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用于提供具有改进的读取传感器的磁式变换器的方法和系统

阅读:475发布:2021-12-13

专利汇可以提供用于提供具有改进的读取传感器的磁式变换器的方法和系统专利检索,专利查询,专利分析的服务。并且本 发明 提供用于提供具有改进的读取 传感器 的磁式变换器的方法和系统。描述一种用于提供磁式变换器中的磁结构的方法和系统。该方法和系统包括提供钉扎层、与钉扎层相邻的合成反 铁 磁介质(SAF)、非 磁性 层和传感器层。SAF位于非磁性层与钉扎层之间。非磁性层位于SAF层与传感器层之间。SAF包括被钉扎层、参考层和在被钉扎层与参考层之间的非磁性分隔层。被钉扎层被磁性耦合于参考层并且包括多个子层。第一子层具有第一截止 温度 分布(TBD)和第一交换 能量 。第二子层具有第二TBD和第二交换能量。第一子层在钉扎层与第二子层之间。第一TBD大于第二TBD。第一交换能量小于第二交换能量。,下面是用于提供具有改进的读取传感器的磁式变换器的方法和系统专利的具体信息内容。

1.一种被配置以在磁性变换器中使用的磁阻结构,包括:
钉扎层;
与所述钉扎层相邻的合成反磁介质,即SAF,所述SAF包括被钉扎层、参考层和在所述被钉扎层与所述参考层之间的非磁性分隔层,所述被钉扎层磁性耦合于所述参考层并且包括多个子层,所述多个子层中的第一子层具有第一截止温度分布,即TBD,和第一交换能量,所述多个子层中的第二子层具有第二TBD和第二交换能量,所述第一子层位于所述钉扎层与所述第二子层之间,所述第一TBD大于所述第二TBD,所述第一交换能量小于所述第二交换能量;
非磁性层,所述SAF位于所述非磁性层与所述钉扎层之间;以及
传感器层,所述非磁性层位于所述SAF与所述传感器层之间。
2.根据权利要求1所述的磁阻结构,其中所述非磁性层包括绝缘的隧穿阻挡层。
3.根据权利要求1所述的磁阻结构,其中所述第一子层包括Co1-xFex,并且所述第二子层包括Co1-yFey,其中x大于0且不大于0.15,并且y不小于0.2且不大于0.5。
4.根据权利要求3所述的磁阻结构,其中所述x至少等于0.05,并且所述y至少等于
0.25且不大于0.35。
5.根据权利要求3所述的磁阻结构,其中所述第一子层具有第一厚度,并且所述第二子层具有第二厚度,所述第一厚度至少等于3埃且不大于20埃,所述第二厚度至少等于3埃且不大于20埃。
6.根据权利要求5所述的磁阻结构,其中所述第二厚度大于所述第一厚度。
7.根据权利要求1所述的磁阻结构,其中所述多个子层还包括第三子层,所述第三子层具有第三TBD和第三交换能量。
8.根据权利要求7所述的磁阻结构,其中所述第三TBD大于所述第二TBD,并且所述第三交换能量小于所述第二交换能量。
9.根据权利要求8所述的磁阻结构,其中所述第三交换能量基本上与所述第一交换能量相等,并且所述第三TBD基本上与所述第一TBD相等。
10.根据权利要求8所述的磁阻结构,其中所述第一子层包括Co1-xFex,所述第二子层包括Co1-yFey,并且所述第三子层包括Co1-xFex,其中x大于0且不大于0.15,并且y不小于
0.2且不大于0.5。
11.根据权利要求10所述的磁阻结构,其中所述x至少等于0.05,并且所述y至少等于0.25且不大于0.35。
12.根据权利要求10所述的磁阻结构,其中所述第一子层具有第一厚度,所述第二子层具有第二厚度,并且所述第三子层具有第三厚度,所述第一厚度至少等于3埃且不大于
20埃,所述第二厚度至少等于3埃且不大于20埃,并且所述第三厚度大于0埃且不大于10埃。
13.根据权利要求12所述的磁阻结构,其中所述第二厚度大于所述第一厚度和所述第三厚度。
14.根据权利要求8所述的磁阻结构,其中所述多个子层还包括第四子层,所述第四子层具有第四TBD和第四交换能量。
15.根据权利要求1所述的磁阻结构,其中所述被钉扎层包括Co1-xFex和Co1-y-zFeyBz中的至少一个,其中x大于0且小于1,y大于0,z大于0并且y+z小于1。
16.根据权利要求15所述的磁阻结构,其中所述第一子层包括Co1-y-zFeyBz。
17.根据权利要求1所述的磁阻结构,其中所述钉扎层包括反铁磁层
18.一种磁头,包括:
