1.一种层叠体，其具有：
介电膜；
配置于所述介电膜的至少一个表面侧的、成为对太赫兹频段的电磁波的谐振器的金属图案；及
配置于所述金属图案上的、在温度40℃、相对湿度90％的环境下的透湿度为3000g/
2
(m·24hr)以下的有机膜。
2.根据权利要求1所述的层叠体，其中，
所述有机膜包含杂环化合物。
3.根据权利要求1所述的层叠体，其中，
所述有机膜包含酸值为20mgKOH/g以下的聚合物。
4.根据权利要求1所述的层叠体，其中，
所述有机膜是使用固化性组合物而形成的，
所述固化性组合物包含封端异氰酸酯。
5.一种层叠体，其具有：
介电膜；
配置于所述介电膜的一个表面侧的、由多个第1金属结构体构成的第1金属图案；
配置于所述第1金属图案上的、在温度40℃、相对湿度90％的环境下的透湿度为3000g/
2
(m·24hr)以下的第1有机膜；
配置于所述介电膜的另一个表面侧的、由多个第2金属结构体构成的第2金属图案；及配置于所述第2金属图案上的、在温度40℃、相对湿度90％的环境下的透湿度为3000g/
2
(m·24hr)以下的第2有机膜，
所述第1金属图案和所述第2金属图案构成对太赫兹频段的电磁波的谐振器。
6.根据权利要求5所述的层叠体，其中，
当俯视观察所述层叠体时，所述第1金属图案所包含的所述第1金属结构体和所述第2金属图案所包含的所述第2金属结构体以至少一部分重叠的方式配置。
7.根据权利要求5所述的层叠体，其中，
所述第1有机膜及所述第2有机膜包含杂环化合物。
8.根据权利要求5所述的层叠体，其中，
所述第1有机膜及所述第2有机膜包含酸值为20mgKOH/g以下的聚合物。
9.根据权利要求5所述的层叠体，其中，
所述第1有机膜及所述第2有机膜是使用固化性组合物而形成的，
所述固化性组合物包含封端异氰酸酯。
10.一种光学元件，其包含权利要求1至9中任一项所述的层叠体。
11.一种层叠体的制造方法，其包括：
工序1A，将包含介电膜及配置于所述介电膜的至少一个表面侧的、成为对太赫兹频段的电磁波的谐振器的金属图案的带金属图案的膜与包含临时支承体及固化性组合物层的转印膜进行贴合，形成依次具有所述介电膜、所述金属图案、所述固化性组合物层及所述临时支承体的前体膜；及
工序2A，对所述固化性组合物层实施固化处理，从而获得在温度40℃、相对湿度90％的
2
环境下的透湿度为3000g/(m·24hr)以下的有机膜，
并且进一步包括在所述工序1A与所述工序2A之间或者在所述工序2A之后，剥离所述临时支承体的工序。
12.根据权利要求11所述的层叠体的制造方法，其中，
所述有机膜包含杂环化合物。
13.根据权利要求11或12所述的层叠体的制造方法，其中，
所述有机膜包含酸值为20mgKOH/g以下的聚合物。
14.根据权利要求11或12所述的层叠体的制造方法，其中，
所述固化性组合物层包含封端异氰酸酯。
15.一种层叠体的制造方法，其包括：
工序1B，将带金属图案的膜与包含临时支承体及固化性组合物层的转印膜进行贴合，所述带金属图案的膜包含介电膜、配置于所述介电膜的一个表面侧的、由多个第1金属结构体构成的第1金属图案及配置于所述介电膜的另一个表面侧的、由多个第2金属结构体构成的第2金属图案并且所述第1金属图案和所述第2金属图案构成对太赫兹频段的电磁波的谐振器，由此形成依次具有所述临时支承体、所述固化性组合物层、所述第1金属图案、所述介电膜、所述第2金属图案、所述固化性组合物层及所述临时支承体的前体膜；及工序2B，对所述固化性组合物层实施固化处理，从而获得在温度40℃、相对湿度90％的
2
环境下的透湿度为3000g/(m·24hr)以下的有机膜，
并且进一步包括在所述工序1B与所述工序2B之间或者在所述工序2B之后，剥离所述临时支承体的工序3B。
16.根据权利要求15所述的层叠体的制造方法，其中，
当俯视观察所述带金属图案的膜时，所述第1金属图案所包含的所述第1金属结构体和所述第2金属图案所包含的所述第2金属结构体以至少一部分重叠的方式配置。
17.根据权利要求15或16所述的层叠体的制造方法，其中，
所述有机膜包含杂环化合物。
18.根据权利要求15或16所述的层叠体的制造方法，其中，
所述有机膜包含酸值为20mgKOH/g以下的聚合物。
19.根据权利要求15或16所述的层叠体的制造方法，其中，
所述固化性组合物层包含封端异氰酸酯。