表示，c为1，‑[C]‑[D]‑由式(4‑3 1 1)表示，f为2。R由上述式(2)表示，a为2，b为1，X为氢原子。 [0193] 下述式(AW)表示的化合物中，‑[B]‑[A]‑由式(3‑1)表示，c为2，‑[C]‑[D]‑由式(4‑3 1 1)表示，f为1。R由上述式(2)表示，a为2，b为1，X为氢原子。 [0194] 下述式(AX)表示的化合物中，‑[B]‑[A]‑由式(3‑1)表示，c为2，‑[C]‑[D]‑由式(4‑3 1 2)表示，g为1，h为2。R由上述式(2)表示，b为0，X为氢原子。 [0195] 下述式(AY)表示的化合物中，‑[B]‑[A]‑由式(3‑1)表示，c为1。‑[C]‑[D]‑由式(4‑2 3 1)及式(4‑2)表示，f为1，g为1，h为5。[C]与[D]的键合顺序从R 侧起为‑[C]‑[D]‑。R由上述 1 式(2)表示，b为0，X为氢原子。 [0196] 下述式(AZ)表示的化合物中，‑[B]‑[A]‑由式(3‑1)表示，c为1。‑[C]‑[D]‑由式(4‑2 3 1)及式(4‑2)表示，f为1，g为1，h为2。[C]与[D]的键合顺序从R 侧起为‑[D]‑[C]‑。R由上述 1 式(2)表示，a为2，b为1，X为氢原子。 [0197] 下述式(BA)及式(BB)表示的化合物中，R1均由具有式(5‑1)表示的结构的上述式2 (10‑12)表示，键合于苯环的取代基的位置关系为对位。R 为上述式(8‑4)表示的PFPE链。‑ 3 1 1 [C]‑[D]‑由式(4‑1)表示，f为2。R由上述式(2)表示，b为0，X与R相同。 [0198] 下述式(BA)表示的化合物中，‑[B]‑[A]‑由式(3‑1)表示，c为1。下述式(BB)表示的化合物中，‑[B]‑[A]‑由式(3‑1)表示，c为2。 [0199] [0200] (式(AA)中的maa、naa表示平均聚合度，各自表示1～30。) [0201] (式(AB)中的nab表示平均聚合度，并且表示1～30。) [0202] (式(AC)中的nac表示平均聚合度，并且表示1～30。) [0203] (式(AD)中的nad表示平均聚合度，并且表示1～30。) [0204] [0205] (式(AE)中的mae、nae表示平均聚合度，各自表示1～30。) [0206] (式(AF)中的maf、naf表示平均聚合度，各自表示1～30。) [0207] (式(AG)中的mag、nag表示平均聚合度，各自表示1～30。) [0208] (式(AH)中的mah、nah表示平均聚合度，各自表示1～30。) [0209] [0210] (式(AI)中的mai、nai表示平均聚合度，各自表示1～30。) [0211] (式(AJ)中的maj、naj表示平均聚合度，各自表示1～30。) [0212] (式(AK)中的mak、nak表示平均聚合度，各自表示1～30。) [0213] (式(AL)中的mal、nal表示平均聚合度，各自表示1～30。) [0214] [0215] (式(AM)中的mam、nam表示平均聚合度，各自表示1～30。) [0216] (式(AN)中的man、nan表示平均聚合度，各自表示1～30。) [0217] (式(AO)中的maο、naο表示平均聚合度，各自表示1～30。) [0218] (式(AP)中的map、nap表示平均聚合度，各自表示1～30。) [0219] [0220] (式(AQ)中的maq、naq表示平均聚合度，各自表示1～30。) [0221] (式(AR)中的mar、nar表示平均聚合度，各自表示1～30。) [0222] (式(AS)中的mas、nas表示平均聚合度，各自表示1～30。) [0223] (式(AT)中的mat、nat表示平均聚合度，各自表示1～30。) [0224] [0225] (式(AU)中的mau、nau表示平均聚合度，各自表示1～30。) [0226] (式(AV)中的mav、nav表示平均聚合度，各自表示1～30。) [0227] (式(AW)中的maw、naw表示平均聚合度，各自表示1～30。) [0228] (式(AX)中的max、nax表示平均聚合度，各自表示1～30。) [0229] [0230] (式(AY)中的may、nay表示平均聚合度，各自表示1～30。) [0231] (式(AZ)中的maz、naz表示平均聚合度，各自表示1～30。) [0232] (式(BA)中的nba表示平均聚合度，并且表示1～30。) [0233] (式(BB)中的nbb表示平均聚合度，并且表示1～30。) [0234] 本实施方式的含氟醚化合物的数均分子量(Mn)优选在500～10000的范围内，更优选在700～7000的范围内，特别优选在800～4000的范围内。 [0235] 若数均分子量为500以上，则包含本实施方式的含氟醚化合物的润滑剂变得不易蒸腾。因此，若数均分子量为500以上，则成为能够形成不易发生粘着及脱落的润滑层的含氟醚化合物。另外，若数均分子量为10000以下，则含氟醚化合物的粘度不会变得过高，成为适合作为润滑剂的粘度。为了在应用于润滑剂的情况下成为容易操作的粘度，含氟醚化合物的数均分子量更优选为4000以下。 [0236] 从成为PFPE链的原料的获得容易性考虑，本实施方式的含氟醚化合物的数均分子量更优选在1000～3000的范围内。另外，包含数均分子量在1000～3000的范围内的含氟醚化合物的润滑层即使膜厚较薄，被覆率也不会恶化，成为化学物质耐性及耐磨损性良好的润滑层。就数均分子量在1000～3000的范围内的含氟醚化合物而言，从抑制包含其的润滑层中的粘着及脱落、以及润滑层的薄膜化的观点考虑，性能的均衡性最良好。 [0237] 本实施方式的含氟醚化合物中，R2表示的PFPE链的数均分子量相对于分子整体的数均分子量之比(PFPE链/分子整体)优选为0.45～0.90，更优选为0.55～0.85。若上述的数均分子量之比为0.45以上，则含氟醚化合物分子中的氟原子的比例降低，能够抑制分子整体的表面自由能变大。另外，若上述的数均分子量之比为0.90以下，则相对于PFPE链的长度1 3 而言，在PFPE链的两个末端分别配置的R ‑[B]‑[A]‑及‑[C]‑[D]‑R中所含的羟基的数量变得适当。因此，成为能够形成与保护层的密合性更良好的润滑层的含氟醚化合物。 [0238] “制造方法” [0239] 本实施方式的含氟醚化合物的制造方法没有特别限定，可以采用以往已知的制造方法来制造。本实施方式的含氟醚化合物例如可以采用以下所示的制造方法来制造。 [0240] 首先，准备具有对应于式(1)中的R2的PFPE链、并且在分子的两个末端分别配置有羟基甲基(‑CH2OH)的氟系化合物。 [0241] 接着，将配置于上述氟系化合物的一个末端的羟基甲基的羟基置换成式(1)中的1 由R‑[B]‑[A]‑构成的基团(第1反应)。然后，将配置于另一个末端的羟基甲基的羟基置换 3 成式(1)中的由‑[C]‑[D]‑R构成的基团(第2反应)。 [0242] 第1反应及第2反应可以采用以往已知的方法来进行，可以根据式(1)中的末端基团的种类等而适宜地确定。另外，可以先进行第1反应和第2反应中的任一个反应。 [0243] 通过以上的方法，可得到式(1)表示的含氟醚化合物。 [0244] [磁记录介质用润滑剂] [0245] 本实施方式的磁记录介质用润滑剂包含式(1)表示的含氟醚化合物。 [0246] 对于本实施方式的润滑剂而言，只要在不损害由于包含式(1)表示的含氟醚化合物而带来的特性的范围内，则可以根据需要将被用作润滑剂的材料的已知材料混合而使用。 [0247] 作为已知材料的具体例，可举出例如，FOMBLIN(注册商标)ZDIAC、FOMBLIN ZDEAL、FOMBLIN AM‑2001(以上为Solvay Solexis社制)、Moresco A20H(Moresco社制)等。与本实施方式的润滑剂混合使用的已知材料优选为数均分子量为1000～10000的材料。 [0248] 在本实施方式的润滑剂包含除式(1)表示的含氟醚化合物以外的材料的情况下，润滑剂中的式(1)表示的含氟醚化合物的含量优选为50质量％以上，更优选为70质量％以上。润滑剂中的式(1)表示的含氟醚化合物的含量可以为80质量％以上，也可以为90质量％以上。 [0249] 本实施方式的润滑剂由于包含式(1)表示的含氟醚化合物，因此可以形成与保护层的密合性及平滑性良好、并且能够抑制粘着及脱落的润滑层。 [0250] [磁记录介质] [0251] 本实施方式的磁记录介质是在基板上至少依次设置有磁性层、保护层和润滑层的磁记录介质。 [0252] 在本实施方式的磁记录介质中，可以根据需要在基板与磁性层之间设置1层或2层以上的基底层。另外，也可以在基底层与基板之间设置附着层和/或软磁性层。 [0253] 图1为示出本发明的磁记录介质的一个实施方式的概略截面图。 [0254] 本实施方式的磁记录介质10形成了在基板11上依次设置有附着层12、软磁性层13、第1基底层14、第2基底层15、磁性层16、保护层17和润滑层18的结构。 [0255] “基板” [0257] 另外，作为基板11，可以使用由玻璃、陶瓷、硅、碳化硅、碳、树脂等非金属材料制成的非磁性基板，也可以使用在由这些非金属材料制成的基体上形成NiP或NiP合金的膜而得到的非磁性基板。 [0258] 玻璃基板具有刚性，并且平滑性优异，因此适合于高记录密度化。作为玻璃基板，可举出例如铝硅酸盐玻璃基板。作为玻璃基板，经化学增强的铝硅酸盐玻璃基板是特别合适的。 [0259] 基板11的主表面的粗糙度优选为超平滑，即，Rmax为6nm以下，以及Ra为0.6nm以下。在此所谓的表面粗糙度Rmax、Ra是基于JIS B0601的规定的粗糙度。 [0260] “附着层” [0261] 附着层12防止在将基板11与要设置于附着层12上的软磁性层13以相接的方式配置时发生的、基板11的腐蚀的进行。 [0263] “软磁性层” [0264] 软磁性层13优选具有第1软磁性膜、由Ru膜制成的中间层和第2软磁性膜依次层叠而成的结构。即，软磁性层13优选具有通过在2层软磁性膜之间夹入由Ru膜制成的中间层而使中间层的上下的软磁性膜进行了反铁磁耦合(AFC)结合的结构。 [0265] 作为第1软磁性膜及第2软磁性膜的材料，可举出CoZrTa合金、CoFe合金等。 [0266] 优选在第1软磁性膜及第2软磁性膜所使用的CoFe合金中添加Zr、Ta、Nb中的任一者。由此，可促进第1软磁性膜及第2软磁性膜的非晶质化。其结果是，能提高第1基底层(籽晶层)的取向性，并且能降低磁头的上浮量。 [0267] 软磁性层13例如可以利用溅射法形成。 [0268] “第1基底层” [0269] 第1基底层14是用于对在其上设置的第2基底层15及磁性层16的取向及结晶尺寸进行控制的层。 [0270] 作为第1基底层14，可举出例如由Cr层、Ta层、Ru层或者CrMo合金层、CoW合金层、CrW合金层、CrV合金层、CrTi合金层等构成的基底层。 [0271] 第1基底层14例如可以利用溅射法形成。 [0272] “第2基底层” [0273] 第2基底层15是以磁性层16的取向变良好的方式进行控制的层。第2基底层15优选为由Ru或Ru合金制成的层。 [0274] 第2基底层15可以为由1层构成的层，也可以由多层构成。在第2基底层15由多层构成的情况下，可以是全部层由相同的材料构成，也可以是至少一层由不同的材料构成。 [0275] 第2基底层15例如可以利用溅射法形成。 [0276] “磁性层” [0277] 磁性层16由易磁化轴相对于基板面朝向垂直或水平方向的磁性膜制成。磁性层16为包含Co和Pt的层。磁性层16也可以是为了改善SNR(Signal to Noise Ratio(信噪比))特性而包含氧化物、Cr、B、Cu、Ta、Zr等的层。 [0278] 作为磁性层16中所含的氧化物，可举出SiO2、SiO、Cr2O3、CoO、Ta2O3、TiO2等。 [0279] 磁性层16可以由1层构成，也可以由包含组成不同的材料的多个磁性层构成。 [0280] 例如，在磁性层16由从下方起依次层叠的第1磁性层、第2磁性层和第3磁性层这3层构成的情况下，第1磁性层优选为由包含Co、Cr、Pt并且还包含氧化物的材料形成的粒状结构。作为第1磁性层中所含的氧化物，优选使用例如，Cr、Si、Ta、Al、Ti、Mg、Co等的氧化物。其中，可以特别合适地使用TiO2、Cr2O3、SiO2等。另外，第1磁性层优选由添加有2种以上氧化物的复合氧化物制成。其中，可以特别合适地使用Cr2O3‑SiO2、Cr2O3‑TiO2、SiO2‑TiO2等。 [0281] 第1磁性层可以除了Co、Cr、Pt、氧化物以外还包含选自B、Ta、Mo、Cu、Nd、W、Nb、Sm、Tb、Ru、Re中的1种以上元素。 [0282] 在第2磁性层中，可以使用与第1磁性层同样的材料。第2磁性层优选为粒状结构。 [0283] 第3磁性层优选为由包含Co、Cr、Pt而不含氧化物的材料形成的非粒状结构。第3磁性层可以除了Co、Cr、Pt以外还包含选自B、Ta、Mo、Cu、Nd、W、Nb、Sm、Tb、Ru、Re、Mn中的1种以上元素。 [0284] 在磁性层16由多个磁性层形成的情况下，优选在相邻的磁性层之间设置非磁性层。在磁性层16由第1磁性层、第2磁性层和第3磁性层这3层构成的情况下，优选在第1磁性层与第2磁性层之间、以及第2磁性层与第3磁性层之间设置非磁性层。 [0285] 设置于磁性层16的相邻的磁性层之间的非磁性层可以合适地使用例如，Ru、Ru合金、CoCr合金、CoCrX1合金(X1表示选自Pt、Ta、Zr、Re、Ru、Cu、Nb、Ni、Mn、Ge、Si、O、N、W、Mo、Ti、V、B中的1种或2种以上的元素。)等。 [0286] 在设置于磁性层16的相邻的磁性层之间的非磁性层中，优选使用包含氧化物、金属氮化物或金属碳化物的合金材料。具体而言，作为氧化物，可以使用例如，SiO2、Al2O3、Ta2O5、Cr2O3、MgO、Y2O3、TiO2等。作为金属氮化物，可以使用例如，AlN、Si3N4、TaN、CrN等。作为金属碳化物，可以使用例如，TaC、BC、SiC等。 [0287] 非磁性层例如可以利用溅射法形成。 [0288] 为了实现更高的记录密度，磁性层16优选为易磁化轴相对于基板面朝向垂直方向的垂直磁记录的磁性层。磁性层16也可以为面内磁记录的磁性层。 [0290] “保护层” [0291] 保护层17对磁性层16进行保护。保护层17可以由一层构成，也可以由多层构成。作为保护层17的材料，可举出碳、包含氮的碳、碳化硅等。 [0292] 作为保护层17，可以优选使用碳系保护层，特别优选为非晶碳保护层。若保护层17为碳系保护层，则与润滑层18中的含氟醚化合物中所含的极性基团(尤其是羟基)之间的相互作用进一步增高，因此优选。 [0293] 碳系保护层与润滑层18的附着力可以通过使碳系保护层为氢化碳和/或氮化碳并调节碳系保护层中的氢含量和/或氮含量来控制。碳系保护层中的氢含量在利用氢前向散射法(HFS)测定时优选为3原子％～20原子％。另外，碳系保护层中的氮含量在利用X射线光电子能谱法(XPS)测定时优选为4原子％～15原子％。 [0294] 碳系保护层中所含的氢和/或氮不需要均匀地包含于碳系保护层整体中。碳系保护层适合为例如组成倾斜层，即，在保护层17的润滑层18侧含有氮，在保护层17的磁性层16侧含有氢。在该情况下，磁性层16及润滑层18与碳系保护层的附着力进一步提高。这是因为，保护层17中的氮作为活性位点而发挥作用，促进与润滑层18的结合。碳系保护层中的氢或氮具有作为活性位点的作用。 [0295] 保护层17的膜厚优选为1nm～7nm。若保护层17的膜厚为1nm以上，则可充分获得作为保护层17的性能。若保护层17的膜厚为7nm以下，则从保护层17的薄膜化的观点考虑是优选的。 [0296] 作为保护层17的成膜方法，可以采用使用包含碳的靶材的溅射法、使用乙烯或甲苯等烃原料的CVD(化学蒸镀法)法、以及IBD(离子束蒸镀)法等。 [0297] 在形成碳系保护层作为保护层17的情况下，例如可以利用DC磁控溅射法进行成膜。尤其是在形成碳系保护层作为保护层17的情况下，优选利用等离子体CVD法将非晶碳保护层成膜。利用等离子体CVD法成膜而得到的非晶碳保护层的表面均匀，并且粗糙度小。 [0298] “润滑层” [0299] 润滑层18防止磁记录介质10的污染。另外，润滑层18降低在磁记录介质10上滑动的磁记录再生装置的磁头的摩擦力，提高磁记录介质10的耐久性。 [0300] 如图1所示的那样，润滑层18以相接触的方式形成于保护层17上。润滑层18包含上述的含氟醚化合物。 [0301] 在配置于润滑层18之下的保护层17为碳系保护层的情况下，润滑层18以特别高的结合力与保护层17结合。其结果是，容易得到即使润滑层18的厚度较薄、也以高被覆率将保护层17的表面被覆了的磁记录介质10，能够有效地防止磁记录介质10的表面的污染。 [0302] 润滑层18的平均膜厚优选为 更优选为若润滑层18的平均膜厚为0.5nm以上，则润滑层18不会成 为岛状或网眼状，而是以均匀的膜厚形成。因此，能够利用润滑层18以高被覆率被覆保护层 17的表面。另外，通过使润滑层18的平均膜厚为2.0nm以下，能够将润滑层18充分地薄膜化，能够充分地减小磁头的上浮量。 [0303] 在没有利用润滑层18以充分高的被覆率被覆保护层17的表面的情况下，吸附至磁记录介质10的表面的环境物质穿过润滑层18的间隙而侵入至润滑层18的下方。侵入至润滑层18的下层的环境物质吸附、结合于保护层17而生成污染物质。然后，在进行磁记录再生时，该污染物质(凝集成分)作为污渍而附着(转印)至磁头，使磁头破损或者使磁记录再生装置的磁记录再生特性降低。 [0304] 作为生成污染物质的环境物质，可举出例如，硅氧烷化合物(环状硅氧烷、直链硅氧烷)、离子性杂质、二十八烷等分子量较高的烃、邻苯二甲酸二辛酯等增塑剂等。作为离子性杂质中所含的金属离子，可以举出例如，钠离子、钾离子等。作为离子性杂质中所含的无机离子，可以举出例如，氯离子、溴离子、硝酸根离子、硫酸根离子、铵离子等。