读取变换器,所述读取变换器包括读取传感器,所述读取传感器进一步包括钉扎层、与所述钉扎层相邻的合成反铁磁介质,即SAF,非磁性层和传感器层,所述SAF位于所述非磁性层与所述钉扎层之间,所述非磁性层位于所述SAF与所述传感器层之间,所述SAF包括被钉扎层、非磁性分隔层和参考层,所述被钉扎层磁性地耦合于所述参考层并且包括多个子层,所述多个子层中的第一子层具有第一截止温度分布,即TBD,和第一交换能量,所述多个子层中的第二子层具有第二TBD和第二交换能量,所述第一子层位于所述钉扎层与所述第二子层之间,所述第一TBD大于所述第二TBD,所述第一交换能量小于所述第二交换能量。
19.根据权利要求18所述的磁头,其中所述第一子层包括Co1-xFex并且所述第二子层包括Co1-yFey,其中x大于0且不大于0.15,并且y不小于0.2且不大于0.5。
20.根据权利要求18所述的磁头,其中x至少等于0.05,并且y至少等于0.25且不大于0.35。
21.根据权利要求18所述的磁头,其中所述第一子层具有第一厚度并且所述第二子层具有第二厚度,所述第一厚度至少等于3埃且不大于20埃,所述第二厚度至少等于3埃且不大于20埃。
22.根据权利要求18所述的磁头,其中所述多个子层还包括第三子层,所述第三子层具有第三TBD和第三交换能量,所述第三TBD大于所述第二TBD,所述第三交换能量小于所述第二交换能量。
23.根据权利要求22所述的磁头,其中所述第一子层包括Co1-xFex,所述第二子层包括Co1-yFey,并且所述第三子层包括Co1-xFex,其中x大于0且不大于0.15,并且y不小于0.2且不大于0.5。
24.根据权利要求23所述的磁头,其中x至少等于0.05,并且y至少等于0.25且不大于0.35。
25.根据权利要求23所述的磁头,其中所述第一子层具有第一厚度,所述第二子层具有第二厚度,并且所述第三子层具有第三厚度,所述第一厚度至少等于3埃且不大于20埃,所述第二厚度至少等于3埃且不大于20埃,并且所述第三厚度大于0埃且不大于10埃。
26.根据权利要求18所述的磁头,还包括:
写入变换器。
27.一种磁盘驱动器,包括:
滑动件;以及
根据权利要求18所述的磁头。
28.一种用于制造在磁式变换器中使用的磁阻结构的方法,所述方法包括:
提供钉扎层;
提供与所述钉扎层相邻的合成反铁磁介质,即SAF,所述SAF包括被钉扎层、参考层和在所述钉扎层与所述参考层之间的非磁性分隔层,所述被钉扎层被磁性耦合于所述参考层并且包括多个子层,所述多个子层中的第一子层具有第一截止温度分布,即TBD,和第一交换能量,所述多个子层中的第二子层具有第二TBD和第二交换能量,所述第一子层位于所述钉扎层与所述第二子层之间,所述第一TBD大于所述第二TBD,所述第一交换能量小于所述第二交换能量;
提供非磁性层,所述SAF位于所述非磁性层与所述钉扎层之间;
提供传感器层,所述非磁性层位于所述SAF和所述传感器层之间;以及
在所述钉扎层、所述SAF、所述非磁性层和所述传感器层中形成所述磁阻结构的图案。
29.根据权利要求28所述的方法,其中所述第一子层包括Co1-xFex,并且所述第二子层包括Co1-yFey,其中x大于0且不大于0.15,并且y不小于0.2且不大于0.5。
30.根据权利要求29所述的方法,其中x至少等于0.05,并且y至少等于0.25且不大于0.35。
31.根据权利要求29所述的方法,其中所述第一子层具有第一厚度,并且所述第二子层具有第二厚度,所述第一厚度至少等于3埃且不大于20埃,所述第二厚度至少等于3埃且不大于20埃。
32.根据权利要求28所述的方法,其中所述多个子层还包括第三子层,所述第三子层具有第三TBD和第三交换能量,所述第三TBD大于所述第二TBD,所述第三交换能量小于所述第二交换能量。
33.根据权利要求32所述的方法,其中所述第一子层包括Co1-xFex,所述第二子层包括Co1-yFey,并且所述第三子层包括Co1-xFex,其中x大于0且不大于0.15,并且y不小于0.2且不大于0.5。
34.根据权利要求33所述的方法,其中x至少等于0.05,并且y至少等于0.25且不大于0.35。
