一种具有渐变光泽效果与立体纹理的瓷砖及其制备方法
| 专利类型 | 发明公开 | 法律事件 | 公开; |
| 专利有效性 | 公开 | 当前状态 | 公开 |
| 申请号 | CN202510436943.7 | 申请日 | 2025-04-09 |
| 公开(公告)号 | CN119954386A | 公开(公告)日 | 2025-05-09 |
| 申请人 | 广东简一(集团)陶瓷有限公司; 广西简一陶瓷有限公司; 清远市简一陶瓷有限公司; | 申请人类型 | 企业 |
| 发明人 | 黄文锋; 胡益峰; 郭惠法; 田先见; 李剑波; | 第一发明人 | 黄文锋 |
| 权利人 | 广东简一(集团)陶瓷有限公司,广西简一陶瓷有限公司,清远市简一陶瓷有限公司 | 权利人类型 | 企业 |
| 当前权利人 | 广东简一(集团)陶瓷有限公司,广西简一陶瓷有限公司,清远市简一陶瓷有限公司 | 当前权利人类型 | 企业 |
| 省份 | 当前专利权人所在省份：广东省 | 城市 | 当前专利权人所在城市：广东省佛山市 |
| 具体地址 | 当前专利权人所在详细地址：广东省佛山市禅城区季华一路28号四座201室、301-304、401-404、501-502房 | 邮编 | 当前专利权人邮编：528000 |
| 主IPC国际分类 | C03C8/00 | 所有IPC国际分类 | C03C8/00 ; C03C8/02 ; C03C8/04 ; C04B41/89 |
| 专利引用数量 | 0 | 专利被引用数量 | 0 |
| 专利权利要求数量 | 10 | 专利文献类型 | A |
| 专利代理机构 | 佛山市恒瑞知识产权代理事务所 | 专利代理人 | 颜彦月; |
| 摘要 | 本 发明 涉及建筑陶瓷领域，公开一种具有渐变光泽效果与立体纹理的瓷砖及其制备方法，包括以下步骤：S1、将坯体粉料 压制成型 ，获得坯体层；S2、在坯体层表面施底釉，获得底釉层；S3、在底釉层表面喷墨打印纹理，获得图案层；S4、在图案层表面印刷高光釉，获得高光釉层；S5、在高光釉层表面 喷涂 哑光釉，获得哑光釉层；S6、在哑光釉层进行激光雕刻，获得立体纹理；S7、烧制成型，得到具有渐变光泽效果与立体纹理的瓷砖。本发明通过采用高折射率的高光釉与低折射率的哑光釉进行复配，通过局部遮盖以及烧成时的熔融程度差异实现 温度 、光泽、玻化度程度的不同，从而使烧后釉面在光的反射作用下，呈现出渐变光泽和立体纹理的效果。 | ||
| 权利要求 | 1.一种具有渐变光泽效果与立体纹理的瓷砖的制备方法，其特征在于，包括以下步骤： |
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| 说明书全文 | 一种具有渐变光泽效果与立体纹理的瓷砖及其制备方法技术领域[0001] 本发明涉及建筑陶瓷领域，特别涉及一种具有渐变光泽效果与立体纹理的瓷砖及其制备方法。 背景技术[0002] 陶瓷砖凭借着其优异的性能和装饰效果，广受消费者的青睐，并在建筑行业和人们日常生活中得到广泛的应用。目前市场上的陶瓷砖大体可以分为高光釉面砖和哑光釉面砖，光泽度比较单一。现有技术中通过喷墨叠加亮光和哑光墨水实现亮光和哑光的过渡效果，但具有釉面光感过渡不自然，成本高等缺陷，图案纹理层次感差，不够立体。因此，研究和开发能够使光通过釉面反射后呈现出渐变光泽效果与立体纹理的瓷砖成为亟待解决的难题。 