作为离子性杂质中所含的有机物离子，可以举出例如，草酸根离子、甲酸根离子等。 [0305] “润滑层的形成方法” [0306] 作为形成润滑层18的方法，可举出例如下述方法：准备在基板11上形成有到保护层17为止的各层的制造中途的磁记录介质，在保护层17上涂布润滑层形成用溶液，使其干燥。 [0307] 润滑层形成用溶液例如可通过根据需要使上述实施方式的磁记录介质用润滑剂分散溶解于溶剂并制成适合于涂布方法的粘度及浓度而得到。 [0308] 作为润滑层形成用溶液中使用的溶剂，可举出例如，バートレル(注册商标)XF(商品名，三井デュポンフロロケミカル社制)等氟系溶剂等。 [0310] 在采用浸渍法的情况下，例如可以采用以下所示的方法。首先，在装入到浸涂装置的浸渍槽中的润滑层形成用溶液中，浸渍已形成有到保护层17为止的各层的基板11。接着，以规定的速度从浸渍槽提起基板11。由此，将润滑层形成用溶液涂布于基板11的保护层17上的表面。 [0311] 通过采用浸渍法，能够将润滑层形成用溶液均匀地涂布于保护层17的表面，能够在保护层17上以均匀的膜厚形成润滑层18。 [0313] 热处理温度优选设定为100℃～180℃。若热处理温度为100℃以上，则可充分获得提高润滑层18与保护层17的密合性的效果。另外，通过使热处理温度为180℃以下，能够防止由热处理导致的润滑层18的热分解。热处理时间优选设定为10分钟～120分钟。 [0314] 在本实施方式中，为了进一步提高润滑层18对于保护层17的附着力，可以对热处理前或热处理后的基板11的润滑层18进行照射紫外线(UV)的处理。 [0315] 本实施方式的磁记录介质10是在基板11上至少依次设置有磁性层16、保护层17和润滑层18的磁记录介质。在本实施方式的磁记录介质10中，在保护层17上以相接触的方式形成有包含上述含氟醚化合物的润滑层18。该润滑层18与保护层17的密合性及平滑性良好，能够抑制粘着及脱落。因此，本实施方式的磁记录介质10的磁头的上浮稳定性优异。 [0316] 另外，本实施方式的磁记录介质10由于具有不易产生粘着的润滑层18，因此能够实现磁间距的进一步降低。此外，本实施方式的磁记录介质10由于具有不易产生脱落的润滑层18，因此能够实现磁记录介质的旋转速度的高速化。由此，本实施方式的磁记录介质10能够有助于磁记录介质的记录密度的提高及大容量化。因此，本实施方式的磁记录介质10适合作为搭载于尤其是LUL方式(Load Unload(加载卸载)方式)的磁盘装置中的磁盘。 [0317] 与此相对，在以往的磁记录介质中，存在如下问题：润滑层对于保护层的密合性不充分，因此，若降低磁间距则容易产生粘着，若将磁记录介质的旋转速度高速化则容易产生脱落。因此，在以往的磁记录介质中，难以在维持可靠性及耐久性的同时降低磁间距或者使磁记录介质的旋转速度高速化。 [0318] 实施例 [0319] 以下，利用实施例及比较例来更具体地说明本发明。需要说明的是，本发明并不仅限定于以下实施例。 [0320] [核磁共振(NMR)测定方法] [0321] 以下的实施例及比较例中制得的各化合物的结构根据使用ブルカー·バイオス1 19 ピン社制的NMR装置(AVANCEIII‑400)进行H‑NMR测定及 F‑NMR测定而得到的结果进行了鉴定。 [0322] 在NMR测定中，称量约10mg试样，使用使其溶解于约0.5mL的氘代丙酮(添加六氟苯1 19 作为基准物质)中而得到的溶液。H‑NMR化学位移的基准是将丙酮的峰设为2.05ppm。F‑NMR化学位移的基准是将六氟苯的峰设为‑164.7ppm。 [0323] 各化合物的数均分子量(Mn)由19F‑NMR测定的结果算出。具体而言，由利用19F‑NMR测得的氟原子的积分强度算出PFPE链的重复单元数，针对各化合物求出PFPE链的数均分子量和分子整体的数均分子量，并且算出它们的比(PFPE比＝PFPE链Mn/分子整体Mn)。 [0324] [实施例1] [0325] 通过以下所示的方法得到上述式(AA)表示的化合物(AA)(式(AA)中，表示平均聚合度的maa为6.2，表示平均聚合度的naa为6.2。)。 [0326] 首先，使2‑羟基苯甲酰胺与表溴醇反应，合成了下述式(11‑1)表示的化合物。另外，使乙二醇单烯丙基醚与3,4‑二氢‑2H‑吡喃反应，利用四氢吡喃基对羟基进行保护后，使用间氯过氧苯甲酸将双键氧化，由此合成了下述式(12‑1)表示的化合物。 [0327] [0328] 在氮气气氛下，向200mL茄形瓶中投入HOCH2CF2O(CF2CF2O)u(CF2O)vCF2CH2OH(式中，表示平均聚合度的u为6.2，表示平均聚合度的v为6.2。)表示的氟聚醚(数均分子量为1300，分子量分布为1.1)(40.0g)、上述式(11‑1)表示的化合物(3.57g)、和t‑BuOH(叔丁醇)(40.0mL)，在室温下搅拌直至变得均匀。进一步，向上述茄形瓶中加入t‑BuOK(叔丁醇钾)(1.04g)，加热至70℃，搅拌12小时而使其进行了反应。 [0329] 然后，将所得到的反应产物冷却至25℃，加入水，进一步加入乙酸乙酯作为溶剂，对有机层进行萃取，并进行水洗。向有机层中加入无水硫酸钠，进行脱水，将干燥剂过滤分离后，对滤液进行浓缩。利用硅胶柱色谱对残余物进行纯化，得到下述式(13‑1)表示的化合物(18.4g)。 [0330] [0331] (式(13‑1)中，表示平均聚合度的maa为6.2，表示平均聚合度的naa为6.2。) [0332] 在氮气气氛下，向200mL茄形瓶中投入式(13‑1)表示的化合物(18.4g)、式(12‑1)表示的化合物(2.74g)、和t‑BuOH(叔丁醇)(65.0mL)，在室温下搅拌直至变得均匀。进一步，向上述茄形瓶中加入t‑BuOK(叔丁醇钾)(0.41g)，加热至70℃，搅拌16小时而使其进行了反应。 [0333] 然后，将所得到的反应产物冷却至25℃，加入7％氯化氢/甲醇试剂(64.1g)，在室温下搅拌3小时，进行了脱保护反应。 [0334] 将所得到的反应产物加入7％碳酸氢钠水溶液(250mL)中而进行了中和后，加入乙酸乙酯，对有机层进行萃取，并进行水洗。向有机层中加入无水硫酸钠，进行脱水，将干燥剂过滤分离后，对滤液进行浓缩。利用硅胶柱色谱对残余物进行纯化，得到13.9g化合物(AA)。 [0335] 进行所得到的化合物(AA)的1H‑NMR及19F‑NMR测定，根据以下结果对结构进行了鉴定。 [0336] 1H‑NMR(丙酮‑d6)：δ[ppm]＝3.40‑4.00(11H)，4.10‑4.80(10H)，6.50‑6.70(1H)，7.00‑8.10(5H) [0337] 19F‑NMR(丙酮‑d6)：δ[ppm]＝‑51.99～‑55.72(12.4F)，‑78.48(2F)，‑80.66(2F)，‑89.16～‑91.14(24.8F) [0338] [实施例2] [0339] 通过以下所示的方法得到上述式(AB)表示的化合物(AB)(式(AB)中，表示平均聚合度的nab为9.7。)。 [0340] 使用HOCH2CF2O(CF2CF2O)zCF2CH2OH(式中，表示平均聚合度的z为9.7。)表示的氟聚醚(数均分子量为1300，分子量分布为1.1)(40.0g)来代替实施例1中的HOCH2CF2O(CF2CF2O)u(CF2O)vCF2CH2OH(式中，表示平均聚合度的u为6.2，表示平均聚合度的v为6.2。)表示的氟聚醚(数均分子量为1300，分子量分布为1.1)，除此以外，进行与实施例1同样的操作，得到14.2g化合物(AB)。 [0341] 进行所得到的化合物(AB)的1H‑NMR及19F‑NMR测定，根据以下结果对结构进行了鉴定。 [0342] 1H‑NMR(丙酮‑d6)：δ[ppm]＝3.40‑4.00(11H)，4.10‑4.80(10H)，6.50‑6.70(1H)，7.00‑8.10(5H) [0343] 19F‑NMR(丙酮‑d6)：δ[ppm]＝‑78.57(4F)，‑88.92～‑89.57(38.8F) [0344] [实施例3] [0345] 通过以下所示的方法得到上述式(AC)表示的化合物(AC)(式(AC)中，表示平均聚合度的nac为6.2。)。 [0346] 使用HOCH2CF2CF2O(CF2CF2CF2O)xCF2CF2CH2OH(式中，表示平均聚合度的x为6.2。)表示的氟聚醚(数均分子量为1300，分子量分布为1.1)(40.0g)来代替实施例1中的HOCH2CF2O(CF2CF2O)u(CF2O)vCF2CH2OH(式中，表示平均聚合度的u为6.2，表示平均聚合度的v为6.2。)表示的氟聚醚(数均分子量为1300，分子量分布为1.1)，除此以外，进行与实施例1同样的操作，得到13.6g化合物(AC)。 [0347] 进行所得到的化合物(AC)的1H‑NMR及19F‑NMR测定，根据以下结果对结构进行了鉴定。 [0348] 1H‑NMR(丙酮‑d6)：δ[ppm]＝3.40‑4.00(11H)，4.10‑4.80(10H)，6.50‑6.70(1H)，7.00‑8.10(5H) [0349] 19F‑NMR(丙酮‑d6)：δ[ppm]＝‑84.22(24.8F)，‑86.40(4F)，‑124.30(4F)，‑130.08(12.4F) [0350] [实施例4] [0351] 通过以下所示的方法得到上述式(AD)表示的化合物(AD)(式(AD)中，表示平均聚合度的nad为4.3。)。 [0352] 使用HOCH2CF2CF2CF2O(CF2CF2CF2CF2O)yCF2CF2CF2CH2OH(式中，表示平均聚合度的y为4.3。)表示的氟聚醚(数均分子量为1300，分子量分布为1.1)(40.0g)来代替实施例1中的HOCH2CF2O(CF2CF2O)u(CF2O)vCF2CH2OH(式中，表示平均聚合度的u为6.2，表示平均聚合度的v为6.2。)表示的氟聚醚(数均分子量为1300，分子量分布为1.1)，除此以外，进行与实施例1同样的操作，得到14.2g化合物(AD)。 [0353] 进行所得到的化合物(AD)的1H‑NMR及19F‑NMR测定，根据以下结果对结构进行了鉴定。 [0354] 1H‑NMR(丙酮‑d6)：δ[ppm]＝3.40‑4.00(11H)，4.10‑4.80(10H)，6.50‑6.70(1H)，7.00‑8.10(5H) [0355] 19F‑NMR(丙酮‑d6)：δ[ppm]＝‑83.70(21.2F)，‑123.32(4F)，‑125.85(17.2F)，‑127.63(4F) [0356] [实施例5] [0357] 通过以下所示的方法得到上述式(AE)表示的化合物(AE)(式(AE)中，表示平均聚合度的mae为6.2，表示平均聚合度的nae为6.2。)。 [0358] 首先，使3‑羟基苯甲酰胺与表溴醇反应，合成了下述式(11‑2)表示的化合物。 [0359] [0360] 使用式(11‑2)表示的化合物(11‑2)(3.57g)来代替实施例1中所用的式(11‑1)表示的化合物(11‑1)，除此以外，进行与实施例1同样的操作，得到13.2g化合物(AE)。 [0361] 进行所得到的化合物(AE)的1H‑NMR及19F‑NMR测定，根据以下结果对结构进行了鉴定。 [0362] 1H‑NMR(丙酮‑d6)：δ[ppm]＝3.40‑4.00(11H)，4.10‑4.80(10H)，6.50‑6.70(1H)，7.00‑8.10(5H) [0363] 19F‑NMR(丙酮‑d6)：δ[ppm]＝‑51.99～‑55.72(12.4F)，‑78.48(2F)，‑80.66(2F)，‑89.16～‑91.14(24.8F) [0364] [实施例6] [0365] 通过以下所示的方法得到上述式(AF)表示的化合物(AF)(式(AF)中，表示平均聚合度的maf为6.2，表示平均聚合度的naf为6.2。)。 [0366] 首先，使4‑羟基苯甲酰胺与表溴醇反应，合成了下述式(11‑3)表示的化合物。 [0367] [0368] 使用式(11‑3)表示的化合物(11‑3)(3.57g)来代替实施例1中所用的式(11‑1)表示的化合物(11‑1)，除此以外，进行与实施例1同样的操作，得到14.5g化合物(AF)。 [0369] 进行所得到的化合物(AF)的1H‑NMR及19F‑NMR测定，根据以下结果对结构进行了鉴定。 [0370] 1H‑NMR(丙酮‑d6)：δ[ppm]＝3.40‑4.00(11H)，4.10‑4.80(10H)，6.50‑6.70(1H)，7.00‑8.10(5H) [0371] 19F‑NMR(丙酮‑d6)：δ[ppm]＝‑51.99～‑55.72(12.4F)，‑78.48(2F)，‑80.66(2F)，‑89.16～‑91.14(24.8F) [0372] [实施例7] [0373] 通过以下所示的方法得到上述式(AG)表示的化合物(AG)(式(AG)中，表示平均聚合度的mag为6.2，表示平均聚合度的nag为6.2。)。 [0374] 首先，使6‑羟基‑2‑萘甲酰胺与表溴醇反应，合成了下述式(11‑4)表示的化合物。 [0375] [0376] 使用式(11‑4)表示的化合物(11‑4)(4.49g)来代替实施例1中所用的式(11‑1)表示的化合物(11‑1)，除此以外，进行与实施例1同样的操作，得到14.3g化合物(AG)。 [0377] 进行所得到的化合物(AG)的1H‑NMR及19F‑NMR测定，根据以下结果对结构进行了鉴定。 [0378] 1H‑NMR(丙酮‑d6)：δ[ppm]＝3.40‑4.00(11H)，4.10‑4.80(10H)，6.50‑6.70(1H)，7.00‑8.10(7H) [0379] 19F‑NMR(丙酮‑d6)：δ[ppm]＝‑51.99～‑55.72(12.4F)，‑78.48(2F)，‑80.66(2F)，‑89.16～‑91.14(24.8F) [0380] [实施例8] [0381] 通过以下所示的方法得到上述式(AH)表示的化合物(AH)(式(AH)中，表示平均聚合度的mah为6.2，表示平均聚合度的nah为6.2。)。 [0382] 首先，使4‑羟基苯甲酸甲酯与庚基胺反应并使所得到的化合物与表溴醇进行反应，合成了下述式(11‑5)表示的化合物。 [0383] [0384] 使用式(11‑5)表示的化合物(11‑5)(5.38g)来代替实施例1中所用的式(11‑1)表示的化合物(11‑1)，除此以外，进行与实施例1同样的操作，得到14.7g化合物(AH)。 [0385] 进行所得到的化合物(AH)的1H‑NMR及19F‑NMR测定，根据以下结果对结构进行了鉴定。 [0386] 1H‑NMR(丙酮‑d6)：δ[ppm]＝0.95(3H)，1.20‑1.60(10H)，3.40‑4.00(13H)，4.10‑4.80(10H)，6.50‑6.70(1H)，7.00‑8.10(4H) [0387] 19F‑NMR(丙酮‑d6)：δ[ppm]＝‑51.99～‑55.72(12.4F)，‑78.48(2F)，‑80.66(2F)，‑89.16～‑91.14(24.8F) [0388] [实施例9] [0389] 通过以下所示的方法得到上述式(AI)表示的化合物(AI)(式(AI)中，表示平均聚合度的mai为6.2，表示平均聚合度的nai为6.2。)。 [0390] 首先，使4‑羟基苯甲酸甲酯与二丙基胺反应并使所得到的化合物与表溴醇进行反应，合成了下述式(11‑6)表示的化合物。 [0391] [0392] 使用式(11‑6)表示的化合物(11‑6)(5.12g)来代替实施例1中所用的式(11‑1)表示的化合物(11‑1)，除此以外，进行与实施例1同样的操作，得到14.6g化合物(AI)。 [0393] 进行所得到的化合物(AI)的1H‑NMR及19F‑NMR测定，根据以下结果对结构进行了鉴定。 [0394] 1H‑NMR(丙酮‑d6)：δ[ppm]＝0.98(6H)，1.41(4H)，3.40‑4.00(15H)，4.10‑4.80(10H)，7.00‑8.10(4H) [0395] 19F‑NMR(丙酮‑d6)：δ[ppm]＝‑51.99～‑55.72(12.4F)，‑78.48(2F)，‑80.66(2F)，‑89.16～‑91.14(24.8F) [0396] [实施例10] [0397] 通过以下所示的方法得到上述式(AJ)表示的化合物(AJ)(式(AJ)中，表示平均聚合度的maj为6.2，表示平均聚合度的naj为6.2。)。 [0398] 首先，使4‑(1‑哌啶基羰基)苯酚与表溴醇反应，合成了下述式(11‑7)表示的化合物。 [0399] [0400] 使用式(11‑7)表示的化合物(11‑7)(4.82g)来代替实施例1中所用的式(11‑1)表示的化合物(11‑1)，除此以外，进行与实施例1同样的操作，得到14.5g化合物(AJ)。 [0401] 进行所得到的化合物(AJ)的1H‑NMR及19F‑NMR测定，根据以下结果对结构进行了鉴定。 [0402] 1H‑NMR(丙酮‑d6)：δ[ppm]＝1.42(6H)，2.82‑3.25(4H)，3.40‑4.00(11H)，4.10‑4.80(10H)，7.00‑8.10(4H) [0403] 19F‑NMR(丙酮‑d6)：δ[ppm]＝‑51.99～‑55.72(12.4F)，‑78.48(2F)，‑80.66(2F)，‑89.16～‑91.14(24.8F) [0404] [实施例11] [0405] 通过以下所示的方法得到上述式(AK)表示的化合物(AK)(式(AK)中，表示平均聚合度的mak为6.2，表示平均聚合度的nak为6.2。)。 [0406] 首先，使4’‑羟基乙酰替苯胺与表溴醇反应，合成了下述式(11‑8)表示的化合物。 [0407] [0408] 使用式(11‑8)表示的化合物(11‑8)(3.83g)来代替实施例1中所用的式(11‑1)表示的化合物(11‑1)，除此以外，进行与实施例1同样的操作，得到14.0g化合物(AK)。 [0409] 进行所得到的化合物(AK)的1H‑NMR及19F‑NMR测定，根据以下结果对结构进行了鉴定。 [0410] 1H‑NMR(丙酮‑d6)：δ[ppm]＝2.09(3H)，3.40‑4.00(11H)，4.10‑4.80(10H)，6.50‑7.50(4H)，9.00(1H) [0411] 19F‑NMR(丙酮‑d6)：δ[ppm]＝‑51.99～‑55.72(12.4F)，‑78.48(2F)，‑80.66(2F)，‑89.16～‑91.14(24.8F) [0412] [实施例12] [0413] 通过以下所示的方法得到上述式(AL)表示的化合物(AL)(式(AL)中，表示平均聚合度的mal为6.2，表示平均聚合度的nal为6.2。)。 [0414] 首先，使4‑氨基苯酚与正辛酸反应并使所得到的化合物与表溴醇进行反应，合成了下述式(11‑9)表示的化合物。 [0415] [0416] 使用式(11‑9)表示的化合物(11‑9)(5.38g)来代替实施例1中所用的式(11‑1)表示的化合物(11‑1)，除此以外，进行与实施例1同样的操作，得到14.7g化合物(AL)。 [0417] 进行所得到的化合物(AL)的1H‑NMR及19F‑NMR测定，根据以下结果对结构进行了鉴定。 [0418] 1H‑NMR(丙酮‑d6)：δ[ppm]＝0.95(3H)，1.20‑1.60(10H)，3.40‑4.00(13H)，4.10‑4.80(10H)，6.50‑7.50(4H)，9.00(1H) [0419] 19F‑NMR(丙酮‑d6)：δ[ppm]＝‑51.99～‑55.72(12.4F)，‑78.48(2F)，‑80.66(2F)，‑89.16～‑91.14(24.8F) [0420] [实施例13] [0421] 通过以下所示的方法得到上述式(AM)表示的化合物(AM)(式(AM)中，表示平均聚合度的mam为6.2，表示平均聚合度的nam为6.2。)。 [0422] 首先，使4’‑羟基乙酰替苯胺与苄基溴反应，利用苄基对酚性羟基进行保护后，在氢化钠存在下使其与1‑溴己烷反应。利用氯化氢/甲醇试剂对所得到的化合物的苄基进行脱保护后，使其与表溴醇反应，合成了下述式(11‑10)表示的化合物。 [0423] [0424] 使用式(11‑10)表示的化合物(11‑10)(5.38g)来代替实施例1中所用的式(11‑1)表示的化合物(11‑1)，除此以外，进行与实施例1同样的操作，得到14.8g化合物(AM)。 [0425] 进行所得到的化合物(AM)的1H‑NMR及19F‑NMR测定，根据以下结果对结构进行了鉴定。 [0426] 1H‑NMR(丙酮‑d6)：δ[ppm]＝0.95(3H)，1.20‑1.60(8H)，2.09(3H)，3.40‑4.00(13H)，4.10‑4.80(10H)，6.50‑7.50(4H) [0427] 19F‑NMR(丙酮‑d6)：δ[ppm]＝‑51.99～‑55.72(12.4F)，‑78.48(2F)，‑80.66(2F)，‑89.16～‑91.14(24.8F) [0428] [实施例14] [0429] 通过以下所示的方法得到上述式(AN)表示的化合物(AN)(式(AN)中，表示平均聚合度的man为6.2，表示平均聚合度的nan为6.2。)。 [0430] 首先，使N‑(2‑羟基乙基)苯甲酰胺与表溴醇反应，合成了下述式(11‑11)表示的化合物。 [0431] [0432] 使用式(11‑11)表示的化合物(11‑11)(4.08g)来代替实施例1中所用的式(11‑1)表示的化合物(11‑1)，除此以外，进行与实施例1同样的操作，得到14.1g化合物(AN)。 [0433] 进行所得到的化合物(AN)的1H‑NMR及19F‑NMR测定，根据以下结果对结构进行了鉴定。 [0434] 1H‑NMR(丙酮‑d6)：δ[ppm]＝3.40‑4.00(15H)，4.10‑4.80(10H)，7.20‑8.00(5H)，8.50(1H) [0435] 19F‑NMR(丙酮‑d6)：δ[ppm]＝‑51.99～‑55.72(12.4F)，‑78.48(2F)，‑80.66(2F)，‑89.16～‑91.14(24.8F) [0436] [实施例15] [0437] 通过以下所示的方法得到上述式(AO)表示的化合物(AO)(式(AO)中，表示平均聚合度的mao为6.2，表示平均聚合度的nao为6.2。)。 [0438] 首先，使苯甲酸与6‑氨基‑1‑己醇反应并使所得到的化合物与表溴醇进行反应，合成了下述式(11‑12)表示的化合物。 [0439] [0440] 使用式(11‑12)表示的化合物(11‑12)(5.12g)来代替实施例1中所用的式(11‑1)表示的化合物(11‑1)，除此以外，进行与实施例1同样的操作，得到14.6g化合物(AO)。 [0441] 进行所得到的化合物(AO)的1H‑NMR及19F‑NMR测定，根据以下结果对结构进行了鉴定。 [0442] 1H‑NMR(丙酮‑d6)：δ[ppm]＝1.20‑1.40(8H)，3.40‑4.00(15H)，4.10‑4.80(10H)，7.20‑8.00(5H)，8.50(1H) [0443] 19F‑NMR(丙酮‑d6)：δ[ppm]＝‑51.99～‑55.72(12.4F)，‑78.48(2F)，‑80.66(2F)，‑89.16～‑91.14(24.8F) [0444] [实施例16] [0445] 通过以下所示的方法得到上述式(AP)表示的化合物(AP)(式(AP)中，表示平均聚合度的map为6.2，表示平均聚合度的nap为6.2。)。 [0446] 首先，使4‑己基苯甲酸与2‑氨基乙醇反应并使所得到的化合物与表溴醇进行反应，合成了下述式(11‑13)表示的化合物。 [0447] [0448] 使用式(11‑13)表示的化合物(11‑13)(5.64g)来代替实施例1中所用的式(11‑1)表示的化合物(11‑1)，除此以外，进行与实施例1同样的操作，得到14.9g化合物(AP)。 [0449] 进行所得到的化合物(AP)的1H‑NMR及19F‑NMR测定，根据以下结果对结构进行了鉴定。 [0450] 1H‑NMR(丙酮‑d6)：δ[ppm]＝0.86(3H)，1.18‑1.61(8H)，2.56(2H)3.40‑4.00(15H)，4.10‑4.80(10H)，7.20‑8.00(5H)，8.50(1H) [0451] 19F‑NMR(丙酮‑d6)：δ[ppm]＝‑51.99～‑55.72(12.4F)，‑78.48(2F)，‑80.66(2F)，‑89.16～‑91.14(24.8F) [0452] [实施例17] [0453] 通过以下所示的方法得到上述式(AQ)表示的化合物(AQ)(式(AQ)中，表示平均聚合度的maq为6.2，表示平均聚合度的naq为6.2。)。 [0454] 首先，使4‑己基氧基苯甲酸与2‑氨基乙醇反应并使所得到的化合物与表溴醇进行反应，合成了下述式(11‑14)表示的化合物。 [0455] [0456] 使用式(11‑14)表示的化合物(11‑14)(5.93g)来代替实施例1中所用的式(11‑1)表示的化合物(11‑1)，除此以外，进行与实施例1同样的操作，得到15.0g化合物(AQ)。 [0457] 进行所得到的化合物(AQ)的1H‑NMR及19F‑NMR测定，根据以下结果对结构进行了鉴定。 [0458] 1H‑NMR(丙酮‑d6)：δ[ppm]＝0.94(3H)，1.32‑1.61(8H)，3.40‑4.00(17H)，4.10‑4.80(10H)，7.20‑8.00(5H)，8.50(1H) [0459] 19F‑NMR(丙酮‑d6)：δ[ppm]＝‑51.99～‑55.72(12.4F)，‑78.48(2F)，‑80.66(2F)，‑89.16～‑91.14(24.8F) [0460] [实施例18] [0461] 通过以下所示的方法得到上述式(AR)表示的化合物(AR)(式(AR)中，表示平均聚合度的mar为6.2，表示平均聚合度的nar为6.2。)。 [0462] 首先，使对苯二甲酰胺酸与2‑氨基乙醇反应并使所得到的化合物与表溴醇进行反应，合成了下述式(11‑15)表示的化合物。 [0463] [0464] 使用式(11‑15)表示的化合物(11‑15)(4.88g)来代替实施例1中所用的式(11‑1)表示的化合物(11‑1)，除此以外，进行与实施例1同样的操作，得到14.5g化合物(AR)。 [0465] 进行所得到的化合物(AR)的1H‑NMR及19F‑NMR测定，根据以下结果对结构进行了鉴定。 [0466] 1H‑NMR(丙酮‑d6)：δ[ppm]＝3.40‑4.00(15H)，4.10‑4.80(10H)，6.50‑6.70(1H)，7.60‑8.70(5H)，8.50(1H) [0467] 19F‑NMR(丙酮‑d6)：δ[ppm]＝‑51.99～‑55.72(12.4F)，‑78.48(2F)，‑80.66(2F)，‑89.16～‑91.14(24.8F) [0468] [实施例19] [0469] 通过以下所示的方法得到上述式(AS)表示的化合物(AS)(式(AS)中，表示平均聚合度的mas为6.2，表示平均聚合度的nas为6.2。)