35.根据权利要求33所述的方法,其中所述第一子层具有第一厚度,所述第二子层具有第二厚度,并且所述第三子层具有第三厚度,所述第一厚度至少等于3埃且不大于20埃,所述第二厚度至少等于3埃且不大于20埃,并且所述第三厚度大于0埃且不大于10埃。

说明书全文

用于提供具有改进的读取传感器的磁式变换器的方法和系

技术领域

背景技术

[0001] 图1示出了常规的磁式变换器10例如常规的读取变换器或其它装置的一部分。常规的变换器10位于常规的基底11例如AlTiC基底上。常规的变换器10包括常规的底部护罩12、常规的传感器20和常规的顶部护罩40。变换器10通常还包括在常规的AFM层22与常规的护罩12之间的一个或多个种子层(未示出)。常规的护罩12和40通常包括NiFe并且是通过电形成的。传感器20在电流垂直于平面(CPP)的结构中被示出。在CPP结构中,读取电流通常被驱动为沿着所示的z轴垂直于装置的各层的平面。
[0002] 常规的传感器20包括常规的反磁介质(AFM)层22、常规的合成反铁磁介质(SAF)24、常规的阻挡层32和常规的自由层34,并且可包括常规的覆盖层36。-常规的自由层34具有响应于施加的磁场例如来自于正在读取的位的磁场基本上自由改变方向的磁化。常规的阻挡层32可允许传导经由隧道效应通过传感器20。因此,传感器20是穿隧磁阻(TMR)传感器。注意,如果传导的分隔层被用来代替阻挡层32,那么传感器20是自旋。常规的SAF层24通常包括由非磁性分隔层28分离的两个铁磁性层26和30。铁磁性层通常被反铁磁地耦合。常规的SAF层24的一个或多个磁化是通过常规的AFM层22被钉扎或固定。更具体地,通常被称作被钉扎层或被固定层的第一铁磁性层26具有通过常规的AFM层22被钉扎的磁化,例如,经由交换相互作用。其余的铁磁性层或参考层30使自己的磁化被钉扎,这是因为它被强磁性地耦合于被钉扎层26。常规的被钉扎层26通常是由例如Co90Fe10组成的单层。其它常规的被钉扎层26可由Co75Fe25组成。
[0003] 尽管常规的传感器20可以起作用,但是常规的变换器10可具有有限的效用。例如,当在CPP结构中使用常规的读取传感器20时,在常规的读取传感器20中可能出现基线爆音(BLP)和/或基线噪声(BLN)。BLP是指高于噪声基线的时域随机噪声尖峰。BLN是指高的整体噪声基线。BLP和BLN都具有通常从KHz到GHz的大的频率带宽。BLP和BLN的存在不利地影响常规的变换器10的信噪比,并且因此不利地影响常规的变换器10的性能。BLP和BLN也可能是常规的传感器20的硬盘驱动应用中的主要失效模式。因为BLN和BLP可能是失效模式,因此它们还可能不利地影响常规的传感器20的可靠性。因此,常规的变换器10的使用可能具有缺陷
[0004] 因此,需要一种用于提供具有改进性能的变换器的系统和方法。发明内容
[0005] 本发明描述一种用于提供磁式变换器中的磁结构的方法和系统。该方法和系统包括提供钉扎层或固定层、与钉扎层相邻的合成反铁磁介质(SAF)、非磁性层和传感器层。SAF位于非磁性层与钉扎层之间。非磁性层在SAF与传感器层之间。SAF包括被钉扎层、参考层和在被钉扎层与参考层之间的非磁性分隔层。被钉扎层被磁性地耦合于参考层并且包括多个子层。多个子层中的第一子层具有第一截止温度分布TBD和第一交换能量。多个子层中的第二子层具有第二TBD和第二交换能量。第一子层在钉扎层与第二子层之间。第一TBD大于第二TBD,而第一交换能量小于第二交换能量。附图说明
[0006] 图1是包括常规传感器的常规变换器的一部分的示意图;
[0007] 图2示出了具有包括磁结构的示例性实施例的变换器的磁头的示例性实施例;
[0008] 图3示出了包括磁结构的示例性实施例的变换器的一部分的示例性实施例;
[0009] 图4示出了包括磁结构的示例性实施例的变换器的一部分的另一个示例性实施例;
[0010] 图5示出了包括磁结构的示例性实施例的变换器的一部分的另一个示例性实施例;以及
[0011] 图6示出了形成包括磁结构的示例性实施例的变换器的一部分的方法的示例性实施例。具体实施例
