| 专利类型 | 实用新型 | 法律事件 | 授权; |
| 专利有效性 | 有效专利 | 当前状态 | 授权 |
| 申请号 | CN202323364305.4 | 申请日 | 2023-12-11 |
| 公开(公告)号 | CN221753141U | 公开(公告)日 | 2024-09-24 |
| 申请人 | 随州鑫星新材料有限公司; | 申请人类型 | 企业 |
| 发明人 | 卿添; 张辉; 王超; 李霄鹏; | 第一发明人 | 卿添 |
| 权利人 | 随州鑫星新材料有限公司 | 权利人类型 | 企业 |
| 当前权利人 | 随州鑫星新材料有限公司 | 当前权利人类型 | 企业 |
| 省份 | 当前专利权人所在省份：湖北省 | 城市 | 当前专利权人所在城市：湖北省随州市 |
| 具体地址 | 当前专利权人所在详细地址：湖北省随州市高新技术产业开发区青春化工园兴建二路9号 | 邮编 | 当前专利权人邮编：441300 |
| 主IPC国际分类 | B01F35/12 | 所有IPC国际分类 | B01F35/12 ; C07F7/21 ; B01F27/906 ; B01D3/14 ; B01D29/01 |
| 专利引用数量 | 0 | 专利被引用数量 | 0 |
| 专利权利要求数量 | 8 | 专利文献类型 | U |
| 专利代理机构 | 北京腾远知识产权代理事务所 | 专利代理人 | 邱心怡; |
| 摘要 | 本实用新型涉及一种八甲基环四 硅 氧 烷中金属杂质的去除设备，包括底座、固定连接于底座顶部一侧的反应釜、固定连接于底座顶部另一侧的精馏塔和固定安装于精馏塔 正面 的 控制器 ，所述反应釜的外部设置有延伸至其内部的清理机构，所述反应釜的外部设置有延伸至其内部的过滤机构，所述清理机构包括固定安装于反应釜外部的伺服 电机 ，所述 伺服电机 的 输出轴 上固定连接有延伸至反应釜内部的转动轴。该八甲基环四硅氧烷中金属杂质的去除设备，通过控制器启动伺服电机工作，转动轴带动 横杆 与竖杆旋转，便于对反应釜内部的八甲基环四硅氧烷与萃取剂和 吸附 剂进行搅拌混合处理，便于对反应釜内壁上的残留物进行清理，达到了便于清理的优点。 | ||
| 权利要求 | 1.一种八甲基环四硅氧烷中金属杂质的去除设备，包括底座(1)、固定连接于底座(1)顶部一侧的反应釜(2)、固定连接于底座(1)顶部另一侧的精馏塔(3)和固定安装于精馏塔(3)正面的控制器(9)，其特征在于：所述反应釜(2)的外部设置有延伸至其内部的清理机构(4)，所述反应釜(2)的外部设置有延伸至其内部的过滤机构(5)； |
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| 说明书全文 | 一种八甲基环四硅氧烷中金属杂质的去除设备技术领域[0001] 本实用新型涉及高纯化学品技术领域，具体为一种八甲基环四硅氧烷中金属杂质的去除设备。 背景技术[0002] 八甲基环四硅氧烷是一种无色无味、无毒、无腐蚀性的有机硅材料。八甲基环四硅氧烷作为一种与大笼状有机硅结构相似的含硅大环化合物的前驱体，其独特的性能在集成电路用低介电常数材料的研发生产中也具有较高的应用价值。然而，无论应用于光纤还是半导体，其对金属杂含量水平要求较高，一般要求达到ppb级。 [0003] 在八甲基环四硅氧烷生产过程中需要用到八甲基环四硅氧烷中金属杂质的去除设备，经检索，现有技术中中国专利CN214735485U公开一种八甲基环四硅氧烷中金属杂质的去除设备，包括吸附萃取反应釜、第一分离罐、第二分离罐、第三分离罐和精馏塔；所述吸附萃取反应釜设有吸附剂入口、原料及萃取剂入口、上层清液出口、乳化混合液出口；其中上层清液出口和第二分离罐相连通。该实用新型不仅能较大限度的分离八甲基环四硅氧烷与萃取剂，也能节约反应器的静置时间，且有效的避免了金属杂质脱附现象的发生，从而获得了稳定的金属杂质去除效果，减少了后续精馏的难度。 [0004] 但是，该实用新型八甲基环四硅氧烷中金属杂质的去除设备在去除杂质后不便于对反应釜内壁上的残留物进行清理，严重影响了金属杂质的去除效率，不能满足使用需求，故而提出一种八甲基环四硅氧烷中金属杂质的去除设备来解决上述中所提出的问题。