用于纯化含有有机杂质的卤化氢溶液的方法专利检索-·溴溴化氢专利检索查询-专利查询网

用于纯化含有有机杂质的卤化氢溶液的方法

专利类型	发明公开	法律事件	公开; 实质审查;
专利有效性	实质审查	当前状态	实质审查
申请号	CN202280049979.4	申请日	2022-07-27
公开(公告)号	CN117642360A	公开(公告)日	2024-03-01
申请人	雅宝公司;	申请人类型	企业
发明人	J·T·阿普林; T·马尼玛兰; K·沙阿; B·凯尔; C·W·汉密尔顿;	第一发明人	J·T·阿普林
权利人	雅宝公司	权利人类型	企业
当前权利人	雅宝公司	当前权利人类型	企业
省份	当前专利权人所在省份：	城市	当前专利权人所在城市：
具体地址	当前专利权人所在详细地址：美国北卡罗来纳州	邮编	当前专利权人邮编：
主IPC国际分类	C01B7/07	所有IPC国际分类	C01B7/07 ; C01B7/13 ; C01B7/09
专利引用数量	0	专利被引用数量	0
专利权利要求数量	16	专利文献类型	A
专利代理机构	中国专利代理(香港)有限公司	专利代理人	李进; 林毅斌;
摘要	本公开涉及用于纯化卤化氢溶液的新型工厂方法。所述方法包括在所述卤化氢溶液中卤化有机化合物，特别是酚类化合物，以沉淀卤化的化合物。所述卤化的化合物能够被过滤，所述卤化氢溶液在吸附剂床上进一步纯化，并且清洁的卤化氢溶液能够被再循环或用于其他过程中。
权利要求	1.一种用于纯化含有酚类残余物的HX料流的方法，其包括：通过氧化卤化来处理所述HX料流以将所述酚类残余物卤化，从而产生卤化酚类残余物和卤化溶液；冷却所述卤化溶液；以及从所述卤化溶液中过滤所述卤化酚类残余物，以产生部分纯化的HX料流；其中所述HX料流包含HCl料流、HBr料流、HI料流或它们的组合。 2.如权利要求1所述的方法，其还包括使所述部分纯化的HX料流穿过吸附剂床，从而产生纯化的HX料流。 3.如权利要求1至2中任一项所述的方法，其中所述HX料流包含小于约5重量％的酚类残余物。 4.如权利要求1至2中任一项所述的方法，其中所述HX料流包含小于约1重量％的酚类残余物。 5.如权利要求1至4中任一项所述的方法，其中所述HX料流小于约30重量％HX。 6.如权利要求1至4中任一项所述的方法，其中所述HX料流小于约15重量％HX。 7.如权利要求1至6中任一项所述的方法，其中所述HX料流、所述部分纯化的HX料流和所述纯化的HX料流各自包含HBr。 8.如权利要求1至7中任一项所述的方法，其中所述氧化卤化是氧化溴化，并且所述卤素为溴。 9.如权利要求1至8中任一项所述的方法，其中所述氧化卤化在约60℃或高于约60℃进行。 10.如权利要求1至8中任一项所述的方法，其中所述氧化卤化在约90℃或高于约90℃进行。 11.如权利要求1至10中任一项所述的方法，其中将反应物冷却至比卤化温度低至少约 20℃。 12.如权利要求1至10中任一项所述的方法，其中将反应物冷却至约60℃或更低。 13.如权利要求1至10中任一项所述的方法，其中将反应物冷却至约40℃或更低。 14.如权利要求1至13中任一项所述的方法，其中卤素与酚类残余物的比率为约2:1至 20:1重量/重量。 15.如权利要求1至13中任一项所述的方法，其中卤素与酚类残余物的比率为约8:1至 12:1重量/重量。 16.如权利要求2至15中任一项所述的方法，其中所述吸附剂床包括碳床或聚苯乙烯床。