[0012] 图2示出了磁头100。该磁头包括磁性读取变换器110和写入变换器140。图3示出了可被用作磁头100的读取传感器的磁结构130的示例性实施例。然而,在其它实施例中,磁结构130可被用于其它目的。此外,磁结构130在CPP结构中被示出,并且因此被连接于护罩112和122。然而,在另一个实施例中,在磁结构130与护罩112和/或122之间可存在空隙。参照图2至图3,在另一个实施例中,头100可能只包括读取变换器110。头110可位于磁盘驱动器(未示出)的滑动件(未示出)上。头100也以特定层的情况被描述。然而,在一些实施例中,这样的层可包括一个或多个子层。为了清晰,图2至图3未按比例绘制。
[0013] 写入变换器140包括第一磁极142、辅助磁极146、主磁极148、写入空隙150、线圈144和152以及返回护罩(return shield)154。然而,在另一个实施例中,写入变换器140可包括其它和/或不同组件。此外,在各种实施例中,写入变换器140的一个或更多个部分可被省略。
[0014] 读取变换器110包括护罩112和122以及读取传感器/磁结构130。此外,尽管只示出了一个磁结构130,但是可存在多个磁结构。此外,尽管在变换器100中磁结构130被用作读取传感器,但是在另一个变换器中磁结构130可被用于其它目的。此外,如在图3中明确示出,磁结构130包括钉扎层或固定层160、SAF 170、非磁性层190和自由层192。在一些实施例中,其它组件可作为磁结构130的一部分被包括。例如,磁结构130也可包括一个或多个种子层和/或覆盖层。
[0015] 自由层192包括一个或更多个铁磁性层(未在图3中独立地示出)。这些铁磁性层中的至少一些可由非磁性层分隔。在图3所示的实施例中,自由层192是用于头100的传感器层。因此,自由层192在下文中被称作传感器层192。非磁性层190将传感器层192与SAF 170分离。在一些实施例中,非磁性层190是绝缘的隧穿阻挡层(tunneling barrierlayer)。例如,非磁性层190可为结晶的隧穿阻挡层。在一些这样的实施例中,结晶的隧穿阻挡层可包括晶体的MgO或者由晶体的MgO组成。在其它实施例中,非磁性层190可以是传导的和/或具有另一种结构。钉扎层160钉扎SAF 170的磁化。钉扎层160可为AFM层,例如IrMn,其通过交换相互作用(exchange interaction)对被钉扎层或被固定层
172的磁化进行钉扎或固定。然而,在其它实施例中,钉扎层160可为另一种材料和/或具有其它特性。
[0016] SAF 170与钉扎层160相邻。SAF 170包括邻接钉扎层160的被钉扎层172、参考层182和在被钉扎层与参考层之间的非磁性分隔层180。被钉扎层172被磁性耦合于参考层182。在一些实施例中,被钉扎层和参考层的磁化被反铁磁性地耦合。尽管图中显示为单个铁磁性层,但是参考层182可包括多个子层。还期望非磁性分隔层182是导电的。例如,如Ru等材料可被用于非磁性分隔层180。
[0017] 被钉扎层172包括子层。在图3所示的实施例中,存在两个子层174和176。然而,在其它实施例中,可提供额外的子层(未在图3中示出)。第一子层174具有第一截止温度分布(TBD)和第一交换能量。第二子层176具有第二TBD和第二交换能量。层的TBD是对在高温时磁性层的无序程度的度量。更具体地,TBD因此对应于指定比例部分的磁性层不再由钉扎层160钉扎的温度。例如,在一些实施例中,TBD是至少百分之十的磁性层不再由固定层或钉扎层160固定或钉扎的温度。通常,期望更高的TBD。交换能量是对由于特定磁性层与ARM层之间的相互作用引起的钉扎强度的度量。子层174和176被配置以使第一子层174的第一TBD大于第二子层176的第二TBD。在一些实施例中,子层174和176还被配置以使第一TBD和第二TBD都大于或等于270摄氏度。相反地,第一子层174的第一交换能2 2
量小于第二子层176的第二交换能量。期望交换能量至少等于0.3尔格/厘米 (erg/cm)。
2
在一些这样的实施例中,交换能量至少等于0.4erg/cm。例如,在一些实施例中,第一子层
174包括Co1-xFex,并且第二子层176包括Co1-yFey,其中x大于0且不大于0.15,而y不小于0.2且不大于0.5。在一些这样的实施例中,x至少等于0.05,并且y至少等于0.25且不大于0.35。第一子层174和第二子层176还可包括不同的成分。例如,第一子层可包括Co1-v-wFevBw,其中v大于0,w大于0,并且v+w小于1。在这样的实施例中,第二子层176可包括上面所述的Co1-yFey。