发明内容[0003] 本发明的主要目的是提出一种具有渐变光泽效果与立体纹理的瓷砖及其制备方法，制得的瓷砖釉面具有自然渐变光泽和三维立体纹理。 [0004] 为实现上述目的，本发明提出一种具有渐变光泽效果与立体纹理的瓷砖的制备方法，包括以下步骤：S1、将坯体粉料压制成型，干燥后，获得坯体层； S2、在所述坯体层表面施底釉，获得底釉层； S3、在所述底釉层表面喷墨打印纹理，获得图案层； S4、在所述图案层表面采用丝网印刷高光釉，获得高光釉层； S5、在所述高光釉层表面采用高压喷釉柜喷涂哑光釉，获得哑光釉层； S6、在所述哑光釉层表面进行激光雕刻，获得立体纹理； S7、烧制成型，即得到所述具有渐变光泽效果与立体纹理的瓷砖； 其中，步骤S4中的所述高光釉的制备原料，以重量份数计，包括：钾长石28～40份、石英17～25份、高岭土8～15份、高透明熔块10～16份、五氧化二铌2～4份、白云石7～14份、硅酸锆1～4份、珍珠岩1.5～4份和纳米材料2～4份； 步骤S5中的所述哑光釉的制备原料，以重量份数计，包括：高温干粒30～45份、中温干粒8～12份、乳浊剂6～15份、悬浮剂20～35份、辅助剂11～23份和水8～13份。 [0005] 本发明通过采用高折射率的高光釉与低折射率的哑光釉进行复配，通过局部遮盖以及烧成时的熔融程度差异实现温度、光泽、玻化度程度的不同，从而使烧后釉面在光的反射作用下，呈现出渐变光泽的效果。 [0006] 优选地，所述纳米材料为SiO2包覆TiO2粉体。采用SiO2包覆TiO2粉体能增强釉面性能，改善釉面硬度和耐磨性。 [0007] 优选地，所述高透明熔块的化学组成以质量百分比计，包括：SiO260%～75%； Al2O35%～15%； B2O35%～10%； Na2O和/或K2O10%～20%； CaO和/或MgO1%～5%； ZnO0%～5%； 所述高温干粒的化学组成以质量百分比计，包括： SiO250%～70%； Al2O310%～25%； B2O30%～8%； ZnO0%～5%； ZrO20%～5%； 碱金属氧化物2%～10%； 碱土金属氧化物5%～15%； 所述中温干粒的化学组成以质量百分比计，包括： SiO252%～66%； Al2O310%～12%； Na2O和/或K2O5%～15%； ZnO5%～7%； SrO2%～3%； 碱土金属氧化物9%～15.5%； 所述碱金属氧化物为Na2O、K2O和Li2O中的至少一种；所述碱土金属氧化物为CaO、MgO和BaO中的至少一种。 [0008] 优选地，所述高光釉层的厚度为180～360μm，所述高光釉层的折射率为1.68～1.72；所述哑光釉层的厚度为90～180μm，所述哑光釉层的折射率为1.45～1.55。调控高光釉层和哑光釉层之间的折射率，利用二者烧后不同的折射率所形成的光泽差，从而达到釉面良好的渐变光泽效果。 [0011] 优选地，步骤S6中，在所述哑光釉层表面雕刻形成深度为10～50μm的立体纹理。因高折射釉层与低折射釉层的局部错位堆叠而形成的二维纹理，叠加上釉层表面激光雕刻后形成的三维纹理，能增强瓷砖表面图案的立体效果，纹理更真实，更还原。 [0012] 优选地，所述坯体层的制备原料，以重量份数计，包括：高岭土10～15份、钾钠石粉12～16份、高铝钾砂6～11份、钠石粉10～13份、钾砂9～14份、原矿坭14～19份、黑滑石2～5份、抛光废渣3～8份、水洗砂9～14份、水洗坭5～9份和添加剂0.8～1.5份。 [0013] 优选地，步骤S7中，烧制温度为1180～1225℃，烧制时间为55～76min。 [0015] 为了更清楚地说明本申请实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅为本申请的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他相关的附图。 [0016] 图1为实施例1的釉面效果图一；图2为实施例1的釉面效果图二。 [0017] 本申请目的的实现、功能特点及优点将结合实施例，参照附图做进一步说明。 具体实施方式[0018] 下面将对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。需要说明的是，在不冲突的情况下，本申请中的实施例及实施例中的特征可以相互结合。同时，下述所提及的原料未详细说明的，均为市售产品；未详细提及的工艺步骤或制备方法均为本领域技术人员所知晓的工艺步骤或制备方法。 [0019] 本发明提供一种具有渐变光泽效果与立体纹理的瓷砖的制备方法，包括以下步骤：S1、将坯体粉料压制成型，干燥后，获得坯体层；优选地，坯体层的制备原料，以重量份数计，包括：高岭土10～15份、钾钠石粉12～16份、高铝钾砂6～11份、钠石粉10～13份、钾砂9～14份、原矿坭14～19份、黑滑石2～5份、抛光废渣3～8份、水洗砂9～14份、水洗坭5～9份和添加剂0.8～1.5份。 [0020] S2、在坯体层表面施底釉，经烘干箱干燥，干燥温度为80℃，干燥时间为30秒，获得底釉层；S3、在底釉层表面喷墨打印纹理，获得图案层； S4、在图案层表面采用丝网印刷高光釉，经烘干箱干燥，干燥温度为120℃，干燥时间为20秒，获得高光釉层，高光釉层的厚度为180～360μm，折射率为1.68～1.72；具体的，高光釉的制备原料，以重量份数计，包括：钾长石28～40份、石英17～25份、高岭土8～15份、高透明熔块10～16份、五氧化二铌2～4份、白云石7～14份、硅酸锆1～4份、珍珠岩1.5～4份和纳米材料2～4份。高透明熔块的化学组成以质量百分比计，包括：SiO2：60%～75%、Al2O3:5%～15%、B2O3：5%～10%、Na2O和/或K2O:10%～20%、CaO和/或MgO:1%～5%、ZnO：0%～5%。可以理解的是，在高透明熔块的化学组成中包括Na2O和K2O中的至少一种，且总量占比为10%～20%； 同理，高透明熔块的化学组成中包括CaO和MgO中的至少一种，且总量占比为1%～5%。优选地，纳米材料为SiO2包覆TiO2粉体。 [0021] S5、在高光釉层表面采用高压喷釉柜喷涂哑光釉，经烘干箱干燥，干燥温度为150℃，干燥时间为1分钟，获得哑光釉层，哑光釉层的厚度为90～180μm，折射率为1.45～1.55；具体的，哑光釉的制备原料，以重量份数计，包括：高温干粒30～45份、中温干粒8～12份、乳浊剂6～15份、悬浮剂20～35份、辅助剂11～23份和水8～13份。其中，高温干粒比中温干粒的烧结温度高30～40℃。高温干粒的化学组成以质量百分比计，包括：SiO2：50%～70%、Al2O3:10%～25%、B2O3：0%～8%、ZnO：0%～5%、ZrO2:0%～5%、碱金属氧化物:2%～10%、碱土金属氧化物:5%～15%；中温干粒的化学组成以质量百分比计，包括：SiO2：52%～66%、Al2O3:10%～ 12%、Na2O和/或K2O:5%～15%、ZnO：5%～7%、SrO:2%～3%、碱土金属氧化物:9%～15.5%。