说明书全文	用于纯化含有有机杂质的卤化氢溶液的方法技术领域 [0001] 本公开的各种实施方案总体上涉及从卤化氢溶液中除去有机杂质，特别是酚类杂质的方法。它特别适用于卤化后的副产物料流。背景技术 [0002] 在工业过程中，有机化合物的卤素氧化(或氧化卤化)产生大量的商业产品。例如，溴化阻燃剂诸如四溴双酚A(TBBPA)通过有机基质例如双酚的溴氧化来制备，以产生TBBPA。该溴氧化的产物包括有价值的阻燃剂，但也包括通常包括HBr和杂质的含水副产物料流。氯氧化也受到必须解决的含水副产物料流的挑战。 [0003] 为了使工业过程具有商业竞争力，必须以经济的方法利用或处置副产物料流。这可以包括将该料流再循环回到该过程中，将该料流转移到另一过程中，或将该料流转化为单独的商业产品。在没有这些选择的情况下，处置可能是必要的，但是简单地处置工业料流既具有环境挑战性又在商业上无效，因为它浪费了来自过程的原子价值。因此，将该料流再循环回到该过程中，将该料流转移到另一过程中，或将该料流转化为单独的商业产品是非常优选的，但该副产物料流的杂质分布成为需要克服的重大障碍。发明内容 [0004] 本公开的各种实施方案总体上涉及用于处理具有酚类残余物的卤化氢料流的方法。 [0005] 本公开的一个实施方案可以是通过氧化卤化来处理HX料流，或用卤素处理该料流，以将酚类残余物卤化，从而产生卤化酚类残余物和卤化溶液的方法。可以将卤化溶液冷却并过滤，以从卤化溶液中除去卤化酚类残余物，从而产生部分纯化的HX料流。该方法可以包括使部分纯化的HX料流穿过吸附剂床，从而产生纯化的HX料流的进一步的步骤。 [0006] 在一些实施方案中，HX料流包含HCl料流、HBr料流、HI料流或它们的组合。在一些实施方案中，HX料流包含HCl或HBr料流，或HBr料流。HX料流可小于约30重量％HX、小于约20重量％HX、小于约15重量％HX或小于约12重量％HX。 [0007] 在一些实施方案中，HX料流可含有小于约5重量％的酚类残余物，或小于约3重量％的酚类残余物，或小于约1重量％的酚类残余物。 [0008] 在一个实施方案中，HX料流、部分纯化的HX料流和纯化的HX料流各自包含HBr。 [0009] 在一些实施方案中，氧化卤化是氧化溴化，并且卤素是溴。 [0010] 在一些实施方案中，氧化卤化在约60℃或高于约60℃、80℃或高于80℃、或90℃或高于90℃进行。 [0011] 在一些实施方案中，将氧化卤化后的反应物冷却至约60℃或更低；或将反应物冷却至约40℃或更低。在一些实施方案中，将反应物冷却至比氧化卤化温度低至少约20℃。 [0012] 在一些实施方案中，卤素与酚类残余物的比率为约2:1至20:1重量/重量；或卤素与酚类残余物的比率为约8:1至12:1重量/重量。具体实施方式 [0013] 尽管详细解释了本公开的优选实施方案，但应理解考虑了其他实施方案。因此，本公开的范围并不意图限于以下说明书中所阐述或附图中所图解说明的部件的构造和排列的细节。本公开能够有其他实施方案且能够以多种方式实践或实施。此外，在描述优选实施方案时，为了清楚起见，将采用特定的术语。 [0014] 还必须注意的是，如在说明书和所附权利要求中所使用的，单数形式“一个”，“一种”和“该”包括复数指示物，除非上下文另外清楚地指明。 [0015] 此外，在描述优选实施方案时，为了清楚起见，将采用术语。每个术语旨在涵盖本领域技术人员所理解的其最广泛的含义，并且包括以类似方式操作以实现类似目的的所有技术等同物。 [0016] 范围在本文中可被表述为从“约”或“大约”一个特定值和/或到“约”或“大约”另一个特定值。当表达此类范围时，另一个实施方案包括从一个特定值和/或到另一个特定值。 [0017] “包含(comprising)”或“包含(comprising)”或“包括(including)”是指至少所命名的化合物、元素、颗粒或方法步骤存在于组合物或制品或方法中，但不排除其他化合物、材料、颗粒、方法步骤的存在，即使其他此类化合物、材料、颗粒、方法步骤具有与被命名物相同的功能。 [0018] 还应理解，对一个或多个方法步骤的提及并不排除存在额外的方法步骤或者介于明确标识的那些步骤之间的间插方法步骤。类似地，还应理解，对装置或系统中的一个或多个部件的提及并不排除存在额外的部件或介于明确标识的那些部件之间的间插部件。 [0019] 本公开是作为工厂方法开发程序的一部分而开发的。有机化合物的溴氧化(即芳环上溴的亲电取代)产生氢溴酸，也称为溴化氢，其必须被利用或处置。然而，HBr料流包含许多挑战。特别地，来自一些过程的酚类化合物可能使副产物料流的利用和/或处理复杂化。由于有机杂质的存在，难以进行从HBr中回收溴值的尝试。任何工厂方法中的一个常见选择是将料流再循环到该过程或相关过程中，或将料流转化成另一产物。然而，再循环未处理的HBr料流可导致产生不希望的副产物，这可导致若干复杂性，包括但不限于降低最终产物的纯度或固体沉淀在设备中和/或堵塞设备。 [0020] 作为该工厂方法开发程序的一部分，已经开发了除去大部分有机杂质，尤其是溶解在HBr中的酚类杂质的方法。发现TBBPA副产物料流中的有机杂质可通过与溴和/或氯反应，并将可溶性杂质转化为可以沉淀的可溶性低得多的卤化的化合物而除去。通过过滤除去固体，得到溶液中溴化杂质含量显著降低的HBr。如果需要，这些溴化杂质可通过穿过碳床或树脂床来进一步减少。与溴的反应可以用2至20倍，优选10倍过量的溴进行，以确保所有酚类杂质完全溴化。优选较高的溴化温度，以减少反应时间。推荐高于60℃，优选地高于90℃的反应温度。通过该方法纯化的HBr溶液可以再循环，以恢复溴值或用于其他应用。值得注意的是，依赖于卤素氧化的其他过程可以使用该方法类似地纯化。 [0021] 因此，本公开包括用于纯化含有酚类残余物的HX料流的方法。该方法可包括通过氧化卤化来处理HX料流以将酚类残余物卤化，这产生卤化酚类残余物和卤化溶液。可以将卤化溶液冷却并过滤，以除去卤化酚类残余物，从而产生部分纯化的HX料流。 [0022] HX料流可以描述为含有氢卤化物(也称为卤化氢)的料流或溶液。术语氢卤化物包括氢卤酸，诸如盐酸、氢溴酸和氢碘酸，即HCl、HBr和HI。所述化合物还可以描述为氯化氢、溴化氢和碘化氢。氢卤化物可缩写为HX，其中X被公认为卤素，即Cl、Br或I。氢卤化物溶液可包含HCl溶液或HBr溶液，或者氢卤化物溶液可包含HBr溶液。在一些实施方案中，HX料流、部分纯化的HX料流和纯化的HX料流可以各自独立地包含HBr。氢卤化物溶液或HX溶液可包含水溶液。氢卤化物溶液或HX溶液可包含部分卤化的有机化合物，或可包含由先前卤化反应产生的有机化合物。 [0023] 部分纯化的HX料流可被进一步处理。该处理可包括使部分纯化的HX料流穿过吸附剂床，从而产生纯化的HX料流。吸附剂床可以是在工业应用中用于从含水料流中除去有机化合物的酸性介质的任何吸附材料。吸附剂床可包括碳床(例如活性炭床)或中性树脂床，诸如聚苯乙烯床、聚二乙烯基苯床或其他聚芳族树脂。 [0024] HX料流通常可含有小于约5重量％的酚类残余物、小于约1重量％的酚类残余物，或小于约0.5重量％的酚类残余物。酚类残余物可包含易被卤素亲电取代的芳族结构或假芳族结构(诸如醌部分)。酚类残余物可包括单溴酚、二溴酚、三溴酚和其他酚和/或芳族或假芳族产物。酚类残余物可以是双酚A溴化的副产物(IUPAC名称：4,4′‑(丙烷‑2,2‑二基)二酚)。 [0025] HX料流可小于约50重量％HX、小于约40重量％HX或小于约30重量％HX。该方法可用于由于先前的化学方法而耗尽或稀释的HX料流。因此，HX料流优选地可小于约20重量％HX、小于约15重量％HX或小于约12重量％HX。 [0026] 初始HX料流的氧化卤化可在亲电取代可发生的任何温度或高于该温度下进行。