[0018] 除了配置TBD和交换能量,还可选择子层174和176的厚度。在一些实施例中,第一子层174具有至少等于3埃且不大于20埃的厚度。同样地,第二子层176具有至少等于3埃且不大于20埃的厚度。在一些实施例中,第一子层174和第二子层具有相同的厚度。
然而,在其它实施例中,它们的厚度是不同的。例如,第二子层176可能比第一子层174更厚。在一些实施例中,例如,第一子层174可能具有至少等于3埃且不大于7埃的厚度,而第二子层176具有至少等于8埃且不大于12埃的厚度。
[0019] 除了上面所述的特性,期望被钉扎层172具有低散射。散射是对在磁性层的磁化方向周围磁性层中的颗粒的磁矩扩散的度量。低散射指示层中的磁矩与层的净磁化更严格地一致。因此,除了上面所述的TBD和交换能量,期望子层174和176提供具有尽可能低散射的被钉扎层172。
[0020] 使用包括SAF 170的被钉扎层172的磁结构130可改进变换器110的性能。因为子层174和176中的每一个被选择以具有上述TBD和交换能量,因此被钉扎层172可具有更高的交换能量和更高的TBD的期望组合。进一步地,子层174和176可被配置以使被钉扎层172具有比可能可利用的散射更低的散射。因此,钉扎层160可能能够更好地对被钉扎层
172的磁化进行钉扎。因此,可使被钉扎层172的磁化更稳定。参考层182被磁性耦合于被钉扎层172。因此,参考层182的磁化也可更稳定。已经确定,上面所述的BLP和BLN可能至少部分地由于SAF 170中的磁不稳定性引起。被钉扎层172的改进的钉扎并且因此参考层182的改进钉扎可减小SAF 170中的磁起伏。SAF 170中的稳定性的改进可减小BLP和BLN。改进的稳定性也可使磁结构170抵制在制造时或在驱动中使用时的应的更强鲁棒性。此外,当在头100中使用磁结构130时,磁结构130可导致改进的滚降场。因此,磁结构130和头100的性能、可靠性和产量或收益(yield)可被提高。
[0021] 图4示出了包括磁结构130’的示例性实施例的变换器110’的一部分的另一个示例性实施例。变换器110’的各部分与图2至图3中所示的头100和结构130的那些部分相似。这样的相似结构被相似地标注。因此,磁结构130’包括分别与钉扎层160、SAF170、非磁性层190和传感器层192相似的钉扎层160’、SAF 170’、非磁性层190’和传感器层192’。在所示的实施例中,其它组件可作为磁结构130’的一部分被包括。例如,磁结构
130’还包括一个或多个种子层162以及一个或多个覆盖层196。因此,磁结构130’可被用作磁头100的读取传感器。然而,在其它实施例中,磁结构130’可被用于其它目的。进一步地,磁结构130’在CPP结构中被示出,并且因此被连接于位于基底111上的护罩112’和
122’。然而,在另一个实施例中,在磁结构130’与护罩112’和/或122’之间可能存在空隙。结构130’也以特定层的情况被描述。然而,在一些实施例中,这样的层可包括一个或多个子层。为了清晰,图4未按比例绘制。
[0022] SAF 170’与SAF 170相似。因此,SAF 170’包括子层174’和176’。在图4所示的实施例中,存在额外子层178。在其它实施例中,可提供其它子层(未在图4中示出)。第一子层174’具有第一TBD和第一交换能量。第二子层176’具有第二TBD和第二交换能量。第三子层178具有第三TBD和第三交换能量。
[0023] 子层174’、176’和178被配置以使第一子层174’的第一TBD大于第二子层176’的第二TBD。在一些实施例中,第三子层178被配置以使第三TBD大于第二TBD。在一些实施例中,子层174’、176’和178也被配置以使第一TBD、第二TBD和第三TBD大于或等于270摄氏度。相反地,第一子层174’的第一交换能量小于第二子层176’的第二交换能量。在一些实施例中,第三子层178被配置以使第三交换能量小于第二交换能量。期望交换能量至2 2
少等于0.3erg/cm。在一些这样的实施例中,交换能量至少等于0.4erg/cm。在一些实施例中,第三子层178被配置以具有与第一子层174’基本上相等的TBD和交换能量。然而,在其它实施例中,第三子层178可具有与第一子层174’不同的TBD和/或交换能量。
