技术领域
背景技术
[0002] 鞋垫放置在鞋内，可以对足弓起到额外的
支撑，给穿着者提供更大的舒适性。现有的鞋垫设计通常只是针对正常足设计的，并没有考虑到一些特殊足型的需要。例如，外翻足，由于足底的足弓内侧高度降落，使足底呈扁平状，普通的鞋垫无法对这种足起到良好的支撑作用，无法缓解足部的疲劳和
疼痛。
发明内容
[0003] 本发明要解决的技术问题在于，针对
现有技术的上述
缺陷，提供一种鞋垫，其可以为外翻足提供更好的支撑，能够缓解外翻足的疲劳和疼痛。
[0004] 本发明解决其技术问题所采用的技术方案是：构造一种鞋垫，所述鞋垫具有底面和供脚踩踏的上表面，所述上表面包括后跟区域和用于支撑足弓的足弓支撑区域，其特征在于，所述后跟区域的内侧高度高于外侧高度，所述足弓支撑区域的外侧轮廓线超出中平面，所述中平面为与鞋垫长度方向平行的竖直平面，所述中平面经过所述后跟区域的宽度的1/2处。
[0005] 在本发明所述的鞋垫中，所述足弓支撑区域的外侧轮廓线的
顶点与所述中平面的距离为0～8mm。
[0006] 在本发明所述的鞋垫中，所述后跟区域的内侧高度比外侧高度高0～8mm。
[0007] 在本发明所述的鞋垫中，所述后跟区域与底面的夹
角为0～10度。
[0008] 本发明还提供了另一种鞋垫，所述鞋垫具有底面和供脚踩踏的上表面，所述上表面包括后跟区域和用于支撑足弓的足弓支撑区域，每一长度尺码的鞋垫包括适于正常足的标准鞋垫C垫和适于外翻足的非标准鞋垫，所述标准鞋垫和非标准鞋垫的后跟区域的宽度相同；
[0009] 所述非标准鞋垫的后跟区域的内侧高度高于外侧高度，所述非标准鞋垫的足弓支撑区域的外侧轮廓线超出中平面，所述中平面为与鞋垫长度方向平行的竖直平面，所述中平面经后跟区域的宽度的1/2处。
[0010] 在本发明所述的另一种鞋垫中，所述非标准鞋垫包括B垫，
[0011] 设：所述B垫的后跟区域的宽度为HW，所述B垫的后跟区域与底面的夹角为BHA，所述B垫的后跟区域的厚度为BHT，所述BHT为B垫的后跟区域的内侧和外侧的高度差，所述B垫的足弓支撑区域的加阔度为BAW，所述BAW为B垫的足弓支撑区域的外侧轮廓顶点与所述中平面之间的距离，所述C垫的足弓支撑区域的加阔度为CAW，所述BAW为B垫的足弓支撑区域的外侧轮廓顶点与所述中平面之间的距离；
[0012] 则上述采参数满足以下关系：BHT＝HW×tan(BHA)，BAW＝CAW+BHT；
[0013] 所述BHA为0～5度。
[0014] 在本发明所述的另一种鞋垫中，所述非标准鞋垫还包括A垫，
[0015] 设：所述A垫的后跟区域的宽度为HW，所述A垫的后跟区域与底面的夹角为AHA，所述A垫的后跟区域的厚度为AHT，所述AHT为A垫的后跟区域的内侧和外侧的高度差，所述A垫的足弓支撑区域的加阔度为AAW，所述AAW为A垫的足弓支撑区域的外侧轮廓顶点与所述中平面之间的距离；
[0016] 则上述采参数满足如下关系：AHT＝HW×tan(AHA)，AAW＝CAW+BHT×2；
[0017] 所述AHA为5～10度。
[0018] 在本发明所述的另一种鞋垫中，设所述C垫的足弓支撑区域的内侧高度为CAH，B垫的足弓支撑区域的内侧高度为BAH，A垫的足弓支撑区域的内侧高度为AAH，则上述参数满足如下关系：BAH＝CAH+BHT，AAH＝CAH+BHT×2。