氧化卤化可在25℃或高于25℃、60℃或高于60℃、70℃或高于70℃、80℃或高于80℃、或90℃或高于90℃进行。氧化卤化可在更高温度下进行，但通常受反应介质的压力限制。氧化卤化可在高达200℃下在专用设备中进行，但是更高的温度通常被认为是不安全的。 [0027] 初始HX料流的氧化卤化可以用可在酚类残余物上发生亲电取代的任何卤素进行。氧化卤化或卤素氧化通常是指在使溶液中的有机材料卤化从而产生卤碳键和卤化氢的温度下用卤素处理溶液。氧化卤化可以用溴(例如氧化溴化)或用氯(例如氧化氯化)进行。氧化卤化也可以用氯和溴的组合进行。氧化卤化可以用可添加到HX料流中的卤素进行，或可以用可原位生成的卤素进行，诸如通过添加氯将HBr转化为溴，或通过添加过氧化氢将HBr转化为溴。HX溶液中的卤素不需要与氧化卤化中的卤素相同。在一个实施方案中，HX可以是HBr，并且卤素源可以是溴。在另一个实施方案中，HX可以是HBr，并且卤素源可以是氯，在此期间一部分氯与HBr反应生成溴和HCl，并且氧化卤化可以是氯化和溴化的混合物。优选地，氧化卤化是氧化溴化。 [0028] 初始HX料流的氧化卤化可以以有效卤化酚类残余物的卤素与酚类残余物的比率进行。卤素与酚类残余物的比率可为约2:1至约20:1重量/重量，优选约8:1至约12:1重量/重量。 [0029] 在氧化卤化之后，可将卤化溶液冷却，然后过滤。可将卤化溶液冷却至比卤化温度低至少约10℃，或比卤化温度低至少约20℃，或比卤化温度低至少约30℃。可将卤化溶液冷却至低于60℃、低于约50℃或低于约40℃。冷却可通过制造过程中使用的任何技术来完成。在一个实施方案中，可通过汽提除去残留的卤素，诸如通过从卤化溶液中除去残留的溴来实现冷却。 [0030] 部分纯化的HX料流和纯化的HX料流可用于其他工艺反应。例如，部分纯化的HBr料流可进行氯化以产生溴，其可从溶液中汽提并用于其他溴化反应，从而恢复有价值的溴值。类似地，可以用氯处理纯化的HX料流以生成溴。 [0031] 本公开的一个实施方案可以是用于纯化含有小于约1重量％的酚类残余物的HX料流的方法，其中在高于60℃下用溴或氯作为卤素处理HX为约15重量％或更少的HX料流，以将酚类残余物卤化并产生卤化溶液。可以将卤化溶液冷却至低于60℃并过滤，以产生部分纯化的HX料流。部分纯化的HX料流可通过使其穿过吸附剂床而进一步加工。 [0032] 本公开的一个实施方案可以是用于纯化含有约1重量％或更少的酚类残余物的HBr料流的方法，其中在高于60℃下用溴作为卤素处理HBr为约15重量％或更少的HBr料流，以将酚类残余物溴化并产生卤化溶液。可以将所述卤化溶液冷却至低于60℃并过滤，以产生部分纯化的HBr料流。部分纯化的HBr料流可通过使其穿过吸附剂床而进一步加工。 [0033] 本公开的一个实施方案可以是用于纯化含有约1重量％或更少的酚类残余物的HBr料流的方法，其中在约80℃或更高的温度下用氯作为卤素处理HBr为约15重量％或更少的HBr料流，以将酚类残余物卤化并产生卤化溶液。可将卤化溶液冷却至约60℃或更低并过滤，以产生部分纯化的HX料流。部分纯化的HX料流可通过使其穿过吸附剂床而进一步加工。 [0034] 本公开的一个实施方案可以是用于纯化含有约1重量％或更少的酚类残余物的HBr料流的方法，其中在约90℃或更高的温度下用溴作为卤素处理HBr为约15重量％或更少的HBr料流，以将酚类残余物卤化并产生卤化溶液。可将卤化溶液冷却至约60℃或更低并过滤，以产生部分纯化的HBr料流。部分纯化的HBr料流可通过使其穿过吸附剂床而进一步加工。 [0035] 本公开的一个实施方案可以是用于纯化含有约1重量％或更少的酚类残余物的HBr料流的方法，其中在约90℃或更高的温度下用溴作为卤素处理HBr为约15重量％或更少的HBr料流，以将酚类残余物卤化并产生卤化溶液。