一种纳米氧化锆生产后处理设备 |
|||||||
| 申请号 | CN202020936091.0 | 申请日 | 2020-05-28 | 公开(公告)号 | CN212532314U | 公开(公告)日 | 2021-02-12 |
| 申请人 | 绵竹市金坤化工有限公司; | 发明人 | 黄伯璞; 胡宾; 焦海坡; | ||||
| 摘要 | 本实用新型公开了一种纳米 氧 化锆生产后处理设备，涉及领域，包括空心设置的盒体，所述盒体的底端连接有与盒体连通的控制机构；所述控制机构包括控制盘、可拆卸连接的控制座和活动机构，所述控制座开设有通心设置的通道，所述控制盘活动设置在所述通道内，且与所述通道相适配，所述控制座内壁开设有与所述控制盘活动适配的活动槽，用于控制盘的缩进，所述控制盘的 侧壁 连接有活动机构；所述活动机构包括活动轴和活动杆，所述活动轴的一端与所述控制盘连接，所述活动轴的另一端活动的穿过所述控制座的外壁，且与所述活动杆活动连接。该设备具有方便取用纳米氧化锆，且还能够控制取用时的下落速度，防止材料的浪费。 | ||||||
| 权利要求 | 1.一种纳米氧化锆生产后处理设备，其特征在于，包括空心设置的盒体（1），所述盒体（1）的底端连接有与盒体（1）连通的控制机构； |
||||||
| 说明书全文 | 一种纳米氧化锆生产后处理设备技术领域[0001] 本实用新型涉及化学废液领域，具体为一种纳米氧化锆生产后处理设备。 背景技术[0002] 氯化锆是制备生产纳米氧化锆的一种重要原料，而制备生产的纳米氧化锆呈白色固体，若尘生产结构陶瓷则是以纳米氧化锆粉的形式存在。纳米氧化锆硬度较大、常温下为绝缘体、而高温下则具有优良的导电性，且纳米氧化锆具有抗热震性强、耐高温、化学稳定性好、材料复合性突出等特点，因此纳米氧化锆可以用作纳米陶瓷以及耐火材料，也可以用作研磨材料、切削刀具等领域。虽然纳米氧化锆物理性质比较稳定，但是生产以后的形态为固体颗粒或者粉末状，取用的时候不方便，且现有的技术设备不能控制取用时下落的速度，很容易造成材料的浪费，所以为此，设计出了一种满足要求的设备。实用新型内容 [0003] 本实用新型的目的在于提供一种纳米氧化锆生产后处理设备，该设备具有方便取用纳米氧化锆，且还能够控制取用时的下落速度，防止材料的浪费。 [0004] 本实用新型的目的是通过以下技术方案来实现的： [0005] 一种纳米氧化锆生产后处理设备，包括空心设置的盒体，所述盒体的底端连接有与盒体连通的控制机构；所述控制机构包括控制盘、可拆卸连接的控制座和活动机构，所述控制座开设有通心设置的通道，所述控制盘活动设置在所述通道内，且与所述通道相适配，所述控制座内壁开设有与所述控制盘活动适配的活动槽，用于控制盘的缩进，所述控制盘的侧壁连接有活动机构；所述活动机构包括活动轴和活动杆，所述活动轴的一端与所述控制盘连接，所述活动轴的另一端活动的穿过所述控制座的外壁，且与所述活动杆活动连接。 [0006] 优选地，所述控制座的一端与所述盒体连接，所述控制座的另一端连接有通心的锥形筒，且所述锥形筒与所述通道同轴心设置。 [0007] 优选地，所述活动轴远离所述控制座的一端开设有孔道，所述孔道上开设有凹槽，所述活动杆靠近所述活动轴的一端连接有凸台，所述凸台的另一端连接有环形滑块，所述凸台活动置于所述孔道内，且所述环形滑块与所述凹槽活动适配。 [0008] 优选地，所述活动杆远离所述活动轴的一端连接有转动圆盘。 [0010] 优选地，所述盒体的顶端设有进口通道，所述盒体的底端与安放架连接。 [0011] 本实用新型的有益效果是： [0012] 1、该设备的盒体用于盛放生产以后的纳米氧化锆，盒体的底端连接有用于控制下落速度的控制机构，该控制机构包括了控制盘、可拆卸连接的控制座和活动机构，控制座通心设置的通道用于纳米氧化锆掉落下的出口，且控制盘活动设置在通道内，控制盘与通道的直径相同，用于阻挡和让纳米氧化锆通行；控制座内壁开设有与控制盘活动适配的活动槽，用于控制盘的缩进，且控制盘连接有用于控制控制盘活动的活动机构，同时该活动机构包括了活动轴和活动杆，该活动轴的一端与控制盘连接，另一端活动的穿过控制座的外壁，且与活动杆活动连接，通过移动活动杆，来带动活动轴移动，进而控制控制盘通过在活动槽的移动，来实现控制盘在通道内的位置，以此让纳米氧化锆通过控制盘与通道的缝隙下落，来控制纳米氧化锆的下落的量的大小，进而控制其下落的速度，来实现用量的控制，防止下落过多而造成浪费。 [0013] 2、控制座的一端与盒体连接，盒体内的纳米氧化锆从控制座的通道通过，控制座的另一连接有通心的锥形筒，目的在于让纳米氧化锆通过的时候，减少下落扩散的范围，防止洒落而浪费原料；活动轴的一端连接有凸台，另一端连接有环形滑块，凸台活动置于孔道内，且环形滑块与凹槽活动适配，这样在转动活动杆时，凸台在相适配的凹槽内转动，而随着活动杆转动的不断深入，来推动活动轴移动，进而来带动控制盘与通道的缝隙大小，以此来空心纳米氧化锆下落的量的大小；活动杆远离活动轴的一端连接有转动圆盘，设计转动圆盘的目的是方便转动活动杆，节省力气和时间；控制座的外壁设有连接座，活动杆活动的穿过连接座且与连接座螺纹连接，从而实现活动杆的转动；盒体的底端设有进口通道，方便生产后的纳米氧化锆进入到盒体内，盒体的底端与安放架连接，一方面是用于支撑盒体，另一面是让控制机构的出口与地面有一定的高度距离，方便下面安放盛装下落的纳米氧化锆的容器。附图说明 [0014] 图1为本实用新型一种纳米氧化锆生产后处理设备的结构示意图； [0015] 图2为本实用新型一种纳米氧化锆生产后处理设备的控制机构示意图； [0016] 图3为本实用新型一种纳米氧化锆生产后处理设备控制机构爆炸结构示意图； [0017] 图中，1-盒体，2-控制盘，3-控制座，4-活动轴，5-活动杆，6-连接座，12-进口通道，13-安放架，31-通道，32-锥形筒，41-孔道，51-凸台，52-环形滑块，53-转动圆盘。 具体实施方式[0018] 下面结合附图进一步详细描述本实用新型的技术方案，但本实用新型的保护范围不局限于以下所述。 [0019] 如图1至图3所示，一种纳米氧化锆生产后处理设备，包括空心设置的盒体1，盒体1的底端连接有与盒体1连通的控制机构；控制机构包括控制盘2、可拆卸连接的控制座3和活动机构，控制座3开设有通心设置的通道31，控制盘2活动设置在通道31内，且与通道31相适配，控制座3内壁开设有与控制盘2活动适配的活动槽，用于控制盘的缩进，控制盘2的侧壁连接有活动机构；活动机构包括活动轴4和活动杆5，活动轴4的一端与控制盘2连接，活动轴4的另一端活动的穿过控制座3的外壁，且与活动杆5活动连接。