技术领域
[0001] 本实用新型关于一种抛光设备，尤指一种抛光设备的承载装置。
背景技术
[0002] 现有
半导体制程中，
晶圆于制造完成后，会进行薄化加工，其包含
研磨作业与抛光作业，之后才会进行切单、封装等制程，故藉由抛光作业，以提高晶圆表面的平滑度。
[0003] 如图1所示，现有抛光机1包括：一机台本体(图略)、一设于该机台本体上侧的固定装置11、一设于该机台本体下侧的抛光装置12、以及一设于该固定装置11的黏膜13。
[0004] 于进行抛光作业时，先将一如晶圆的欲抛光件9粘贴于该粘膜13上，再以该固定装置11
吸附(如图所示的箭头的向上方向)该粘膜13，使该粘膜13固定于该固定装置11上。之后，该抛光装置12配合
浆液(如图1所示的流入方向F)磨平该欲抛光件9的表面。
[0005] 然而，现有抛光机1在进行抛光作业时，浆液会沿该粘膜13的外露表面渗入该欲抛光件9与该粘膜13之间，因而破坏该欲抛光件9下的黏膜13的粘性，使得该欲抛光件9与该抛光装置12所产生的作用
力会造成该欲抛光件9的位移，甚至造成该欲抛光件9脱落。
[0006] 此外，该粘膜13无法均匀分散前述的作用力于其上所产生的
应力，因而该粘膜13容易发生超出预期的形变(如
翘曲拉伸扩张)，致使该粘膜13容易发生破裂，导致该欲抛光件9脱落。
[0007] 因此，如何克服
现有技术的种种问题，实为一重要课题。实用新型内容
[0008] 为解决上述现有技术的问题，本实用新型遂揭露一种抛光设备及其承载装置，能避免浆液破坏该欲抛光件下的承载本体的粘性。
[0009] 本实用新型的承载装置，包括：承载本体，其用以承载欲抛光件；以及隔离部，其设于该承载本体上并位于该欲抛光件周围。
[0010] 本实用新型还提供一种抛光设备，包括：机台本体，其具有相对的第一侧与第二侧，且该第一侧与第二侧之间具有一容置空间；固定装置，其设于该机台本体的第一侧上并位于该容置空间中；前述的承载装置，其结合于该固定装置上；以及抛光装置，其设于该机台本体的第二侧上并位于该容置空间中，且该承载装置位于该固定装置与该抛光装置之间的容置空间中。
[0011] 前述的抛光设备及其承载装置中，该承载本体包含用以承载该欲抛光件的承载部、及设于该承载部上的
支撑部。例如，该隔离部设于该承载部上。
[0012] 前述的抛光设备及其承载装置中，该隔离部为片体或膜体。
[0013] 前述的抛光设备及其承载装置中，形成该隔离部的材质为玻璃
纤维、
碳纤维、塑胶或金属。
[0014] 前述的抛光设备及其承载装置中，该隔离部具有至少一开口，以供放置该欲抛光件于该开口中。
[0015] 前述的抛光设备及其承载装置中，该隔离部与该欲抛光件之间具有间隙。
[0016] 由上可知，本实用新型的抛光设备及其承载装置中，藉由该隔离部设于该承载本体上，以于进行抛光作业时，浆液会留于该隔离部表面上，而不会沿该承载本体渗入该欲抛光件与该承载本体之间，故相较于现有技术，能避免浆液破坏该欲抛光件下的承载本体的粘性。
[0017] 此外，本实用新型藉由该隔离部的设计，可控制该承载本体上的应力变化，故相较于现有技术，能避免该承载本体发生超出预期的形变。
附图说明
[0018] 图1为现有抛光机的剖面示意图；
[0019] 图2A为本实用新型的承载装置的第一
实施例的上视示意图；
[0020] 图2B为图2A的承载装置设于抛光设备上的剖面示意图；
[0021] 图3A为本实用新型的承载装置的第二实施例的上视示意图；
[0022] 图3B为图3A的承载装置设于抛光设备上的剖面示意图；以及
[0023] 图4A及图4B为本实用新型的承载装置的第三实施例的上视示意图。
[0024] 其中，附图标记说明如下：
[0025] 1 抛光机
[0026] 11、81 固定装置
[0027] 12、82 抛光装置
