一种立体浮雕型陶瓷砖及其制备方法
| 专利类型 | 发明公开 | 法律事件 | 公开; 实质审查; |
| 专利有效性 | 实质审查 | 当前状态 | 实质审查 |
| 申请号 | CN202411714185.2 | 申请日 | 2024-11-27 |
| 公开(公告)号 | CN119591423A | 公开(公告)日 | 2025-03-11 |
| 申请人 | 江西格仕祺陶瓷有限公司; | 申请人类型 | 企业 |
| 发明人 | 刘春良; | 第一发明人 | 刘春良 |
| 权利人 | 江西格仕祺陶瓷有限公司 | 权利人类型 | 企业 |
| 当前权利人 | 江西格仕祺陶瓷有限公司 | 当前权利人类型 | 企业 |
| 省份 | 当前专利权人所在省份：江西省 | 城市 | 当前专利权人所在城市：江西省宜春市 |
| 具体地址 | 当前专利权人所在详细地址：江西省宜春市高安市省建筑陶瓷产业基地 | 邮编 | 当前专利权人邮编：330800 |
| 主IPC国际分类 | C04B41/89 | 所有IPC国际分类 | C04B41/89 ; C04B41/86 ; C03C8/20 ; C03C8/06 ; E04F13/14 ; B28B1/00 ; B28B17/02 ; B28B11/00 ; B28B11/04 ; B28B11/08 ; B28B11/24 |
| 专利引用数量 | 0 | 专利被引用数量 | 0 |
| 专利权利要求数量 | 8 | 专利文献类型 | A |
| 专利代理机构 | 南昌市赣昌知识产权代理事务所 | 专利代理人 | 张海波; |
| 摘要 | 本 发明 公开了一种立体浮雕型 陶瓷砖 及其制备方法，一种立体浮雕型陶瓷砖，从下至上依次包括 基础 层、底釉层、立体层、釉 面层 和 抛光 层，所述基础层位于陶瓷砖底层，厚度8‑10mm，所述底釉层是在基础层上施加底釉后形成，厚度0.5‑1mm，所述立体层是在底釉层上进行喷墨打印后形成的图案层，厚度1.5‑2.5mm，所述釉面层是在立体层上施加面釉后形成，厚度0.4‑0.8mm，所述抛光层是在釉面层上进行抛光处理后形成。本发明通过超白底釉、多层喷墨打印立体层、面釉层采用多层叠釉的结合，使得立体浮雕型陶瓷砖能够清晰体现原石肌理和质感，具有更好的视觉冲击 力 和艺术表现力，提升陶瓷砖的立体效果和艺术观赏性，满足市场对于高端装饰陶瓷砖的需求。 | ||
| 权利要求 | 1.一种立体浮雕型陶瓷砖，其特征在于，从下至上依次包括基础层、底釉层、立体层、釉面层和抛光层，所述基础层位于陶瓷砖底层，厚度8‑10mm，所述底釉层是在基础层上施加底釉后形成，厚度0.5‑1mm，所述立体层是在底釉层上进行喷墨打印后形成的图案层，厚度 |
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| 说明书全文 | 一种立体浮雕型陶瓷砖及其制备方法技术领域[0001] 本发明涉及陶瓷砖技术领域，尤其涉及一种立体浮雕型陶瓷砖及其制备方法。 背景技术[0002] 随着人们生活水平的提高，对装饰的要求也越来越高，陶瓷砖作为一种常见的建筑材料，其外观和质感直接影响到装饰效果，传统的陶瓷砖大多以平面为主，缺乏立体感和艺术性，难以满足现代消费者对于个性化和艺术化的追求，消费者不仅需要陶瓷砖具有基 本的装饰和实用功能，更希望陶瓷砖能够展现出独特的艺术魅力和个性表达，特别是在高 端市场，消费者对于瓷砖的质感和视觉效果有着更高的期待，他们更倾向于选择那些能够 提供自然石材质感和立体效果的产品。在此背景下，立体浮雕型陶瓷砖应运而生，因其独特的立体感和逼真的装饰效果而受到青睐，这种陶瓷砖不仅能够增加空间的层次感和艺术 感，还能通过不同的浮雕图案和质感，营造出独特的装饰氛围。