[0019] 在本发明所述的另一种鞋垫中，所述C垫的后跟区域的内侧高度等于外侧高度，所述C垫的足弓支撑区域的外侧轮廓线的顶点位于所述中平面上。
[0020] 在本发明所述的另一种鞋垫中，所述非标准鞋垫的足弓支撑区域的外侧轮廓线的顶点与所述中平面的距离为0～8mm；所述非标准鞋垫的后跟区域的内侧高度比外侧高度高0～8mm；所述非标准鞋垫的所述后跟区域与底面的夹角为0～10度。
[0021] 实施本发明的鞋垫，具有以下有益效果：由于本发明的
鞋底的后跟区域内侧高度高于外侧高度，使后跟具有一定斜度，并且足弓支撑区域的外侧轮廓超出中平面，可以将外翻足的内侧抬高，并扩大了足弓支撑区域，可以将外翻足的足弓调整至较正常状态，从而减少疲劳以及疼痛。
附图说明
[0022] 下面将结合附图及
实施例对本发明作进一步说明，附图中：
[0023] 图1是本发明的鞋垫的优选实施例的主视图；
[0024] 图2是本发明的鞋垫的优选实施例的内侧视图；
[0025] 图3是图1中Ⅰ-Ⅰ面剖视图；
[0026] 图4是图1中Ⅱ-Ⅱ面剖视图。
具体实施方式
[0027] 为了对本发明的技术特征、目的和效果有更加清楚的理解，现对照附图详细说明本发明的具体实施方式。
[0028] 如图1和图2所示，为本发明的鞋垫的一个优选实施例，该鞋垫具有底面1和供脚踩踏的上表面2，其中上表面包括后跟区域21和用于支撑足弓的足弓支撑区域22，其中足弓支撑区域22为呈弧面状，可以对足弓起到支撑作用。参看图1，其中虚线所示的轮廓线101为底面外轮廓，最
外圈的轮廓线201为上表面2的外轮廓，轮廓线221为足弓支撑区域
22的外侧轮廓。
[0029] 参看图3和图4，为了能够对外翻足提供良好的支撑，改善鞋垫的舒适程度，后跟区域21的内侧高度高于外侧高度，优选的，后跟区域21具有一定斜度，也即后跟区域21与底面1具有一定的夹角，鞋垫的后跟区域21内侧高外侧低，这样可以抬高足的内侧，把足后部外翻控制至接近垂直，可以对外翻足起到一定的矫正作用。
[0030] 为了对外翻足的较为扁平的足弓提供良好的承托，足弓支撑区域22在鞋垫的宽度方向上进行了加阔处理，使足弓支撑区域22的外侧轮廓线221超出中平面3，其中，中平面3为与鞋垫长度方向平行的竖直平面，中平面3经过后跟区域21的宽度的1/2处。
[0031] 参看图1至4，图中的参数如下：
[0032] 鞋垫长度L：鞋垫后沿到前沿的距离为鞋垫的长度；
[0033] 后跟区域长度HL：由鞋垫后沿向前至长度的1/8处，也即HL＝L/8；
[0034] 后跟区域宽度HW：距鞋垫后沿HL处的截面的底边宽度；
[0035] 足弓长度AL：足弓支撑区域的外侧轮廓的顶点距鞋垫后沿的距离，也即足弓支撑区域的外轮廓上处于最外侧的点；
[0036] 足弓加阔度AW：足弓支撑区域的外轮廓的顶点距离中平面3的距离；
[0037] 后跟区域与底面的夹角HA；
[0038] 后跟区域的厚度HT：后跟区域的内侧与外侧的高度差；
[0039] 足弓支撑区域的高度AH：足弓支撑区域22的内侧的高度。