实用新型内容 [0005] 针对现有技术的不足，本实用新型提供了一种八甲基环四硅氧烷中金属杂质的去除设备，具备便于清理和实用性强等优点，解决了现有的八甲基环四硅氧烷中金属杂质的去除设备在去除杂质后不便于对反应釜内壁上的残留物进行清理，严重影响了金属杂质的去除效率，不能满足使用需求的问题。 [0006] 为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种八甲基环四硅氧烷中金属杂质的去除设备，包括底座、固定连接于底座顶部一侧的反应釜、固定连接于底座顶部另一侧的精馏塔和固定安装于精馏塔正面的控制器，所述反应釜的外部设置有延伸至其内部的清理机构，所述反应釜的外部设置有延伸至其内部的过滤机构； [0007] 所述清理机构包括固定安装于反应釜外部的伺服电机，所述伺服电机的输出轴上固定连接有延伸至反应釜内部的转动轴，所述转动轴的外部固定连接有数量为两个的横杆，两个所述横杆之间固定连接有数量为两个的竖杆，两个所述横杆靠近反应釜的一侧固定连接有刮板； [0008] 所述过滤机构包括固定安装于反应釜外部的吸泵和过滤箱，所述过滤箱的底部固定连通有延伸至反应釜内部的连接管，所述过滤箱的内部滑动连接有数量为两个的熔喷非织造基材，所述吸泵的输出端上固定连接有延伸至反应釜内部的输送管。 [0010] 进一步，所述转动轴转动连接于反应釜的内部，所述转动轴、横杆与竖杆均为实心的圆柱体。 [0011] 进一步，所述反应釜为空心的圆柱体，所述刮板与反应釜的内壁相贴合。 [0012] 进一步，所述吸泵与过滤箱之间固定连通有传输管，所述吸泵与控制器为电性连接。 [0013] 进一步，所述连接管与反应釜的连接处固定安装有电磁阀，两个所述熔喷非织造基材呈上下左右对称分布于过滤箱的内部。 [0014] 进一步，所述反应釜与底座之间固定连接有数量为四个的支撑柱，所述反应釜的顶部固定安装有进料斗。 [0015] 进一步，所述反应釜与精馏塔之间固定连通有上层清液输送管，所述精馏塔的底部固定连通有下料管。 [0016] 与现有技术相比，本实用新型提供了一种八甲基环四硅氧烷中金属杂质的去除设备，具备以下有益效果： [0017] 1、该八甲基环四硅氧烷中金属杂质的去除设备，通过控制器启动伺服电机工作，伺服电机工作带动转动轴旋转，转动轴带动横杆与竖杆旋转，便于对反应釜内部的八甲基环四硅氧烷与萃取剂和吸附剂进行搅拌混合处理，转动轴旋转带刮板旋转，便于对反应釜内壁上的残留物进行清理，达到了便于清理的优点。 [0018] 2、该八甲基环四硅氧烷中金属杂质的去除设备，通过控制器启动吸泵工作，吸泵工作将反应釜内部的乳化混合层液体通过连接管抽取到过滤箱的内部，通过熔喷非织造基对乳化混合层液体进行过滤，从而获得了稳定的金属杂质去除效果，通过设置上层清液输送管，便于将反应釜内部上层的八甲基环四硅氧烷输送至精馏塔的内部从而进行精馏处理，达到了实用性强的优点。附图说明 [0019] 图1为本实用新型结构剖视图； [0020] 图2为本实用新型结构正视图； [0021] 图3为本实用新型过滤箱的结构立体图。 [0022] 图中：1底座、2反应釜、3精馏塔、4清理机构、41伺服电机、42转动轴、43横杆、44刮板、5过滤机构、51吸泵、52过滤箱、53连接管、54熔喷非织造基材、55输送管、6进料斗、7上层清液输送管、8下料管、9控制器。 具体实施方式[0023] 下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。 [0024] 请参阅图1‑3，本实施例中的一种八甲基环四硅氧烷中金属杂质的去除设备，包括底座1、固定连接于底座1顶部一侧的反应釜2、固定连接于底座1顶部另一侧的精馏塔3和固定安装于精馏塔3正面的控制器9，反应釜2的外部设置有延伸至其内部的清理机构4，反应釜2的外部设置有延伸至其内部的过滤机构5，清理机构4包括固定安装于反应釜2外部的伺服电机41，伺服电机41的输出轴上固定连接有延伸至反应釜2内部的转动轴42，转动轴42的外部固定连接有数量为两个的横杆43，两个横杆43之间固定连接有数量为两个的竖杆44，两个横杆43靠近反应釜2的一侧固定连接有刮板45。 [0025] 通过控制器9启动伺服电机41工作，伺服电机41工作带动转动轴42旋转，转动轴42带动横杆43与竖杆44旋转，便于对反应釜2内部的八甲基环四硅氧烷与萃取剂和吸附剂进行搅拌混合处理，转动轴42旋转带刮板45旋转，便于对反应釜2内壁上的残留物进行清理，达到了便于清理的优点。 [0026] 其中，伺服电机41的外部固定连接有与反应釜2的顶部固定连接的电机架，电机架与反应釜2为螺栓固定，螺栓的数量为四个。 [0027] 需要说明的是，转动轴42转动连接于反应釜2的内部，转动轴42、横杆43与竖杆44均为实心的圆柱体。 [0028] 此外，反应釜2为空心的圆柱体，刮板45与反应釜2的内壁相贴合。 [0029] 本实施例中，过滤机构5包括固定安装于反应釜2外部的吸泵51和过滤箱52，过滤箱52的底部固定连通有延伸至反应釜2内部的连接管53，过滤箱52的内部滑动连接有数量为两个的熔喷非织造基材54，吸泵51的输出端上固定连接有延伸至反应釜2内部的输送管55。通过控制器9启动吸泵51工作，吸泵51工作将反应釜2内部的乳化混合层液体通过连接管53抽取到过滤箱52的内部，通过熔喷非织造基54对乳化混合层液体进行过滤，从而获得了稳定的金属杂质去除效果。 [0030] 其中，吸泵51与过滤箱52之间固定连通有传输管，吸泵51与控制器9为电性连接。 [0031] 需要说明的是，连接管53与反应釜2的连接处固定安装有电磁阀，两个熔喷非织造基材54呈上下左右对称分布于过滤箱52的内部。熔喷非织造基材54属于现有技术中公众所知的常规技术，因此文中不再对其具体的结构组成和工作原理进行过多赘述。 [0032] 本实施例中，反应釜2与底座1之间固定连接有数量为四个的支撑柱，反应釜2的顶部固定安装有进料斗6。反应釜2与精馏塔3之间固定连通有上层清液输送管7，上层清液输送管7的内部固定安装有流量控制阀，精馏塔3的底部固定连通有下料管8。通过设置上层清液输送管7，便于将反应釜2内部上层的八甲基环四硅氧烷输送至精馏塔3的内部从而进行精馏处理，达到了实用性强的优点。 [0033] 上述实施例的工作原理为： [0034] 在使用时，将待纯化的八甲基环四硅氧烷、萃取剂和吸附剂通过进料斗6加入反应釜2的内部，通过控制器9启动伺服电机41工作，伺服电机41工作带动转动轴42旋转，转动轴42带动横杆43与竖杆44旋转，对反应釜2内部的八甲基环四硅氧烷与萃取剂和吸附剂进行搅拌混合处理，转动轴42旋转带刮板45旋转，对反应釜2内壁上的残留物进行清理；对金属杂质进行过滤时，通过控制器9启动吸泵51工作，吸泵51工作将反应釜2内部的乳化混合层液体通过连接管53抽取到过滤箱52的内部，通过熔喷非织造基54对乳化混合层液体进行过滤，从而获得了稳定的金属杂质去除效果，通过设置上层清液输送管7，将反应釜2内部上层的八甲基环四硅氧烷输送至精馏塔3的内部从而进行精馏处理，精馏分离部分残留吸附剂、萃取剂，同时去除八甲基环四硅氧烷中的高低沸点，得到高纯八甲基环四硅氧烷。 [0035] 文中出现的电器元件均与控制器及电源电连接，本实用新型的控制方式是通过控制器来控制的，控制器的控制电路通过本领域的技术人员简单编程即可实现，电源的提供也属于本领域的公知常识，并且本实用新型主要用来保护机械装置，所以本实用新型不再详细解释控制方式和电路连接，该装置通过外置电源进行供电。 [0036] 需要说明的是，在本文中，诸如第一和第二等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来，而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含，从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者设备不仅包括那些要素，而且还包括没有明确列出的其他要素，或者是还包括为这种过程、方法、物品或者设备所固有的要素。在没有更多限制的情况下，由语句“包括一个……”限定的要素，并不排除在包括所述要素的过程、方法、物品或者设备中还存在另外的相同要素。 |
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