[0028] 13 黏膜
[0029] 2、3、4 承载装置
[0030] 20、30 承载本体
[0031] 21、41 隔离部
[0032] 210、410、410’ 开口
[0033] 30a 承载部
[0034] 30b 支撑部
[0035] 8 抛光设备
[0036] 80 机台本体
[0037] 80a 第一侧
[0038] 80b 第二侧
[0039] 9 欲抛光件
[0040] S 容置空间
[0041] F 流入方向
[0042] T 间隙。
具体实施方式
[0043] 以下藉由特定的具体实施例说明本实用新型的实施方式，本领域普通技术人员可由本
说明书所揭示的内容轻易地了解本实用新型的其他优点及功效。
[0044] 须知，本说明书所附图式所绘示的结构、比例、大小等，均仅用以配合说明书所揭示的内容，以供本领域普通技术人员的了解与阅读，并非用以限定本实用新型可实施的限定条件，故不具技术上的实质意义，任何结构的修饰、比例关系的改变或大小的调整，在不影响本实用新型所能产生的功效及所能达成的目的下，均应仍落在本实用新型所揭示的技术内容得能涵盖的范围内。同时，本说明书中所引用的如“上”、“第一”、“第二”及“一”等的用语，也仅为便于叙述的明了，而非用以限定本实用新型可实施的范围，其相对关系的改变或调整，在无实质变更技术内容下，当也视为本实用新型可实施的范畴。
[0045] 图2A及图2B为本实用新型的承载装置2的第一实施例及其应用的示意图。
[0046] 如图2A及图2B所示，该抛光设备8包括：一机台本体80、一固定装置81、一抛光装置82、以及一用于承载至少一欲抛光件9的承载装置2。
[0047] 所述的承载装置2包括：一承载本体20以及
覆盖于该承载本体20上并位于该欲抛光件9周围的隔离部21。
[0048] 于本实施例中，该承载本体20为具粘性的圆形贴膜，其用以粘结该欲抛光件9，但应可理解地，用以承载该欲抛光件9的结构种类繁多，故该承载本体20的结构不限于上述。
[0049] 此外，该隔离部21具有多个开口210，以供放置各该欲抛光件9于各该开口210中，其中，该开口210的壁面与该欲抛光件9之间紧密靠合。具体地，该隔离部21为片体或膜体，且该隔离部21由玻璃纤维、
碳纤维、塑胶或金属等材质所制成，并无特别限制。
[0050] 又，该欲抛光件9的表面为齐平(如图2B所示)或凸出(图略)该隔离部21的表面。
[0051] 所述的机台本体80具有相对的第一侧80a与第二侧80b，且该第一侧80a与第二侧80b之间具有一容置空间S。
[0052] 于本实施例中，该第一侧80a为上侧，且该第二侧80b为下侧。
[0053] 此外，图中为简化绘示该机台本体80，而非表示该机台本体80的实际机构。
[0054] 所述的固定装置81设于该机台本体80的第一侧80a上并位于该容置空间S中，以设置该承载装置2于该固定装置81与该抛光装置82之间的容置空间S中。
[0055] 于本实施例中，该固定装置81具有
真空式吸附结构(例如具有多个孔道)，但也可为磁力式吸附装置，并无特别限制。于其它实施例中，该固定装置81亦可为粘贴结构或卡固结构等，故该固定装置81的种类繁多，并不限于上述。
[0056] 所述的抛光装置82设于该机台本体80的第二侧80b上并位于该容置空间S中，使该欲抛光件9位于该抛光装置82与该固定装置81之间。
[0057] 于进行抛光作业时，先将该欲抛光件9粘贴于该承载本体20上，再以该固定装置81吸附(如图2B所示的箭头的向上方向)该承载本体20，使该承载装置2固定于该固定装置81上。之后以该抛光装置82配合浆液(如图2B所示的流入方向F)磨平该欲抛光件9的表面。