该设备的盒体1用于盛放生产以后的纳米氧化锆，盒体1的底端连接有用于控制下落速度的控制机构，该控制机构包括了控制盘2、可拆卸连接的控制座3和活动机构，控制座3通心设置的通道31用于纳米氧化锆掉落下的出口，且控制盘2活动设置在通道31内，控制盘2与通道31的直径相同，用于阻挡和让纳米氧化锆通行；控制座3内壁开设有与控制盘2活动适配的活动槽，用于控制盘2的缩进，且控制盘2连接有用于控制控制盘2活动的活动机构，同时该活动机构包括了活动轴4和活动杆5，该活动轴4的一端与控制盘2连接，另一端活动的穿过控制座3的外壁，且与活动杆 5活动连接，通过移动活动杆5，来带动活动轴4移动，进而控制控制盘2通过在活动槽的移动，来实现控制盘2在通道31内的位置，以此让纳米氧化锆通过控制盘2与通道31的缝隙下落，来控制纳米氧化锆的下落的量的大小，进而控制其下落的速度，来实现用量的控制，防止下落过多而造成浪费。 [0020] 进一步的，该设备在在具体实施时，首先将生产制备好的纳米氧化锆装入到该设备的盒体1内，以便于取用，该盒体1的顶端设有进口通道12，制备好的纳米氧化锆则通过进口通道12进入到盒体内，为了防止盒体1内进入空气，在进口通道12的顶端盖上盒盖，取用的时候调控控制机构即可。该设备的盒体1底端与安放架13连接，安放架13一方面是用于支撑盒体1，另一面是让控制机构的出口与地面有一定的高度距离，方便下面安放盛装下落的纳米氧化锆的容器，安放好盛装容器以后，控制控制机构对下落的纳米氧化锆的量。 [0021] 进一步的，该设备的控制机构包括了控制盘2、可拆卸连接的控制座3和活动机构，且活动机构包括了活动轴4和活动杆5，且活动轴4的一端与控制盘2连接，活动轴4的另一端活动的穿过控制座3的外壁，且与活动杆5活动连接，同时还有活动轴4远离控制座3的一端开设有孔道41，孔道41上开设有凹槽，活动杆5靠近活动轴4的一端连接有凸台51，凸台51的另一端连接有环形滑块52，凸台51活动置于孔道41内，且环形滑块52与凹槽活动适配，并且控制座3的外壁设有连接座6，活动杆5活动的穿过连接座6且与连接座6螺纹连接，通过转动活动杆5，活动杆5连接的凸台51在与之活动适配的凹槽内转动，随着活动杆5的不断深入，推动与之相连的活动轴4移动，从而推动与活动轴4连接的控制盘2在与控制盘2相适配的活动槽内移动；进而此时通道31与控制盘2会有一定的缝隙，盒体内的纳米氧化锆则进入与盒体1底端固定连接的控制座3开设的通道31，最后纳米氧化锆则从其缝隙落下，缝隙越大，下落的纳米氧化锆的量越大，速度越大；还有控制座3远离盒体1的一端连接有通心的锥形筒32，且锥形筒32与通道31同轴心设置，下落的纳米氧化锆则从锥形筒32的出口落入到下面安放盛装纳米氧化锆的容器中，以便于取用，设置锥形筒32的好处在于让纳米氧化锆通过的时候，减少下落扩散的范围，防止洒落而浪费原料。控制座3可拆卸连接，这样可以把控制座3拆解成两半且通过螺栓连接，为了方便设计活动槽和安放控制盘2。 [0022] 进一步的，当容器里的纳米氧化锆达到需要的量的时候，关闭控制机构，该活动杆5远离活动轴4的一端连接有转动圆盘53，设计转动圆盘53的目的是方便转动活动杆5，节省力气和时间；通过握住转动圆盘53让活动杆5相对控制座3向外旋出，进而来控制减少控制盘2与通道31的缝隙，直至控制盘2与通道31的内壁四周接触，以此来阻止纳米氧化锆继续落下。该设备具有方便取用纳米氧化锆，且还能够控制取用时的下落速度，防止材料的浪费。 |
||||||
QQ群二维码
意见反馈
意见反馈