[0040] 在本实施例中，后跟区域21与底面1的夹角，也即HA，可以为0～10度，足外翻越严重，后跟区域21与底面1夹角越大；后跟区域21的内侧高度与外侧高度的差值，也即后跟区域厚度HT，为0～8mm，足外翻越严重，后跟区域21的内侧高度比外侧高度的差值越大；足弓支撑区域22的外侧轮廓线221的顶点与中平面的距离，也及足弓加阔度AW，为0～8mm，足弓扁平化越严重，则足弓加阔度越大。需要理解的是，本发明的鞋垫的参数，并不局限与上述具体数值，可以根据实际情况，做出相应的改变。
[0041] 为了方便选择鞋垫，可以针对每一尺码的鞋垫设计适于正常足的标准鞋垫和适于外翻足的非标准鞋垫，还可以针对不同程度外翻的外翻足设计两种或两种以上的非标准鞋垫，以方便选择。非标准鞋垫的后跟区域的内侧高度高于外侧高度，非标准鞋垫的足弓支撑区域的外侧轮廓线超出中平面。
[0042] 下面以欧码31码为例说明，同一长度尺码的鞋垫设计不同的鞋垫以满足不同足型的需要。
[0043] 该欧码31码鞋垫包括C垫、B垫和A垫三种规格，C垫、B垫和A垫的长度L相同，后跟区域的宽度HW也相同，HW＝43.5mm。
[0044] 其中C垫参数如下：
[0045] 足弓支撑区域的高度CAH＝14.5mm，
[0046] 足弓加阔度CAW＝0，也即足弓支撑区域22的外侧轮廓221的顶点位于中平面3上，
[0047] 后跟区域与底面的夹角CHA＝0，也即后跟区域的内侧高度和外侧高度相同；
[0048] 后跟区域的厚度CHT＝HW×tan(CHA)＝43.5×tan(0)＝0mm；
[0049] B垫的参数为：
[0050] 后跟区域与底面夹角BHA＝4°，
[0051] 后跟区域的厚度BHT＝HW×tan(BHA)＝43.5Xtan(4°)＝3mm，
[0052] 足弓支撑区域的高度BAH＝CAH+BHT＝14.5+3＝17.5mm，
[0053] 足弓加阔度BAW＝CAW+BHT＝0+3＝3mm；
[0054] A垫的参数为：
[0055] 后跟区域与底面夹角AHA＝6°，
[0056] 后跟区域的厚度AHT＝HW×tan(AHA)＝43.5Xtan(6°)＝4.5mm，
[0057] 足弓支撑区域的高度AAH＝CAH+BHT×2＝14.5+3x2＝20.5mm，
[0058] 足弓加阔度AAW＝CAW+BHTX2＝0+3×2＝6mm。
[0059] 以上C垫、B垫、A垫的参数相关的关系公式是根据大量的统计拟合的，是作为优选采用的。C垫适合正常足，B垫适合轻度外翻的外翻足，A垫适合外翻程度严重的外翻足。
[0060] C垫、B垫、A垫的具体参数并不局限于上述具体参数，上述具体参数仅是示意性的，而非限制性的。B垫的后跟区域与底面的夹角BHA可以为0～5度，A垫的后跟区域与底面的夹角AHA可以为5～10度。
[0061] 将同一长度尺码的鞋垫设计成C垫和B垫，或者设计呈C垫、B垫和A垫，可以方便使用者根据自己的足型选择合适的鞋垫，以提高鞋垫的舒适程度，缓解足部的不适、疲劳以及疼痛。
[0062] 上面结合附图对本发明的实施例进行了描述，但是本发明并不局限于上述的具体实施方式，上述的具体实施方式仅仅是示意性的，而不是限制性的，本领域的普通技术人员在本发明的启示下，在不脱离本发明宗旨和
权利要求所保护的范围情况下，还可做出很多形式，这些均属于本发明的保护之内。