[0058] 因此，本实用新型藉由该隔离部21的设计，使浆液留于该隔离部21表面上，而不会沿该承载本体20渗入该欲抛光件9与该承载本体20之间，故能避免浆液破坏该欲抛光件9下的承载本体20的粘性，因而有效防止该欲抛光件9的位移，进而防止该欲抛光件9脱落。
[0059] 此外，本实用新型藉由该隔离部21的设计，以压制该抛光装置82于该承载本体20上所产生的应力，故能避免该承载本体20发生超出预期的形变，进而能避免因该承载本体20发生破裂而导致该欲抛光件9脱落的问题。
[0060] 图3A及图3B为本实用新型的承载装置3的第二实施例及其应用的示意图。本实施例与上述实施例的差异在于该承载装置新增元件，故以下仅说明相异处，而相同处不再赘述。
[0061] 如图3A及图3B所示，该承载本体30包含一用以承载该欲抛光件9的承载部30a、及一设于该承载部30a上的支撑部30b。
[0062] 所述的承载部30a为具粘性的圆形贴膜，其用以粘结该欲抛光件9与该隔离部21，但应可理解地，用以承载该欲抛光件9的结构种类繁多，故该承载部30a的结构不限于上述。
[0063] 所述的支撑部30b为金属环体(如
铁环)或其它材质的环体，其环设于该承载部30a的边缘。
[0064] 于本实施例中，该欲抛光件9的表面为齐平(图略)或凸出(如图3B所示)该隔离部21的表面。
[0065] 于进行抛光作业时，先将该欲抛光件9粘贴于该承载部30a上，再以该固定装置81真空吸附(如图3B所示的箭头的向上方向)该承载部30a，并以该固定装置81磁力吸附该支撑部30b，使该承载装置3固定于该固定装置81上。之后以该抛光装置82配合浆液(如图3B所示的流入方向F)磨平该欲抛光件9的表面。
[0066] 因此，本实用新型藉由该隔离部21的设计，使浆液留于该隔离部21表面上，而不会沿该承载部30a渗入该欲抛光件9与该承载部30a之间，故能避免浆液破坏该欲抛光件9下的该承载部30a的粘性，因而有效防止该欲抛光件9的位移，进而防止该欲抛光件9脱落。
[0067] 此外，本实用新型除了藉由该隔离部21压制该承载部30a上的大部分应力，还藉由该支撑部30b压制该抛光装置82于该承载部30a边缘上所产生的应力，故能避免该承载部30a周围发生翘曲，因而能避免该承载部30a发生超出预期的形变，进而避免因该承载部30a发生破裂而导致该欲抛光件9脱落的问题。
[0068] 图4A及图4B为本实用新型的承载装置4的第三实施例的剖面示意图。本实施例与上述实施例的差异在于该隔离部的设计，故以下仅说明相异处，而相同处不再赘述。
[0069] 如图4A及图4B所示，该隔离部41具有多个开口410或一开口410’，且该开口410,410’与该欲抛光件9之间具有间隙t。
[0070] 于进行抛光作业时，本实用新型藉由该隔离部41的设计，使大部分浆液留于该隔离部41表面上，仅极少部分浆液进入该开口410,410’中，因而不会破坏该欲抛光件9下的该承载本体20的粘性，故能有效防止该欲抛光件9的位移，进而防止该欲抛光件9脱落。
[0071] 此外，本实用新型除了藉由该隔离部21压制该承载部30a上的大部分应力，还藉由该开口410,410’与该欲抛光件9之间具有间隙t的设计，以分散该承载本体20上的应力，故能避免该承载本体20发生超出预期的形变，进而避免因该承载本体20发生破裂而导致该欲抛光件9脱落的问题。
[0072] 综上所述，本实用新型的抛光设备及其承载装置，主要藉由该隔离部的设计，以于进行抛光作业时，不仅能避免浆液渗入该欲抛光件下的承载本体，且能控制该承载本体的应力形变，故能防止该欲抛光件脱落的状况发生。
[0073] 上述实施例仅用以例示性说明本实用新型的原理及其功效，而非用于限制本实用新型。任何本领域普通技术人员均可在不违背本实用新型的精神及范畴下，对上述实施例进行
修改。因此本实用新型的权利保护范围，应如
权利要求书所列。