可将卤化溶液冷却至约40℃或更低并过滤，以产生部分纯化的HBr料流。部分纯化的HBr料流可通过使其穿过吸附剂床而进一步加工。 [0036] 实施例 [0037] 实施例1 [0038] 3颈20L反应器设置有机械搅拌器、冷凝器和温度计套管。使用含有306ppm酚类杂质的约10％ HBr溶液的工艺废物流。使用液相色谱(LC)方法测量酚类杂质。将HBr溶液(16kg)装入反应器中并搅拌。用电热套将其加热至95℃。当溶液的温度高于50℃时，添加160g溴并继续加热。在95℃下将混合物加热30分钟后，关闭加热并将冷凝器从回流改为蒸馏。真空泵通过两个含有稀亚硫酸钠溶液的冰冷阱连接。通过在真空下汽提除去未反应的溴和一些水而将混合物逐渐冷却至60℃。然后使其在大气压下冷却至环境温度。然后使用中号烧结玻璃漏斗过滤，以除去沉淀的固体。过滤的HBr溶液的LC分析显示只有26ppm的酚类杂质。使其通过苯乙烯树脂柱，通过LC分析在HBr溶液中检测到0ppm的酚类杂质。 [0039] 实施例2 [0040] 具有ace配件的500mL厚壁玻璃反应器设置有温度计套管、压力计和特氟隆顶部，该顶部具有通过冷凝器连接到接收烧瓶的旋塞阀。接收烧瓶通过另一个冷凝器和阱连接到真空管线。向反应器中装入300g含有约500ppm酚类杂质的废物流HBr。在磁力搅拌的同时，用电热套快速加热。当混合物的温度达到50℃时，添加3g溴并密封反应器。在约15分钟内，混合物的温度达到120℃并显示反应器压力为约25psi。在该温度下搅拌混合物25分钟后，降低电热套，并通过小心打开顶部旋塞阀释放压力。将蒸馏过的液体收集在接收器中。缓慢施加真空，以使混合物的温度降至60℃；通常需要120mmHg至130mmHg的真空以达到60℃。在60℃下过滤混合物，热HBr溶液仅含有63ppm酚类杂质。 [0041] 实施例3 [0042] 将800g HBr样品(3‑1A和3‑2A)各自用80g溴(即10重量％)处理，分别加热至55℃和80℃，并保持30分钟。将混合物在其保持时间结束时热过滤，并取样用于GC分析。结果示于表1中。 [0043] 使所得溶液静置约4小时，以冷却至室温。在继续之前再次过滤溶液。然后将400g份的每种混合物(3‑1B和3‑2B)在80℃进行氯化，以寻找任何附加固体的形成。 [0044] 以类似的方式，用1重量％溴处理HBr的两种溶液(3‑3和3‑4)，加热至55℃和80℃并保持30分钟，热过滤，并取样用于GC分析，然后冷却至室温并再次过滤。 [0045] 表1 [0046] [0047] 实施例4 [0048] 过滤HBr样品以除去固体并取样用于分析(4‑0)。 [0049] 对于4‑1A，将3083g HBr样品装入5L烧瓶中并加热至80℃。在液面下小心地添加约1重量％(30g)的溴。用大搅拌棒将溶液混合约3小时。然后将混合物趁热过滤，并用DI水洗涤分离的固体。然后将热溶液分成3等份。将一份(4‑1B)原样保留并使其静置过夜。将第二份(4‑1C)用刚好足够的固体亚硫酸钠处理以反应除去溴，取样用于分析，并使其静置过夜。将996g的第三份(4‑1D)装入1L烧瓶中并加热至80℃，在约5分钟内添加33g氯(足以转化至少75％的HBr值)。将反应物搅拌30分钟并热过滤。 [0050] 对于样品4‑2，将950g HBr样品装入1L烧瓶中并加热至80℃，随后添加5g溴。将混合物搅拌3小时，并热过滤，然后取样用于分析。 [0051] 样品4‑3的处理与样品4‑2完全相同，不同的是将其加热至95℃。 [0052] 表2 [0053] [0054] [0055] 实施例5 [0056] 过滤HBr样品以除去固体并取样用于分析(样品5‑0)。 [0057] 在第5‑1号样品中，将863.9g HBr样品装入1L的4颈圆底烧瓶中。