。 [0470] 首先，使3‑羟基丙酸与苯胺反应并使所得到的化合物与表溴醇进行反应，合成了下述式(11‑16)表示的化合物。 [0471] [0472] 使用式(11‑16)表示的化合物(11‑16)(4.08g)来代替实施例1中所用的式(11‑1)表示的化合物(11‑1)，除此以外，进行与实施例1同样的操作，得到14.1g化合物(AS)。 [0473] 进行所得到的化合物(AS)的1H‑NMR及19F‑NMR测定，根据以下结果对结构进行了鉴定。 [0474] 1H‑NMR(丙酮‑d6)：δ[ppm]＝2.72(2H)，3.40‑4.00(13H)，4.10‑4.80(10H)，7.20‑8.00(5H)，8.50(1H) [0475] 19F‑NMR(丙酮‑d6)：δ[ppm]＝‑51.99～‑55.72(12.4F)，‑78.48(2F)，‑80.66(2F)，‑89.16～‑91.14(24.8F) [0476] [实施例20] [0477] 通过以下所示的方法得到上述式(AT)表示的化合物(AT)(式(AT)中，表示平均聚合度的mat为6.2，表示平均聚合度的nat为6.2。)。 [0478] 首先，使3‑(苄基氧基)丙酸与苯胺反应后，在氢化钠存在下，使其与碘甲烷反应。在钯碳的存在下使所得到的化合物进行接触氢化后，使其与表溴醇反应，合成了下述式(11‑17)表示的化合物。 [0479] [0480] 使用式(11‑17)表示的化合物(11‑17)(4.34g)来代替实施例1中所用的式(11‑1)表示的化合物(11‑1)，除此以外，进行与实施例1同样的操作，得到14.2g化合物(AT)。 [0481] 进行所得到的化合物(AT)的1H‑NMR及19F‑NMR测定，根据以下结果对结构进行了鉴定。 [0482] 1H‑NMR(丙酮‑d6)：δ[ppm]＝2.72(2H)，3.21(3H)，3.40‑4.00(13H)，4.10‑4.80(10H)，7.20‑8.00(5H) [0483] 19F‑NMR(丙酮‑d6)：δ[ppm]＝‑51.99～‑55.72(12.4F)，‑78.48(2F)，‑80.66(2F)，‑89.16～‑91.14(24.8F) [0484] [实施例21] [0485] 通过以下所示的方法得到上述式(AU)表示的化合物(AU)(式(AU)中，表示平均聚合度的mau为6.2，表示平均聚合度的nau为6.2。)。 [0486] 首先，针对1,6‑己二醇，使1当量的3,4‑二氢‑2H‑吡喃进行了反应。使所得到的化合物与表溴醇反应，合成了下述式(12‑2)表示的化合物。 [0487] [0488] 使用式(12‑2)表示的化合物(12‑2)(3.50g)来代替实施例1中所用的式(12‑1)表示的化合物(12‑1)，除此以外，进行与实施例1同样的操作，得到14.4g化合物(AU)。 [0489] 进行所得到的化合物(AU)的1H‑NMR及19F‑NMR测定，根据以下结果对结构进行了鉴定。 [0490] 1H‑NMR(丙酮‑d6)：δ[ppm]＝1.20‑1.80(8H)，3.40‑4.00(11H)，4.10‑4.80(10H)，6.50‑6.70(1H)，7.00‑8.10(5H) [0491] 19F‑NMR(丙酮‑d6)：δ[ppm]＝‑51.99～‑55.72(12.4F)，‑78.48(2F)，‑80.66(2F)，‑89.16～‑91.14(24.8F) [0492] [实施例22] [0493] 通过以下所示的方法得到上述式(AV)表示的化合物(AV)(式(AV)中，表示平均聚合度的mav为6.2，表示平均聚合度的nav为6.2。)。 [0494] 首先，通过以下所示的方法合成了下述式(12‑4)表示的化合物。利用叔丁基二甲基甲硅烷基对3‑烯丙基氧基‑1,2‑丙二醇的伯羟基进行保护后，利用甲氧基甲基对仲羟基进行保护。从所得到的化合物中除去叔丁基二甲基甲硅烷基，由此合成了下述式(12‑3)表示的化合物(12‑3)。使所得到的化合物(12‑3)与2‑(2‑氯乙氧基)四氢吡喃反应后，使用间氯过氧苯甲酸将双键氧化，由此合成了下述式(12‑4)表示的化合物(12‑4)。 [0495] [0496] 使用式(12‑4)表示的化合物(12‑4)(4.34g)来代替实施例1中所用的式(12‑1)表示的化合物(12‑1)，除此以外，进行与实施例1同样的操作，得到14.5g化合物(AV)。 [0497] 进行所得到的化合物(AV)的1H‑NMR及19F‑NMR测定，根据以下结果对结构进行了鉴定。 [0498] 1H‑NMR(丙酮‑d6)：δ[ppm]＝3.40‑4.00(14H)，4.10‑4.80(13H)，6.50‑6.70(1H)，7.00‑8.10(5H) [0499] 19F‑NMR(丙酮‑d6)：δ[ppm]＝‑51.99～‑55.72(12.4F)，‑78.48(2F)，‑80.66(2F)，‑89.16～‑91.14(24.8F) [0500] [实施例23] [0501] 通过以下所示的方法得到上述式(AW)表示的化合物(AW)(式(AW)中，表示平均聚合度的maw为6.2，表示平均聚合度的naw为6.2。)。 [0502] 首先，使2‑羟基苯甲酰胺与烯丙基缩水甘油醚反应后，使用间氯过氧苯甲酸将双键氧化，由此合成了下述式(11‑18)表示的化合物。 [0503] [0504] 使用式(11‑18)表示的化合物(11‑18)(4.93g)来代替实施例1中所用的式(11‑1)表示的化合物(11‑1)，除此以外，进行与实施例1同样的操作，得到14.5g化合物(AW)。 [0505] 进行所得到的化合物(AW)的1H‑NMR及19F‑NMR测定，根据以下结果对结构进行了鉴定。 [0506] 1H‑NMR(丙酮‑d6)：δ[ppm]＝3.40‑4.00(14H)，4.10‑4.80(13H)，6.50‑6.70(1H)，7.00‑8.10(5H) [0507] 19F‑NMR(丙酮‑d6)：δ[ppm]＝‑51.99～‑55.72(12.4F)，‑78.48(2F)，‑80.66(2F)，‑89.16～‑91.14(24.8F) [0508] [实施例24] [0509] 通过以下所示的方法得到上述式(AX)表示的化合物(AX)(式(AX)中，表示平均聚合度的max为6.2，表示平均聚合度的nax为6.2。)。 [0510] 首先，使3‑丁烯‑1‑醇与3,4‑二氢‑2H‑吡喃反应，利用四氢吡喃基对3‑丁烯‑1‑醇的羟基进行保护后，使用间氯过氧苯甲酸将双键氧化，由此合成了下述式(12‑5)表示的化合物。 [0511] [0512] 使用式(12‑5)表示的化合物(12‑5)(2.33g)来代替实施例23中所用的式(12‑1)表示的化合物(12‑1)，除此以外，进行与实施例23同样的操作，得到14.3g化合物(AX)。 [0513] 进行所得到的化合物(AX)的1H‑NMR及19F‑NMR测定，根据以下结果对结构进行了鉴定。 [0514] 1H‑NMR(丙酮‑d6)：δ[ppm]＝1.40(2H)，3.40‑4.00(12H)，4.10‑4.80(11H)，6.50‑6.70(1H)，7.00‑8.10(5H) [0515] 19F‑NMR(丙酮‑d6)：δ[ppm]＝‑51.99～‑55.72(12.4F)，‑78.48(2F)，‑80.66(2F)，‑89.16～‑91.14(24.8F) [0516] [实施例25] [0517] 通过以下所示的方法得到上述式(AY)表示的化合物(AY)(式(AY)中，表示平均聚合度的may为6.2，表示平均聚合度的nay为6.2。)。 [0518] 首先，通过以下所示的方法合成了下述式(12‑7)表示的化合物。使6‑庚烯‑1‑醇与3,4‑二氢‑2H‑吡喃反应，利用四氢吡喃基对6‑庚烯‑1‑醇的羟基进行保护后，使用间氯过氧苯甲酸将双键氧化，由此合成了下述式(12‑6)表示的化合物。使所得到的化合物(12‑6)与烯丙醇反应后，使其与3,4‑二氢‑2H‑吡喃反应，利用四氢吡喃基对仲羟基进行保护。最后，使用间氯过氧苯甲酸将双键氧化，由此合成了下述式(12‑7)表示的化合物(12‑7)。 [0519] [0520] 使用式(12‑7)表示的化合物(12‑7)(5.04g)来代替实施例1中所用的式(12‑1)表示的化合物(12‑1)，除此以外，进行与实施例1同样的操作，得到14.6g化合物(AY)。 [0521] 进行所得到的化合物(AY)的1H‑NMR及19F‑NMR测定，根据以下结果对结构进行了鉴定。 [0522] 1H‑NMR(丙酮‑d6)：δ[ppm]＝1.20‑1.80(8H)，3.40‑4.00(12H)，4.10‑4.80(11H)，6.50‑6.70(1H)，7.00‑8.10(5H) [0523] 19F‑NMR(丙酮‑d6)：δ[ppm]＝‑51.99～‑55.72(12.4F)，‑78.48(2F)，‑80.66(2F)，‑89.16～‑91.14(24.8F) [0524] [实施例26] [0525] 通过以下所示的方法得到上述式(AZ)表示的化合物(AZ)(式(AZ)中，表示平均聚合度的maz为6.2，表示平均聚合度的naz为6.2。)。 [0526] 首先，通过以下所示的方法合成了下述式(12‑8)表示的化合物。使上述式(12‑1)表示的化合物(12‑1)与3‑丁烯‑1‑醇反应后，使其与3,4‑二氢‑2H‑吡喃反应，利用四氢吡喃基对仲羟基进行保护。最后，使用间氯过氧苯甲酸将双键氧化，由此合成了下述式(12‑8)表示的化合物(12‑8)。 [0527] [0528] 使用式(12‑8)表示的化合物(12‑8)(5.07g)来代替实施例1中所用的式(12‑1)表示的化合物(12‑1)，除此以外，进行与实施例1同样的操作，得到14.6g化合物(AZ)。 [0529] 进行所得到的化合物(AZ)的1H‑NMR及19F‑NMR测定，根据以下结果对结构进行了鉴定。 [0530] 1H‑NMR(丙酮‑d6)：δ[ppm]＝1.40(2H)，3.40‑4.00(14H)，4.10‑4.80(13H)，6.50‑6.70(1H)，7.00‑8.10(5H) [0531] 19F‑NMR(丙酮‑d6)：δ[ppm]＝‑51.99～‑55.72(12.4F)，‑78.48(2F)，‑80.66(2F)，‑89.16～‑91.14(24.8F) [0532] [实施例27] [0533] 通过以下所示的方法得到上述式(BA)表示的化合物(BA)(式(BA)中，表示平均聚合度的nba为6.2。)。 [0534] 首先，使4’‑羟基乙酰替苯胺与烯丙基缩水甘油醚反应后，使用间氯过氧苯甲酸将双键氧化，由此合成了下述式(11‑19)表示的化合物。 [0535] [0536] 使用HOCH2CF2CF2O(CF2CF2CF2O)xCF2CF2CH2OH(式中，表示平均聚合度的x为6.2。)表示的氟聚醚(数均分子量为1300，分子量分布为1.1)(40.0g)来代替实施例11中的HOCH2CF2O(CF2CF2O)u(CF2O)vCF2CH2OH(式中，表示平均聚合度的u为6.2，表示平均聚合度的v为6.2。)表示的氟聚醚(数均分子量为1300，分子量分布为1.1)，以及，使用式(11‑19)表示的化合物(11‑19)(3.81g)来代替实施例11中所用的式(12‑1)表示的化合物(12‑1)，除此以外，进行与实施例11同样的操作，得到15.4g化合物(BA)。 [0537] 进行所得到的化合物(BA)的1H‑NMR及19F‑NMR测定，根据以下结果对结构进行了鉴定。 [0538] 1H‑NMR(丙酮‑d6)：δ[ppm]＝2.09(6H)，3.40‑4.00(12H)，4.10‑4.80(11H)，6.50‑7.50(8H)，9.00(2H) [0539] 19F‑NMR(丙酮‑d6)：δ[ppm]＝‑84.22(24.8F)，‑86.40(4F)，‑124.30(4F)，‑130.08(12.4F) [0540] [实施例28] [0541] 通过以下所示的方法得到上述式(BB)表示的化合物(BB)(式(BB)中，表示平均聚合度的nbb为6.2。)。 [0542] 在氮气气氛下，向200mL茄形瓶中投入HOCH2CF2CF2O(CF2CF2CF2O)xCF2CF2CH2OH(式中，表示平均聚合度的x为6.2。)表示的氟聚醚(数均分子量为1300，分子量分布为1.1)(40.0g)、上述式(11‑19)表示的化合物(17.3g)、和t‑BuOH(叔丁醇)(40.0mL)，在室温下搅拌直至变得均匀。进一步，向上述茄形瓶中加入t‑BuOK(叔丁醇钾)(1.04g)，加热至70℃，搅拌12小时而使其进行了反应。 [0543] 然后，将所得到的反应产物冷却至25℃，加入水，进一步加入乙酸乙酯作为溶剂，对有机层进行萃取，并进行水洗。向有机层中加入无水硫酸钠，进行脱水，将干燥剂过滤分离后，对滤液进行浓缩。利用硅胶柱色谱对残余物进行纯化，得到34.4g化合物(BB)。 [0544] 进行所得到的化合物(BB)的1H‑NMR及19F‑NMR测定，根据以下结果对结构进行了鉴定。 [0545] 1H‑NMR(丙酮‑d6)：δ[ppm]＝2.09(6H)，3.40‑4.00(15H)，4.10‑4.80(14H)，6.50‑7.50(8H)，9.00(2H) [0546] 19F‑NMR(丙酮‑d6)：δ[ppm]＝‑84.22(24.8F)，‑86.40(4F)，‑124.30(4F)，‑130.08(12.4F) [0547] 在表1及表2中示出将如上所述地得到的实施例1～28的化合物(AA)～(BB)分别代1 1 入式(1)时的R(R表示的末端基团、结构、芳香族烃)、[B]‑[A](式(3‑1)中的c、式(3‑2)中的 2 3 1 d、e)、R的结构、[C]‑[D](式(4‑1)中的f、式(4‑2)中的g、h)、R(式(2)中的a、b、X)。 [0548] [表1] [0549] [0550] [表2] [0551] [0552] [比较例1] [0553] 利用专利文献1中记载的方法合成了下述式(ZA)表示的化合物(ZA)。 [0554] [0555] (式(ZA)中，表示平均聚合度的mza为6.2，表示平均聚合度的nza为6.2。) [0556] [比较例2] [0557] 利用专利文献2中记载的方法合成了下述式(ZB)表示的化合物(ZB)。 [0558] [0559] (式(ZB)中，表示平均聚合度的mzb为6.2，表示平均聚合度的nzb为6.2。) [0560] [比较例3] [0561] 利用专利文献3中记载的方法合成了下述式(ZC)表示的化合物(ZC)。即，在专利文献3的实施例1中，代替缩水甘油基苯基醚而使用式(11‑8)表示的化合物进行了合成。 [0562] [0563] (式(ZC)中，表示平均聚合度的mzc为6.2，表示平均聚合度的nzc为6.2。) [0564] [比较例4] [0565] 利用专利文献4中记载的方法合成了下述式(ZD)表示的化合物(ZD)。 [0566] [0567] (式(ZD)中，表示平均聚合度的mzd为6.2，表示平均聚合度的nzd为6.2。) [0568] [比较例5] [0569] 利用专利文献5中记载的方法合成了下述式(ZE)表示的化合物(ZE)。即，在专利文献5的实施例1中，代替4‑甲氧基缩水甘油基苯基醚而使用式(11‑8)表示的化合物进行了合成。 [0570] [0571] (式(ZE)中，表示平均聚合度的nze为6.2。)[比较例6] [0572] 利用专利文献2中记载的方法合成了下述式(ZF)表示的化合物(ZF)。 [0573] [0574] (式(ZF)中，表示平均聚合度的mzf为6.2，表示平均聚合度的nzf为6.2。) [0575] [比较例7] [0576] 利用专利文献2中记载的方法合成了下述式(ZG)表示的化合物(ZG)。 [0577] [0578] (式(ZG)中，表示平均聚合度的mzg为6.2，表示平均聚合度的nzg为6.2。) [0579] [比较例8] [0580] 利用专利文献2中记载的方法合成了下述式(ZH)表示的化合物(ZH)。 [0581] [0582] (式(ZH)中，表示平均聚合度的mzh为6.2，表示平均聚合度的nzh为6.2。) [0583] 将实施例1～28及比较例1～8中得到的各化合物(AA)～(BB)、(ZA)～(ZH)的数均分子量(Mn)(PFPE链的数均分子量、分子整体的数均分子量)、PFPE比(PFPE链Mn/分子整体Mn)示于表3中。 [0584] [表3] [0585] [0586] 接下来，通过以下所示的方法，使用实施例1～28及比较例1～8中得到的化合物调制成润滑层形成用溶液。然后，使用所得到的润滑层形成用溶液，通过以下所示的方法形成磁记录介质的润滑层，得到实施例1～28及比较例1～8的磁记录介质。 [0587] [润滑层形成用溶液] [0588] 将实施例1～28及比较例1～8中得到的化合物分别溶解于作为氟系溶剂的バートレル(注册商标)XF(商品名，三井デュポンフロロケミカル社制)中，以涂布至保护层上时的膜厚为 的方式用バートレルXF稀释，制成化合物的浓度为0.001质量％～0.01质量％的润滑层形成用溶液。 [0589] [磁记录介质] [0590] 在直径为65mm的基板上依次设置了附着层、软磁性层、第1基底层、第2基底层、磁性层和保护层。保护层是由氮化碳构成的。 [0591] 在形成有到保护层为止的各层的基板的保护层上，利用浸渍法涂布了实施例1～28及比较例1～8的润滑层形成用溶液。 [0592] 然后，将涂布了润滑层形成用溶液的磁记录介质放入120℃的恒温槽中，进行了加热10分钟的热处理。由此，在保护层上形成润滑层，得到实施例1～28及比较例1～8的磁记录介质。 [0593] 针对如上所述地得到的实施例1～28及比较例1～8的磁记录介质，分别通过以下所示的方法进行润滑层的膜厚测定、润滑层与保护层的密合性(结合率)测定、粘着特性试验、脱落特性试验、平滑性(触地功率(touchdown power))试验，并进行了评价。将其结果示于表3中。 [0594] [润滑层的膜厚测定] [0595] 使用傅立叶变换红外分光光度计(FT‑IR，商品名：Nicolet iS50，Thermo Fisher Scientific社制)，测定了润滑层的C‑F振动伸缩时的峰高度。接着，使用通过后述方法求出的关联式，由润滑层的C‑F振动伸缩时的峰高度的测定值算出润滑层的膜厚。 [0596] [关联式的计算方法] [0597] 准备了在直径为65mm的基板上依次设置附着层、软磁性层、第1基底层、第2基底层、磁性层和保护层而得到的磁盘。在该磁盘的保护层上以 ( 间隔)的膜厚分别形成了润滑层。 [0598] 然后，对于形成了润滑层的各磁盘，使用椭圆偏振计，测定从未形成润滑层的磁盘表面起算的膜厚增加量，作为润滑层的膜厚。另外，对于形成了润滑层的各磁盘，使用FT‑IR测定了C‑F振动伸缩时的峰高度。 [0599] 然后，求出利用FT‑IR得到的峰高度与使用椭圆偏振计得到的润滑层的膜厚的关联式。 [0600] [润滑层与保护层的密合性(结合率)测定] [0601] 对于形成有润滑层的磁记录介质，通过上述方法测定了润滑层的膜厚后，通过在作为溶剂的バートレルXF中浸渍10分钟后提起的方法进行了洗涤。将磁记录介质浸渍于溶剂中的速度设定为10mm/sec，提起的速度设定为1.2mm/sec。然后，通过与在洗涤前进行的润滑层的膜厚测定相同的方法，测定了溶剂浸渍后(洗涤后)的润滑层的膜厚。 [0602] 然后，将洗涤前的润滑层的膜厚记为α，将洗涤后(溶剂浸渍后)的润滑层的膜厚记为β，由α与β之比((β/α)×100(％))算出润滑剂的结合率(bond ratio)。使用算出的结合率，根据以下所示的基准对润滑层与保护层的密合性进行了评价。 [0603] 结合率可以用作表示润滑层与保护层的结合力的指标。若润滑层与保护层的密合性差，则润滑层中所含的含氟醚化合物的一部分溶出至バートレルXF中而被洗掉。因此，洗涤后的润滑层的膜厚变小，结合率降低。 [0604] “密合性(结合率)的评价基准” [0605] ◎(优)：结合率为65％以上 [0606] 〇(良)：结合率为60％～64％ [0607] △(合格)：结合率为40％～59％ [0608] ×(不合格)：结合率为39％以下 [0609] [粘着特性试验] [0610] 在旋转架(spinstand)上安装磁记录介质及磁头，在常温减压下(约250torr)进行旋转，使磁头定点上浮10分钟。然后，使用ESCA(Electron Spectroscopy for Chemical Analysis，化学分析用电子能谱法)分析装置，对磁头的与磁记录介质相对的面进行了分析。通过使用了ESCA分析装置的分析而得到的来自氟的峰的强度(信号强度(a.u.))表示润滑剂向磁头上的附着量。使用所得到的来自氟的峰的信号强度，根据以下所示的评价基准对粘着特性进行了评价。 [0611] “粘着特性的评价基准” [0612] ◎(优)：信号强度为160以下(附着量非常少) [0613] 〇(良)：信号强度为161～300(附着量少) [0614] △(合格)：信号强度为301～1000(附着量多) [0615] ×(不合格)：信号强度为1001以上(附着量非常多) [0616] [脱落特性试验] [0617] 在旋转架上安装磁记录介质，在80℃的环境下，以10000rpm的旋转速度使其旋转了72小时。在该操作的前后，使用FT‑IR测定从磁记录介质的中心起算半径为20mm的位置的润滑层的膜厚，算出试验前后的润滑层的膜厚减少率。使用算出的膜厚减少率，根据以下所示的评价基准对脱落特性进行了评价。 [0618] “脱落特性的评价基准” [0619] ◎(优)：膜厚减少率为2％以下 [0620] 〇(良)：膜厚减少率大于2％且为3％以下 [0621] △(合格)：膜厚减少率大于3％且为9％以下 [0622] ×(不合格)：膜厚减少率大于9％ [0623] [润滑层的平滑性(触地功率)试验] [0624] 作为润滑层表面的平滑性的评价指标，测定了触地功率(TDp)。使用写入测试仪(DFH测试仪)，如下所述地实施了TDp的测定。 [0625] 使作为评价对象的磁记录介质以5400rpm旋转，以使磁头与从中心起算半径为18mm的位置相对的方式配置。使磁头的写入元件(DFH元件)的加热器功率缓缓地上升，通过加热器的发热而使DFH元件进行了热膨胀。然后，测定了因DFH元件的热膨胀而突出的DFH元件的前端与磁记录介质的润滑层接触的时间点的加热器功率作为TDp(单位为mW)。DFH元件的前端与磁记录介质的润滑层接触是利用声发射(AE)传感器检测的。 [0626] 通常，若润滑层的膜厚变薄，则DFH元件与润滑层的表面接触所需要的TDp变大。另一方面，在以具有相同的平均膜厚的磁记录介质彼此进行比较时可知，润滑层的表面凹凸越大，则润滑层的最大高度越大，因此TDp的值越小。 [0627] “平滑性的评价基准” [0628] ◎(优)：TDp值为51.5mW以上(表面凹凸非常小) [0629] 〇(良)：TDp值为51.0～51.4mW(表面凹凸小) [0630] △(合格)：TDp值为50.5～50.9mW(表面凹凸大) [0631] ×(不合格)：TDp值为50.4mW以下(表面凹凸非常大) [0632] [综合评价] [0633] 由润滑层与保护层的密合性(结合率)测定、粘着特性试验、脱落特性试验、平滑性(触地功率)试验的结果，根据以下所示的评价基准进行了综合评价。 [0634] “综合评价的评价基准” [0635] ◎(优)：结合率、粘着特性、脱落特性、平滑性的评价全部为◎(优)。 [0636] 〇(良)：结合率、粘着特性、脱落特性、平滑性的评价为◎(优)或〇(良)，其中的1个以上为〇(良)。 [0637] △(合格)：结合率、粘着特性、脱落特性、平滑性的评价中的1个以上为△(合格)，不存在×(不合格)。 [0638] ×(不合格)：结合率、粘着特性、脱落特性、平滑性的评价中的1个以上为×(不合格)。 [0639] 如表3所示的那样，就使用式(1)表示的含氟醚化合物形成了润滑层的实施例1～28的磁记录介质而言，结合率、粘着特性、脱落特性、平滑性的评价全部为◎(优)或○(良)，综合评价为◎(优)或○(良)。即，实施例1～28的磁记录介质具有不易发生粘着及脱落并且对于保护层的密合性及平滑性良好的润滑层。 [0640] 与此相对，在比较例1～8的磁记录介质中，与实施例1～28的磁记录介质相比，结合率、粘着特性、脱落特性、平滑性的评价结果全部较差。 [0641] 更详细而言，由使用了不具有酰胺键的化合物的比较例1的结果、使用了不具有芳1 香族烃的化合物的比较例2的结果、和使用了式(1)中的R包含酰胺键的羰基碳原子或氮原子与芳香族烃直接键合而成的基团的化合物的实施例1、5、6、8～14的结果确认到：通过使 1 式(1)中的R 包含酰胺键的羰基碳原子或氮原子与芳香族烃直接键合而成的基团，从而结合率、粘着特性、脱落特性、平滑性的评价变得良好。 [0642] 由此推测，为了得到综合评价为◎(优)或○(良)的磁记录介质，必须使用式(1)表1 示的含氟醚化合物作为润滑层的材料，该含氟醚化合物中，R 所具有的酰胺键的羰基碳原子或氮原子与芳香族烃直接键合而形成同一平面。 [0643] 另外，比较例3和实施例11这两者均使用了具有包含酰胺键的羰基碳原子或氮原子与芳香族烃直接键合而成的基团的末端基团的化合物。但是，如表3所示的那样，在比较例3和实施例11中，在结合率、粘着特性、脱落特性、平滑性的评价结果上观察到较大差异。推测这是因为，在比较例3的磁记录介质中，使用了具有邻二醇结构的化合物，因此在润滑层中存在未参与与保护层的吸附的羟基。 [0644] 比较例4、比较例6～比较例8的磁记录介质没有使用具有包含酰胺键的羰基碳原子或氮原子与芳香族烃直接键合而成的基团的末端基团的化合物。因此，如表3所示的那样，推断结合率、粘着特性、脱落特性、平滑性的评价结果与实施例1～28的磁记录介质相比变差。 [0645] 比较例5的磁记录介质使用了分子中所含的羟基的数量小于3的化合物。因此，推断含氟醚化合物中的羟基对保护层的吸附力不足，结合率、粘着特性、脱落特性、平滑性的评价结果与实施例1～28的磁记录介质相比变差。 [0646] 产业可利用性 [0647] 通过使用包含本发明的含氟醚化合物的磁记录介质用润滑剂，能够形成不易发生粘着及脱落并且对于保护层的密合性及平滑性良好的润滑层。 [0648] 附图标记说明 [0649] 10···磁记录介质，11···基板，12···附着层，13···软磁性层，14···第1基底层，15···第2基底层，16···磁性层，17···保护层，18···润滑层。 |
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