然而，现有的技术中，实现立体浮雕效果的陶瓷砖大部分存在纹理较为单一、浮雕图案不够清晰且不能体现原石凹凸肌 理的天然效果，缺乏原石的质感和层次。因此，有必要开发一种具有清晰图案、能够体现原石肌理和质感的陶瓷砖，以满足市场对高品质装饰产品的需求。 发明内容[0003] 本发明目的在于提供一种立体浮雕型陶瓷砖及其制备方法，通过超白底釉、多层喷墨打印立体层、面釉层采用多层叠釉的结合，使得立体浮雕型陶瓷砖能够清晰体现原石 肌理和质感，以提升陶瓷砖的立体效果和艺术观赏性。 [0004] 为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：一种立体浮雕型陶瓷砖，从下至上依次包括基础层、底釉层、立体层、釉面层和抛 光层，所述基础层位于陶瓷砖底层，厚度8‑10mm，所述底釉层是在基础层上施加底釉后形成，厚度0.5‑1mm，所述立体层是在底釉层上进行喷墨打印后形成的图案层，厚度1.5‑ 2.5mm，所述釉面层是在立体层上施加面釉后形成，厚度0.4‑0.8mm，所述抛光层是在釉面层上进行抛光处理后形成。 [0005] 进一步的，所述底釉包括以下重量份的原料：钾长石20‑25份、锂辉石8‑10份、高岭土15‑18份、石英粉10‑12份、锆砂16‑20份、碳酸钙2‑4份、煅烧白云石4‑6份，磷酸三钙2‑4份、超白熔块12‑16份。 [0006] 进一步的，所述超白熔块的化学组成具体如下：SiO2：48‑52%、Al2O3：10‑13%、ZrO2：12‑15%、MgO：8‑12%、Li2O：1‑3%、Na2O：0‑1%、ZnO：8‑10%、BaO：2‑4%、TiO2：4‑6%。 [0007] 进一步的，所述面釉包括以下重量份的原料：钾长石20‑25份、高岭土10‑12份、石英粉10‑12份、碳酸锶18‑22份、硅酸钠10‑15份、碳酸钙3‑5份、磷酸三钙2‑4份、烷基硫酸盐0.1‑0.3份、聚氧乙烯脂肪醇醚0.1‑0.3份、透明熔块20‑25份。 [0008] 进一步的，所述透明熔块的化学组成具体如下：SiO2：50‑55%、Al2O3：10‑12%、CaO：5‑8%、MgO：2‑5%、K2O：2‑5%、Na2O：2‑5%、B2O3：6‑8%、SrO：8‑10%、ZnO：5‑8%、Li2O：1‑3%、CaF2： 0.5‑1%、SnO2：1‑3%。 [0009] 立体浮雕型陶瓷砖的制备方法，包括以下步骤：S1：通过配料、球磨、过筛、喷雾造粒、陈腐、成型、干燥、烧杂，获得陶瓷砖的基础 层； S2：按照底釉及面釉的原料组成分别配料、球磨、过筛获得底釉浆及面釉浆； S3：在步骤S1中获得的基础层上施加底釉浆，采用梯度干燥的方式，先在40‑50℃ 下干燥30‑40分钟，然后再在60‑70℃下干燥20‑30分钟，干燥后形成底釉层； S4：对底釉层进行预热处理，温度控制在60‑70℃，采用多层喷墨打印方式在底釉 层上喷印装饰图案，送入干燥炉在110‑115℃干燥80‑90分钟，形成立体层； S5：在立体层上采用多层叠釉方式施加面釉浆，干燥后放入窑炉中，控制升温速率 为5‑10℃/分钟，先在780‑800℃下低温烧制2‑3小时，后在1200‑1220℃下高温烧制6‑8小时，形成面釉层； S6：将步骤S5所得的半成品进行抛光，形成抛光层，即制得立体浮雕型陶瓷砖。 [0010] 进一步的，步骤S4中所述多层喷墨打印是先在底釉层上打印一层较薄的基础图案层，厚度约0.5‑1mm，低温烘干后再进行第二层及后续层的打印，直至达到立体层的设定厚度，每次打印后在60‑80℃下干燥15‑30分钟。 [0011] 进一步的，步骤S5中所述多层叠釉是在立体层上分层施釉，施釉总层数控制在3‑5层之间，每次施釉厚度控制在0.1‑0.2毫米之间，每次施釉后在60‑80℃下干燥20‑25分钟。 [0012] 与现有技术相比，本发明的有益效果是：本发明通过超白底釉、多层喷墨打印立体层、面釉层采用多层叠釉的结合，使得立 体浮雕型陶瓷砖能够清晰体现原石肌理和质感，具有更好的视觉冲击力和艺术表现力，提 升陶瓷砖的立体效果和艺术观赏性，满足市场对于高端装饰陶瓷砖的需求。 [0013] 1、本发明采用的底釉配方中包含超白熔块，提供了一个超白的基层，为后续立体浮雕效果的呈现打下了良好的基础，这种超白底釉能够更好地模拟天然石材的纯净背景 色，使得立体浮雕图案更加清晰、鲜明和生动。 [0014] 2、本发明通过多层喷墨打印，能够在底釉层上精确复刻原石的细节与质感，完美呈现原石的肌理，使得陶瓷砖的装饰效果更加接近天然石材，提升了产品的装饰价值和市 场竞争力。 [0015] 3、本发明通过多层叠釉工艺，能够形成均匀、光滑且具有立体感的釉面层，且使得釉面更加温润，极大地提升了陶瓷砖的装饰效果和使用体验。 具体实施方式[0017] 一种立体浮雕型陶瓷砖，从下至上依次包括基础层、底釉层、立体层、釉面层和抛光层，基础层位于陶瓷砖底层，厚度8‑10mm，底釉层是在基础层上施加底釉后形成，厚度0.5‑1mm，立体层是在底釉层上进行喷墨打印后形成的图案层，厚度1.5‑2.5mm，釉面层是在立体层上施加面釉后形成，厚度0.4‑0.8mm，抛光层是在釉面层上进行抛光处理后形成。 [0018] 底釉包括以下重量份的原料：钾长石20‑25份、锂辉石8‑10份、高岭土15‑18份、石英粉10‑12份、锆砂16‑20份、碳酸钙2‑4份、煅烧白云石4‑6份，磷酸三钙2‑4份、超白熔块12‑16份。 [0019] 钾长石作为网络形成剂，有助于形成釉的网络结构，增强釉的机械强度和化学稳定性，在高温下能够提供助熔作用，降低釉料的熔融温度，使釉料在烧制过程中更容易形成均匀的玻璃态物质，其20‑25%的比例能保证足够的助熔效果，又不会因含量过高而导致釉料的化学稳定性等性能受到影响。锂辉石作为辅助熔剂，可以提高釉料的白度，同时增强釉料的机械强度和热稳定性，防止釉面开裂，其8‑10%的比例可以保证与钾长石等其他原料协同作用，进一步优化底釉的烧成性能。高岭土作为釉料的粘结剂和填充剂，能够提高釉料的塑性和成型性，有助于釉层的形成、和基础层的结合，还能提高釉面的白度和遮盖力，同时有助于调整釉料的膨胀系数，其15‑18%的比例可以确保釉料在施釉过程中不发生沉降和分层，保持釉层的均匀分布。石英粉主要成分是二氧化硅（SiO2），也是网络形成剂，与钾长石共同作用形成底釉的骨架，同时能够提高釉料的机械强度和耐磨性，增加釉面的化学稳定 性，在烧制过程中，石英粉能够提高釉料的熔融温度范围，有助于控制釉料的烧成过程，使釉面更加均匀，其10‑12%的比例可以在不使熔融温度过高的情况下，有效地提高釉料的硬度、耐磨性和化学稳定性。锆砂可以提高釉面的白度和遮盖力，同时还能增强釉面的化学稳定性和耐磨性，有助于形成均匀、稳定且具有良好遮盖效果的纯白底釉，其16‑20%的比例能够保证锆砂充分发挥其提高白度、遮盖力、化学稳定性和耐磨性的作用，，使立体图案更加清晰持久。碳酸钙作为助熔剂，在烧成过程中分解产生氧化钙，氧化钙可以与其他成分发生反应，降低底釉的烧成温度，提高釉料的流动性，有助于釉料的均匀涂覆，同时还可以改善底釉的光泽度，其2‑4%的比例能辅助降低釉料的熔点，同时调节流动性。煅烧白云石可以提高釉料的机械强度和热稳定性，同时有助于调整釉料的膨胀系数，保证釉料与坯体的匹配 性，其4‑6%的比例可以起到助熔和改善性能的作用，同时也不影响底釉的烧成温度。磷酸三钙能够提高釉料的粘结力和耐磨性，其2‑4%的比例可以增强釉料的附着力，使釉面更加牢固和耐用。超白熔块提供釉面的高白度和光泽度，使釉面更加白净、明亮。 [0020] 超白熔块的化学组成具体如下：SiO2：48‑52%、Al2O3：10‑13%、ZrO2：12‑15%、MgO：8‑12%、Li2O：1‑3%、Na2O：0‑1%、ZnO：8‑10%、BaO：2‑4%、TiO2：4‑6%。 [0021] SiO2作为主要的网络形成剂，其48‑52%的比例为熔块提供基本的玻璃网络结构，有助于提高釉料的稳定性和耐高温性能。Al2O3是助熔剂，能够降低釉料的熔点，促进其他成分的均匀分布和结合，还能够增强釉料的化学稳定性，其10‑13%的比例可以有效降低釉料的熔点，增加釉料的流动性。ZrO2有利于提高底釉白度和光泽度，提高其对基础层颜色的遮盖能力，同时还能增强釉料的耐磨性和化学稳定性，其12‑15%的比例可以有效改善釉料的光学性能，使釉面更加白净明亮。MgO在釉料中起到助熔剂和稳定剂的作用，有助于降低釉料的熔融温度，提高釉料的流动性和均匀性。同时，MgO还能够增强釉面的光泽度和白度，提高陶瓷砖的整体美观度，其8‑12%的比例能够有效优化釉料的熔融性能和釉面的质量。Li2O具有较低的熔点，能够促进釉料的熔融和流动，还有助于提高釉面的光泽度和透明度，使釉面更加明亮、洁净，其比例不能过高，否则会影响釉面硬度。Na2O作为助熔剂，可以降低熔块的熔化温度，提高其流动性，有助于釉料的均匀涂覆且改善釉料的热膨胀性能，同时，还能提高釉料的光泽度和白度，其比例不能过高，否则会导致釉料的化学稳定性下降。ZnO在釉料中起到增白剂和乳浊剂的作用，能够显著提高釉面的白度、光泽度及不透明度，同时作为稳定剂，还能防止釉料在高温下变色，其8‑10%的比例能够确保釉面的高白度和稳定性。BaO可以提高釉料的折射率，从而提高陶瓷砖的光泽度，同时也能在一定程度上起到助熔的作 用，有助于熔块的熔融和烧结，其2‑4%的比例能够在不影响底釉其他性能的前提下，提高底釉的折射率和光泽度，如果比例过高，会影响底釉的化学稳定性和颜色稳定性。TiO2作为乳浊剂，能显著提高釉料的白度和不透明度和遮盖力，能够散射光线，使底釉看起来更白，并且可以遮盖底釉中的一些杂质或颜色不均匀性，提高外观质量，同时还可以提高釉料的机 械强度和化学稳定性，其4‑6%的比例能够有效起到提高遮盖力和白度的作用，比例过高可能会影响底釉的颜色稳定性，导致底釉颜色偏黄等现象。 [0022] 面釉包括以下重量份的原料：钾长石20‑25份、高岭土10‑12份、石英粉10‑12份、碳酸锶18‑22份、硅酸钠10‑15份、碳酸钙3‑5份、磷酸三钙2‑4份、烷基硫酸盐0.1‑0.3份、聚氧乙烯脂肪醇醚0.1‑0.3份、透明熔块20‑25份。 [0023] 钾长石、高岭土、石英粉、碳酸钙、磷酸三钙在面釉中的作用与底釉相同，碳酸锶（SrCO3）是主要的高光亮成分，碳酸锶在烧制过程中分解产生氧化锶，氧化锶可以提高釉面的光泽度和透明度，同时还能改善釉面的温润感，有助于面釉达到高光亮、透明性高和温润感好的特点，其18‑22%的比例，可以确保釉面的高光亮度，使立体图案更加鲜明。硅酸钠（Na2SiO3）可以提高釉面的透明度和流动性，有助于形成光滑的表面，其10‑15%的比例，可以有效增强釉面的光泽度。烷基硫酸盐作为表面活性剂，能够改善釉浆的稳定性和流动性，同时有助于清除釉料中的杂质，保持釉面的纯净和光洁，有助于提高釉料的透明度和光泽，聚氧乙烯脂肪醇醚作为润湿剂，能够提高釉料的润湿性和附着力，烷基硫酸盐和聚氧乙烯脂肪醇醚的比例不能过高，否则影响釉料的化学稳定性。透明熔块可以提高釉料的熔融性能 和流动性，使釉面更加光滑和透明。 [0024] 透明熔块的化学组成具体如下：SiO2：50‑55%、Al2O3：10‑12%、CaO：5‑8%、MgO：2‑5%、K2O：2‑5%、Na2O：2‑5%、B2O3：6‑8%、SrO：8‑10%、ZnO：5‑8%、Li2O：1‑3%、CaF2：0.5‑1%、SnO2：1‑3%。 [0025] 透明熔块中的SiO2作为网络形成剂，能够形成坚固的玻璃状结构，提高釉的耐久性和光泽度，Al2O3是助熔剂，能够降低釉料的熔点，增加釉料的流动性，同时可以提高釉面的透明度和光泽度，CaO、MgO可以提高釉面的耐热性和稳定性，同时增强釉面的光泽度， K2O、Na2O可以调节釉料的膨胀系数，使其与陶瓷基体的膨胀系数相匹配，减少应力和裂纹，K2O同时还有助于提高釉的硬度和耐磨性，B2O3可以降低釉料的熔融温度，提高流动性，从而有助于形成光滑的表面和高光泽度，SrO可以提高釉面的光泽度和透明度，与碳酸锶协同作用，增强釉面的高光亮度，ZnO可以提高釉面的硬度和光泽度，增强釉面的抗划伤能力，Li2O进一步降低釉料的熔融温度，提高釉面的透明度和光泽度，CaF2可以提高釉料的流动性，减少气泡和缺陷，使釉面更加光滑，SnO2可以提高釉面的光泽度和透明度，同时增强釉面的耐磨性。 [0026] 立体浮雕型陶瓷砖的制备方法，包括以下步骤：S1：通过配料、球磨、过筛、喷雾造粒、陈腐、成型、干燥、烧杂，获得陶瓷砖的基础 层； S2：按照底釉及面釉的原料组成分别配料、球磨、过筛获得底釉浆及面釉浆； S3：在步骤S1中获得的基础层上施加底釉浆，采用梯度干燥的方式，先在40‑50℃ 下干燥30‑40分钟，然后再在60‑70℃下干燥20‑30分钟，干燥后形成底釉层； 通过梯度干燥可以充分排除釉层中的水分和空气，使底釉层水分缓慢而均匀地蒸 发，避免因干燥应力导致的底釉层裂纹，提高釉层的质量，减少烧制过程中的缺陷。 [0027] S4：对底釉层进行预热处理，温度控制在60‑70℃，采用多层喷墨打印方式在底釉层上喷印装饰图案，送入干燥炉在110‑115℃干燥80‑90分钟，形成立体层；多层喷墨打印是先在底釉层上打印一层较薄的基础图案层，厚度约0.5‑1mm，低温烘干后再进行第二层及后续层的打印，直至达到立体层的设定厚度，每次打印后在60‑80℃下干燥15‑30分钟。 [0028] 通过对底釉层进行预热处理，可以更好地激活底釉层中的成分，提高底釉的附着力，同时使底釉层的表面更加干燥和平整，避免喷墨墨水可能因水分而扩散导致图案模糊，有利于喷墨打印图案的清晰度和准确性。每次打印后进行低温干燥，可以确保每一层图案 的稳定性和附着力，避免层间粘连和变形，逐层打印可以确保立体层的清晰度、层次感和立体感，实现复杂的立体装饰图案效果，如不同颜色和纹理的叠加，使立体浮雕效果更加逼 真。通过多层喷墨打印将天然石材的纹理、色彩及细节精准复刻于底釉层之上，可以实现高度仿真效果，提升瓷砖的视觉美感和质感。通过控制干燥温度和干燥时间，使喷墨墨水充分干燥固化，确保立体层的均匀干燥及稳定性，从而形成稳定的立体层。 [0029] S5：在立体层上采用多层叠釉方式施加面釉浆，干燥后放入窑炉中，控制升温速率为5‑10℃/分钟，先在780‑800℃下低温烧制2‑3小时，后在1200‑1220℃下高温烧制6‑8小时，形成面釉层；多层叠釉是在立体层上分层施釉，施釉总层数控制在3‑5层之间，每次施釉厚度控制在0.1‑0.2毫米之间，每次施釉后在60‑80℃下干燥20‑25分钟。 [0030] 每次施釉后进行低温干燥，可以确保每层釉面干燥充分，防止层间出现气泡等问题，确保每一层面釉的稳定性和附着力，避免面釉层之间的相互影响，通过多层叠釉，可以更好地控制釉层的厚度和均匀性，相比于一次性施釉，多层叠釉可以更好地填补立体层表 面的微小凹凸不平，从而提高釉面的平整度和光泽度，并使面釉层的耐磨等级达到5级以 上，具有优异的耐磨性能。同时，多层叠釉还使得釉面更加温润平滑，易于清洁。