将混合物加热至约30℃，并在约15分钟内添加约26g Cl2。在添加期间，反应温度升至约40℃。在15分钟保持时间时对混合物取样(在分析之前过滤样品)。在30分钟的保持时间时停止实验并过滤剩余的混合物。在用刚好足够的固体亚硫酸钠处理以杀死残留在溶液中的溴之后，提交部分样品用于完全分析。 [0058] 在室温下静置约6小时后，观察到固体并过滤溶液。在静置总共约16小时后观察到形成了附加的固体，并将溶液再次过滤。 [0059] 在第5‑2样品中，将866g HBr样品装入装置中。将混合物加热至约60℃，并在约15分钟内添加约26g Cl2。在30分钟的保持时间时停止实验并趁热过滤混合物。使溶液在室温下静置过夜并再次过滤。对最终溶液取样用于分析。 [0060] 在第5‑3号样品中，将878g HBr样品装入装置中。将混合物加热至约80℃，并在约15分钟内添加约26g Cl2。在30分钟的保持时间时停止实验并趁热过滤混合物。使溶液在室温下静置过夜并再次过滤。对最终溶液取样用于分析。 [0061] 在第5‑4号样品中，将878g HBr样品装入装置中。将混合物加热至约100℃，并在约15分钟内添加约26g Cl2。在添加期间，反应温度降至约96℃。在30分钟的保持时间时停止实验并趁热过滤混合物。使溶液在室温下静置过夜并再次过滤。也对最终溶液取样用于分析。热过滤没有分离出固体。当溶液冷却时观察到固体结晶。 [0062] 在第5‑5号样品中，将874g HBr样品装入装置中。将混合物加热至约80℃。在液面下添加过量的溴，直至溶液饱和。在30分钟的保持时间时停止实验并趁热过滤混合物。使溶液在室温下静置过夜，但在静置过夜后由于仅形成非常少量的固体而不再过滤。似乎仅用溴的方法产生的固体比氯化途径产生的固体可溶性低。 [0063] [0064] 实施例6 [0065] 将约8％ HBr溶液过滤并作为样品6‑0进行分析。向该8％ HBr溶液的三份400克溶液中添加0.53g、0.843g和1.652g粒状活性炭(Norit GAC 1240)，并将溶液在室温下搅拌4小时。将所有四份样品用0.45微米Whatman Autovial非针头式过滤器过滤以除去碳细粒，并进行分析。数据报告在表4中。 [0066] 表4 [0067]样品编号 1 2 3 4 溶液质量(克) 400 400 400 400 GAC质量(克) 0 0.53 0.843 1.652 时间 0 240 240 240 苯酚(ppm) 12 7 5 1 单溴苯酚(ppm) 14 6 2 0 二溴苯酚(ppm) 2 0 0 0 三溴苯酚(ppm) 24 19 12 0 TBBPA(ppm) 0 0 0 0 未知的酚类物质 360 165 44 5 总酚类物质(ppm) 384 198 64 5 [0068] 实施例7 [0069] 向50mm ID柱中装入139.3g粒状活性炭(Norit GAC 1240)，得到约280mL的床体积。将含有酚类物质的HBr溶液以向上进料方式以5mL/min泵送通过柱的底部。由此停留时间刚好在1小时以下。从1小时的进料时间开始收集样品。分析多个样品的APHA颜色，同时对在约2.5小时时采集的单个样品(样品7‑1)进行完全分析。表5中提供了APHA颜色数据的数据，表6中提供了对起始材料和2.5小时时提取的样品的分析。 [0070] 表5 [0071] [0072] [0073] 表6 [0074] 7‑0 7‑1Br‑重量％ 9.47 9.46 Cl‑重量％ 0.26 0.32 苯酚(ppm) 0 0 单溴苯酚(ppm) 0 0 二溴苯酚(ppm) 0 0 三溴苯酚(ppm) 14 0 TBBPA(ppm) 48 0 未知的酚类物质 162 7 总酚类物质(ppm) 224 7 APHA原样 500 1 [0075] 实施例7 [0076] 直径11mm的夹套柱装载有15g苯乙烯吸附树脂。