所述碱金属氧化物为Na2O、K2O和Li2O中的至少一种；所述碱土金属氧化物为CaO、MgO和BaO中的至少一种。可以理解的是，高温干粒的化学组成包括Na2O、K2O和Li2O中的至少一种，且总量占比为2%～10%；高温干粒的化学组成还包括CaO、MgO和BaO中的至少一种，且总量占比为5%～ 15%；中温干粒的化学组成包括Na2O和K2O中的至少一种，且总量占比为5%～15%；中温干粒的化学组成还包括CaO、MgO和BaO中的至少一种，且总量占比为9%～15.5%。 [0022] 优选地，乳浊剂包括硅酸锆和氟化钙中的一种或两种；辅助剂包括磷酸钙和四方氧化铝中的一种或两种。悬浮剂可采用公知的可用于釉料中的有机悬浮剂，本申请下述实施例中所采用的悬浮剂为干粒悬浮剂，采购自江西省千陶新型材料有限公司的干粒悬浮剂9022A。 [0023] S6、在哑光釉层表面雕刻形成深度为10～50μm的立体纹理。具体的，可以采用激光蚀刻机进行仿生纹理雕刻。 [0024] S7、烧制成型，烧制温度为1180～1225℃，烧制时间为55～76min，即得到所述具有渐变光泽效果与立体纹理的瓷砖。 [0025] 下面进一步列举实施例以详细说明本发明。同样应理解，以下实施例只用于对本发明进行进一步说明，不能理解为对本发明保护范围的限制。本领域的技术人员根据本发明的上述内容做出的一些非本质的改进和调整均属于本发明的保护范围。下述实施例具体的工艺参数也仅是合适范围中的一个实例，即本领域技术人员可以通过本文的说明做合适的范围内选择，而并非要限定于下文实例的具体数值。实施例中未注明具体条件者，按照常规条件或制造商建议的条件进行。 [0026] 示例性地，下述实施例和对比例中的底釉配方原料以质量份数计，为：钾长石25份、钠长石10份、石英22份、高岭土12份、方解石8份、滑石5份、氧化锌3份、碳酸钡3份、膨润土2份、硅酸锆10份。 [0028] 实施例1一种具有渐变光泽效果与立体纹理的瓷砖的制备方法，包括如下步骤： S1、将坯体粉料压制成型，干燥后，获得坯体层；坯体层的制备原料，以重量份数计，包括：高岭土13份、钾钠石粉12份、高铝钾砂8份、钠石粉11份、钾砂10份、原矿坭16份、黑滑石3份、抛光废渣6份、水洗砂12份、水洗坭8份和三聚磷酸钠1份。 [0029] S2、在坯体层表面施底釉，经烘干箱干燥，干燥温度为80℃，干燥时间为30秒，获得底釉层；S3、在底釉层表面喷墨打印纹理，获得图案层； S4、在图案层表面采用丝网印刷高光釉，经烘干箱干燥，干燥温度为120℃，干燥时间为20秒，获得高光釉层，高光釉层的厚度为180μm，折射率为1.72；高光釉的制备原料，以重量份数计，包括：钾长石28份、石英17份、高岭土15份、高透明熔块16份、五氧化二铌4份、白云石14份、硅酸锆1份、珍珠岩2份和SiO2包覆TiO2粉体2份。 [0030] 高透明熔块的化学组成以质量百分比计，包括：SiO2：60%、Al2O3:15%、B2O3：10%、Na2O：6%、K2O:4%、MgO:2%、ZnO：3%。 [0031] S5、在高光釉层表面采用高压喷釉柜喷涂哑光釉，经烘干箱干燥，干燥温度为150℃，干燥时间为1分钟，获得哑光釉层，哑光釉层的厚度为90μm，折射率为1.55；哑光釉的制备原料，以重量份数计，包括：高温干粒30份、中温干粒12份、硅酸锆6份、9022A 25份、磷酸钙19份和水8份。