低温烧制用以确保面釉层的初步结合，使釉层中的有机物（如烷基硫酸盐和聚氧乙烯脂肪醇醚等添加 剂）缓慢分解和挥发，避免因有机物快速燃烧产生的气体对釉层结构造成破坏，高温烧制用以使釉层充分熔融，提高釉层的致密性、硬度和光泽度，高温烧制还可以促进釉层与立体层之间的结合，使整个陶瓷砖的结构更加牢固，同时也有助于提高陶瓷砖的耐磨性和耐腐蚀 性等性能。 [0031] S6：将步骤S5所得的半成品进行抛光，形成抛光层，即制得立体浮雕型陶瓷砖。 [0032] 通过抛光，使陶瓷砖表面更加光滑平整，同时增强抗污和耐腐蚀性能。同时，抛光层还具有良好的透光性，能够凸显釉面层的温润质感。实施例 [0033] 一种立体浮雕型陶瓷砖，从下至上依次包括基础层、底釉层、立体层、釉面层和抛光层，基础层位于陶瓷砖底层，厚度10mm，底釉层是在基础层上施加底釉后形成，厚度0.8mm，立体层是在底釉层上进行喷墨打印后形成的图案层，厚度2mm，釉面层是在立体层上施加面釉后形成，厚度0.6mm，抛光层是在釉面层上进行抛光处理后形成。 [0034] 底釉包括以下重量份的原料：钾长石20份、锂辉石10份、高岭土15份、石英粉12份、锆砂18份、碳酸钙2份、煅烧白云石5份，磷酸三钙3份、超白熔块15份。 [0035] 超白熔块的化学组成具体如下：SiO2：48%、Al2O3：10%、ZrO2：13%、MgO：8%、Li2O：2%、Na2O：1%、ZnO：11%、BaO：2%、TiO2：5%。 [0036] 面釉包括以下重量份的原料：钾长石20份、高岭土10份、石英粉10份、碳酸锶20份、硅酸钠10份、碳酸钙4份、磷酸三钙4份、烷基硫酸盐0.2份、聚氧乙烯脂肪醇醚0.2份、透明熔块21.6份。 [0037] 透明熔块的化学组成具体如下：SiO2：51%、Al2O3：12%、CaO：6%、MgO：2%、K2O：2%、Na2O：3%、B2O3：6%、SrO：8%、ZnO：6%、Li2O：1%、CaF2：1%、SnO2：2%。 [0038] 立体浮雕型陶瓷砖的制备方法，包括以下步骤：S1：采用常规方法通过配料、球磨、过筛、喷雾造粒、陈腐、成型、干燥、烧杂，获得陶 瓷砖的基础层； S2：按照底釉及面釉的原料组成分别配料、球磨、过筛获得底釉浆及面釉浆； S3：在步骤S1中获得的基础层上施加底釉浆，采用梯度干燥的方式，先在45℃下干 燥40分钟，然后再在70℃下干燥30分钟，干燥后形成底釉层； S4：对底釉层进行预热处理，温度控制在65℃，采用多层喷墨打印方式在底釉层上 喷印已设计好的装饰图案，先在底釉层上打印一层较薄的基础图案层，厚度0.6mm，低温烘干后再进行第二层及后续层的打印，直至达到立体层的设定厚度2mm，每次打印后在70℃下干燥25分钟，全部打印好后，送入干燥炉在110℃干燥80分钟，形成立体层； S5：在立体层上采用多层叠釉方式施加面釉浆，多层叠釉是在立体层上分层施釉， 施釉总层数控制在3‑5层之间，每次施釉厚度控制在0.2毫米之间，每次施釉后在70℃下干燥25分钟，最后一次施釉干燥后放入窑炉中，控制升温速率为6℃/分钟，先在780℃下低温烧制2.5小时，后在1210℃下高温烧制6小时，形成面釉层； S6：将步骤S5所得的半成品进行抛光，形成抛光层，即制得立体浮雕型陶瓷砖。 [0039] 对比例：与实施例一大致相同，不同之处在于，底釉和面釉采用目前常规配方配制，施加底 釉浆后直接在70℃下干燥50分钟，喷墨打印前未对底釉层预热，喷墨打印未分层打印，面釉采用单层喷釉方式，其他与实施例一相同。 [0040] 通过对比，实施例一所制陶瓷砖较对比例所制陶瓷砖，立体层图案更为清晰、逼真，更有层次感，立体效果更好，视觉效果更佳，且成品良率也有所提高。 |
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