使用具有水的循环器来维持60℃的温度。然后将预先与溴反应、闪蒸冷却，然后过滤的具有酚类物质的HBr溶液经由蠕动泵以受控速率向下输送通过吸附剂床。报告HBr中酚类物质的起始浓度以及通过柱的HBr总体积中的酚类物质的浓度。通过HPLC分析测定酚类物质浓度。数据报告在表7中。 [0077] 表7 [0078] [0079] [0080] 实施方案 [0081] 另外或替代地，本公开可包括以下实施方案中的一个或多个。 [0082] 实施方案1.一种用于纯化含有酚类残余物的HX料流的方法，其包括通过氧化卤化来处理所述HX料流，以将所述酚类残余物卤化，从而产生卤化酚类残余物和卤化溶液；冷却所述卤化溶液；以及从所述卤化溶液中过滤所述卤化酚类残余物，以产生部分纯化的HX料流。 [0083] 实施方案2.一种用于纯化含有酚类残余物的HX料流的方法，其包括通过氧化卤化来处理所述HX料流，以将所述酚类残余物卤化，从而产生卤化酚类残余物和卤化溶液；冷却所述卤化溶液；从所述卤化溶液中过滤所述卤化酚类残余物，以产生部分纯化的HX料流；以及使所述部分纯化的HX料流穿过吸附剂床，从而产生纯化的HX料流。所述吸附剂床包括碳床或聚苯乙烯床。 [0084] 实施方案3.一种用于纯化含有约1重量％或更少的酚类残余物的HBr料流的方法，其中在高于60℃下用溴作为卤素处理HBr为约15重量％或更少的所述HBr料流，以将所述酚类残余物溴化并产生卤化溶液。可以将所述卤化溶液冷却至低于60℃并过滤，以产生部分纯化的HBr料流。所述部分纯化的HBr料流可通过使其穿过吸附剂床而进一步加工。 [0085] 实施方案4.根据前述实施方案之一所述的方法，其中所述氧化卤化在约60℃或高于约60℃、80℃或高于80℃、或90℃或高于90℃进行。 [0086] 实施方案5.根据前述实施方案之一所述的方法，其中将所述反应物冷却至比所述卤化温度低至少约20℃。可将所述反应物冷却至约60℃或更低。可将所述反应物冷却至约40℃或更低。 [0087] 实施方案6.根据前述实施方案之一所述的方法，其中卤素与酚类残余物的比率为约2:1至20:1重量/重量。卤素与酚类残余物的所述比率可为约8:1至12:1重量/重量。 [0088] 实施方案7.根据前述实施方案之一所述的方法，其中所述HX料流含有小于约5重量％、小于约3重量％或小于约1重量％的酚类残余物。 [0089] 实施方案8.根据前述实施方案之一所述的方法，其中所述HX料流小于约30重量％HX、小于约20重量％HX、小于约15重量％HX或小于约12重量％HX。 [0090] 实施方案9.根据前述实施方案之一所述的方法，其中所述HX料流、所述部分纯化的HX料流和所述纯化的HX料流各自包含HBr。 [0091] 实施方案10.根据前述实施方案之一所述的方法，其中所述氧化卤化是氧化溴化，并且所述卤素为溴。 [0092] 应理解，本文公开的实施方案和权利要求在它们的应用上并不限于说明书中所阐述和附图中所图解说明的部件的构造和排列的细节。而是，说明书和附图提供了设想的实施方案的示例。本文公开的实施方案和权利要求还能够有其他实施方案，并且能够以多种方式实践和实施。此外，应理解，本文所用的措辞和术语是出于描述的目的且不应视为限制权利要求。 [0093] 因此，本领域技术人员应了解，本申请和权利要求所基于的概念可容易地被用作设计用于实施本申请中提出的实施方案和权利要求的若干目的的其他结构、方法和系统的基础。因此，重要的是，权利要求被视为包括此类等同的构造。

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