其中，高温干粒比中温干粒的烧结温度高40℃。 [0032] 高温干粒的化学组成以质量百分比计，包括：SiO2：50%、Al2O3:25%、B2O3：5%、K2O:2%、Li2O:2%、CaO：6%、BaO:4%、ZnO：3%、ZrO2:3%； 中温干粒的化学组成以质量百分比计，包括：SiO2：52%、Al2O3:10%、Na2O：10%、K2O: 4%、MgO：9%、BaO:6%、ZnO：7%、SrO:2%。 [0033] S6、在哑光釉层表面采用激光蚀刻机雕刻形成深度为10μm的三维纹理。 [0034] S7、烧制成型，烧制温度为1180℃，烧制时间为76min，即得到所述具有渐变光泽效果的瓷砖。 [0035] 实施例2一种具有渐变光泽效果与立体纹理的瓷砖的制备方法，包括如下步骤： S1、将坯体粉料压制成型，干燥后，获得坯体层；坯体层的制备原料，以重量份数计，包括：高岭土10份、钾钠石粉16份、高铝钾砂11份、钠石粉10份、钾砂9份、原矿坭19份、黑滑石2份、抛光废渣3份、水洗砂14份、水洗坭5份和水玻璃1份。 [0036] S2、在坯体层表面施底釉，经烘干箱干燥，干燥温度为80℃，干燥时间为30秒，获得底釉层；S3、在底釉层表面喷墨打印纹理，获得图案层； S4、在图案层表面采用丝网印刷高光釉，经烘干箱干燥，干燥温度为120℃，干燥时间为20秒，获得高光釉层，高光釉层的厚度为360μm，折射率为1.68；高光釉的制备原料，以重量份数计，包括：钾长石32份、石英17份、高岭土11份、高透明熔块14份、五氧化二铌4份、白云石14份、硅酸锆3份、珍珠岩2份和SiO2包覆TiO2粉体2份。 [0037] 高透明熔块的化学组成以质量百分比计，包括：SiO2：60%、Al2O3:15%、B2O3：10%、Na2O：6%、K2O:4%、MgO:2%、ZnO：3%。 [0038] S5、在高光釉层表面采用高压喷釉柜喷涂哑光釉，经烘干箱干燥，干燥温度为150℃，干燥时间为1分钟，获得哑光釉层，哑光釉层的厚度为180μm，折射率为1.45；哑光釉的制备原料，以重量份数计，包括：高温干粒45份、中温干粒8份、氟化钙6份、9022A 20份、四方氧化铝11份和水10份。其中，高温干粒比中温干粒的烧结温度高30℃。 [0039] 高温干粒的化学组成以质量百分比计，包括：SiO2：50%、Al2O3:25%、B2O3：5%、K2O:2%、Li2O:2%、CaO：6%、BaO:4%、ZnO：3%、ZrO2:3%； 中温干粒的化学组成以质量百分比计，包括：SiO2：52%、Al2O3:10%、Na2O：10%、K2O: 4%、MgO：9%、BaO:6%、ZnO：7%、SrO:2%。 [0040] S6、在哑光釉层表面采用激光蚀刻机雕刻形成深度为50μm的三维纹理。 [0041] S7、烧制成型，烧制温度为1225℃，烧制时间为55min，即得到所述具有渐变光泽效果的瓷砖。 [0042] 实施例3一种具有渐变光泽效果与立体纹理的瓷砖的制备方法，包括如下步骤： S1、将坯体粉料压制成型，干燥后，获得坯体层；坯体层的制备原料，以重量份数计，包括：高岭土15份、钾钠石粉12份、高铝钾砂6份、钠石粉12份、钾砂13份、原矿坭14份、黑滑石5份、抛光废渣8份、水洗砂9份、水洗坭5份和CMC 1份。 [0043] S2、在坯体层表面施底釉，经烘干箱干燥，干燥温度为80℃，干燥时间为30秒，获得底釉层；S3、在底釉层表面喷墨打印纹理，获得图案层； S4、在图案层表面采用丝网印刷高光釉，经烘干箱干燥，干燥温度为120℃，干燥时间为20秒，获得高光釉层，高光釉层的厚度为270μm，折射率为1.70；高光釉的制备原料，以重量份数计，包括：钾长石40份、石英17份、高岭土10份、高透明熔块13份、五氧化二铌2份、白云石14份、硅酸锆1份、珍珠岩2份和SiO2包覆TiO2粉体4份。 [0044] 高透明熔块的化学组成以质量百分比计，包括：SiO2：60%、Al2O3:15%、B2O3：10%、Na2O：6%、K2O:4%、MgO:2%、ZnO：3%。 [0045] S5、在高光釉层表面采用高压喷釉柜喷涂哑光釉，经烘干箱干燥，干燥温度为150℃，干燥时间为1分钟，获得哑光釉层，哑光釉层的厚度为130μm，折射率为1.50；哑光釉的制备原料，以重量份数计，包括：高温干粒36份、中温干粒10份、硅酸锆5份、氟化钙5份、9022A 20份、磷酸钙10份、四方氧化铝5份和水9份。其中，高温干粒比中温干粒的烧结温度高30℃。 [0046] 高温干粒的化学组成以质量百分比计，包括：SiO2：50%、Al2O3:25%、B2O3：5%、K2O:2%、Li2O:2%、CaO：6%、BaO:4%、ZnO：3%、ZrO2:3%； 中温干粒的化学组成以质量百分比计，包括：SiO2：52%、Al2O3:10%、Na2O：10%、K2O: 4%、MgO：9%、BaO:6%、ZnO：7%、SrO:2%。 [0047] S6、在哑光釉层表面采用激光蚀刻机雕刻形成深度为30μm的三维纹理。 [0048] S7、烧制成型，烧制温度为1200℃，烧制时间为65min，即得到所述具有渐变光泽效果的瓷砖。 [0049] 对比例1本对比例采用与实施例1相同的制备工艺及参数，区别仅在于： 高光釉的制备原料，以重量份数计，包括：钾长石28份、石英17份、高岭土15份、高透明熔块16份、五氧化二铌4份、白云石14份、硅酸锆1份和珍珠岩2份。 [0050] 对比例2本对比例采用与实施例1相同的制备工艺及参数，区别仅在于： 哑光釉的制备原料，以重量份数计，包括：高温干粒42份、硅酸锆6份、9022A 25份、磷酸钙19份和水8份。 [0051] 对比例3本对比例采用与实施例1相同的制备工艺及参数，区别仅在于： 哑光釉的制备原料，以重量份数计，包括：中温干粒42份、硅酸锆6份、9022A 25份、磷酸钙19份和水8份。 [0052] 对比例4本对比例采用与实施例1相同的制备工艺及参数，区别仅在于： 调整高光釉层的施釉厚度为150μm。 [0053] 对比例5本对比例采用与实施例1相同的制备工艺及参数，区别仅在于： 调整高光釉层的施釉厚度为400μm。 [0054] 对比例6本对比例采用与实施例1相同的制备工艺及参数，区别仅在于： 调整哑光釉层的施釉厚度为60μm。 [0055] 对比例7本对比例采用与实施例1相同的制备工艺及参数，区别仅在于： 调整哑光釉层的施釉厚度为200μm。 [0056] 对比例8一种具有渐变光泽效果与立体纹理的瓷砖的制备方法，包括如下步骤： S1、将坯体粉料压制成型，干燥后，获得坯体层；坯体层的制备原料，以重量份数计，包括：高岭土13份、钾钠石粉12份、高铝钾砂8份、钠石粉11份、钾砂10份、原矿坭16份、黑滑石3份、抛光废渣6份、水洗砂12份、水洗坭8份和三聚磷酸钠1份。 [0057] S2、在坯体层表面施底釉，经烘干箱干燥，干燥温度为80℃，干燥时间为30秒，获得底釉层；S3、在底釉层表面喷墨打印纹理，获得图案层； S4、在图案层表面采用高压喷釉柜喷涂哑光釉，经烘干箱干燥，干燥温度为150℃，干燥时间为1分钟，获得哑光釉层，哑光釉层的厚度为90μm，折射率为1.55；哑光釉的制备原料，以重量份数计，包括：高温干粒30份、中温干粒12份、硅酸锆6份、9022A 25份、磷酸钙19份和水8份。其中，高温干粒比中温干粒的烧结温度高40℃。 [0058] 高温干粒的化学组成以质量百分比计，包括：SiO2：50%、Al2O3:25%、B2O3：5%、K2O:2%、Li2O:2%、CaO：6%、BaO:4%、ZnO：3%、ZrO2:3%； 中温干粒的化学组成以质量百分比计，包括：SiO2：52%、Al2O3:10%、Na2O：10%、K2O: 4%、MgO：9%、BaO:6%、ZnO：7%、SrO:2%。 [0059] S5、在哑光釉层表面采用丝网印刷高光釉，经烘干箱干燥，干燥温度为120℃，干燥时间为20秒，获得高光釉层，高光釉层的厚度为180μm，折射率为1.72；高光釉的制备原料，以重量份数计，包括：钾长石28份、石英17份、高岭土15份、高透明熔块16份、五氧化二铌4份、白云石14份、硅酸锆1份、珍珠岩2份和SiO2包覆TiO2粉体2份。 [0060] 高透明熔块的化学组成以质量百分比计，包括：SiO2：60%、Al2O3:15%、B2O3：10%、Na2O：6%、K2O:4%、MgO:2%、ZnO：3%。 [0061] S6、在高光釉层表面采用激光蚀刻机雕刻形成深度为10μm的三维纹理。 [0062] S7、烧制成型，烧制温度为1180℃，烧制时间为76min，即得到所述具有渐变光泽效果的瓷砖。 [0063] 对比例9一种具有渐变光泽效果与立体纹理的瓷砖的制备方法，包括如下步骤： S1、将坯体粉料压制成型，干燥后，获得坯体层；坯体层的制备原料，以重量份数计，包括：高岭土13份、钾钠石粉12份、高铝钾砂8份、钠石粉11份、钾砂10份、原矿坭16份、黑滑石3份、抛光废渣6份、水洗砂12份、水洗坭8份和三聚磷酸钠1份。 [0064] S2、在坯体层表面施底釉，经烘干箱干燥，干燥温度为80℃，干燥时间为30秒，获得底釉层；S3、在底釉层表面喷墨打印纹理，获得图案层； S4、在图案层表面采用丝网印刷高光釉，经烘干箱干燥，干燥温度为120℃，干燥时间为20秒，获得高光釉层，高光釉层的厚度为180μm，折射率为1.72；高光釉的制备原料，以重量份数计，包括：钾长石28份、石英17份、高岭土15份、高透明熔块16份、五氧化二铌4份、白云石14份、硅酸锆1份、珍珠岩2份和SiO2包覆TiO2粉体2份。 [0065] 高透明熔块的化学组成以质量百分比计，包括：SiO2：60%、Al2O3:15%、B2O3：10%、Na2O：6%、K2O:4%、MgO:2%、ZnO：3%。 [0066] S5、在高光釉层表面采用激光蚀刻机雕刻形成深度为10μm的三维纹理。 [0067] S6、烧制成型，烧制温度为1180℃，烧制时间为76min，即得到所述具有渐变光泽效果的瓷砖。 [0068] 对比例10一种具有渐变光泽效果与立体纹理的瓷砖的制备方法，包括如下步骤： S1、将坯体粉料压制成型，干燥后，获得坯体层；坯体层的制备原料，以重量份数计，包括：高岭土13份、钾钠石粉12份、高铝钾砂8份、钠石粉11份、钾砂10份、原矿坭16份、黑滑石3份、抛光废渣6份、水洗砂12份、水洗坭8份和三聚磷酸钠1份。 [0069] S2、在坯体层表面施底釉，经烘干箱干燥，干燥温度为80℃，干燥时间为30秒，获得底釉层；S3、在底釉层表面喷墨打印纹理，获得图案层； S4、在图案层表面采用高压喷釉柜喷涂哑光釉，经烘干箱干燥，干燥温度为150℃，干燥时间为1分钟，获得哑光釉层，哑光釉层的厚度为90μm，折射率为1.55；哑光釉的制备原料，以重量份数计，包括：高温干粒30份、中温干粒12份、硅酸锆6份、9022A 25份、磷酸钙19份和水8份。其中，高温干粒比中温干粒的烧结温度高40℃。 [0070] 高温干粒的化学组成以质量百分比计，包括：SiO2：50%、Al2O3:25%、B2O3：5%、K2O:2%、Li2O:2%、CaO：6%、BaO:4%、ZnO：3%、ZrO2:3%； 中温干粒的化学组成以质量百分比计，包括：SiO2：52%、Al2O3:10%、Na2O：10%、K2O: 4%、MgO：9%、BaO:6%、ZnO：7%、SrO:2%。 [0071] S5、在哑光釉层表面采用激光蚀刻机雕刻形成深度为10μm的三维纹理。 [0072] S6、烧制成型，烧制温度为1180℃，烧制时间为76min，即得到所述具有渐变光泽效果的瓷砖。 [0073] 对实施例1～3和对比例1～10的瓷砖进行性能测试，测试方法及标准如下：1、耐磨性：采用GB/T 3810.7‑2016检测耐磨性能：观察砖面在特定研磨转数下研磨后的磨损情况，分为0～5级，其中，100转后可见磨损为0级，150转后可见磨损为1级，600转后可见磨损为2级，750/1500转后可见磨损为3级，2100/6000/12000转后可见磨损为4级,大于12000转后为5级。 [0074] 2、防污性：参照国标GB/T 3810.14‑2016检测防污性能：对表面处理剂处理后的砖面进行防污性能测试，测试原理为将污染剂（铬绿、碘酒和橄榄油等）与砖正面接触并使其作用一定时间，然后按规定的清洗方法清洗砖面，观察砖表面变化确定砖的耐污染性，等级分为1～5级，5级耐污染性能最好。 [0076] 4、表面纹理立体性：肉眼距离砖面0.5米以45°角度观测砖面，表面纹理是否存在高低落差的立体性。 [0077] 实施例1～3以及对比例1～10的测试结果如表1所示。 [0078] 表1由表1可知，实施例1～3的瓷砖釉面呈现渐变光泽的效果，光泽度渐变范围宽，60°入射角检测光泽度为5～70GU，如图1和图2所示，釉面三维纹理配合光泽变化，视觉效果更具立体感，且釉面物理性能好，耐磨性可达4级，防污性可达5级。 [0079] 对比例1的高光釉配方中不含纳米材料SiO2包覆TiO2粉体，釉面物理性能下降，耐磨性降低为2级。 [0080] 对比例2的哑光釉配方中不包含中温干粒，釉面温度高，表面多孔，防污性能降低为3级。 [0081] 对比例3的哑光釉配方中不包含高温干粒，釉面温度低，耐磨性能为2级，显著下降，釉面无明显光感变化。 [0082] 对比例4、5高光釉层过薄或过厚，釉面性能稍有减弱，光感差异减弱。 [0083] 对比例6、7哑光釉层过薄或过厚，釉面性能稍有减弱，光感差异减弱。 [0084] 对比例8先施哑光釉层，后施高光釉层，釉面耐磨性能降低为2级。 [0085] 对比例9、10不施哑光釉层或不施高光釉层，没有两种釉层的叠加作用，釉面不存在光感变化，表面立体感差。 |
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