[0024] 例如,在一些实施例中,第一子层174’和第三子层178中的每一个包括Co1-xFex。在这样的实施例中,第二子层176’可包括Co1-yFey,其中x大于0且不大于0.15,并且y不小于0.2且不大于0.5。在一些这样的实施例中,x至少等于0.05,并且y至少等于0.25且不大于0.35。第一子层174’、第二子层176’和第三子层178也可包括不同成分。例如,第一予层174’可包括Co1-v-wFevBw,其中v大于0,w大于0,并且v+w小于1。如上所述,在这样的实施例中,第二子层176可包括Co1-yFey,并且第三子层178可包括Co1-v-wFevBw和/或Co1-xFex。
[0025] 除了配置TBD和交换能量,还可选择子层174’、176’和178的厚度。在一些实施例中,第一子层174’具有至少等于3埃且不大于20埃的厚度。同样地,第二子层176’可具有至少等于3埃且不大于20埃的厚度。第三层178的厚度可大于0埃且不大于10埃。在一些实施例中,第一子层174’、第二子层176’和第三子层178具有相同的厚度。然而,在其它实施例中,它们的厚度是不同的。例如,第二子层176’可能比第一子层174’和第三子层178更厚。在这样的实施例中,第一子层174’和第三子层178可能具有相同的厚度或者可能不具有相同的厚度。在一些实施例中,例如,第一子层174’和第三子层178中的每一个可具有至少等于3埃且不大于7埃的厚度,而第二子层176’具有至少等于8埃且不大于12埃的厚度。
[0026] 除了上面所述的特征,期望被钉扎层172’具有低散射。因此,除了上面所述的TBD和交换能量,期望子层174’、176’和178提供具有尽量低散射的被钉扎层172’。
[0027] 使用包括SAF 170’的被钉扎层172’的磁结构130’可改进变换器110’的性能。变换器110’和磁结构130’可具有上面关于变换器110和磁结构130所描述的益处。此外,使用第三子层178可改进磁结构130’的不对称性。
[0028] 图5示出了包括磁结构130”的示例性实施例的变换器110”的一部分的另一个示例性实施例。变换器110”的各部分与图2至图4中示出的头100、变换器110/110’和结构130’的各部分相似。这样的相似结构被相似地标注。因此,磁结构130”包括分别与钉扎层
160/160’、SAF170/170’、非磁性层190/190’和传感器层192/192’相似的钉扎层160”、SAF
170”、非磁性层190”和传感器层192”。在所示的实施例中,其它组件可作为磁结构130”的一部分被包括。例如,磁结构130”还包括一个或多个种子层162’以及一个或多个覆盖层
196’。因此,磁结构130”可被用作磁头100的读取传感器。然而,在其它实施例中,磁结构130”可被用于其它目的。进一步地,磁结构130”在CPP结构中被示出,并且因此被连接于位于基底111’上的护罩112”和122”。然而,在另一个实施例中,在磁结构130”与护罩
112”和或122”之间可能存在空隙。结构130”也以特定层的情况被描述。然而,在一些实施例中,这样的层可包括一个或多个子层。为了清晰,图5未按比例绘制。
[0029] SAF 170”与SAF 170/170’相似。因此,SAF 170”包括子层174”、176”和178’。子层174”,176”和178’的TBD与交换能量之间的关系可与子层174/174’、176/176’和178的TBD与交换能量之间的关系相同。此外,SAF 170”包括第四子层179。第四子层179包括第四TBD和第四交换能量。在一些实施例中,第四TBD小于第一TBD和第三TBD。第四交换能量大于第一交换能量和第三交换能量。因此,第四层179可与第二子层176”相似。因此,可认为被钉扎层172”包括两个双层。第一双层包括第一子层174”和第二子层176”。第二双层包括第三子层178’和第四子层179。子层174”、176”和178’具有与子层174/174’、
176/176’和178的成分相似的成分。此外,第四子层179可包括Co1-uFeu,其中u不小于0.2且不大于0.5。在一些这样的实施例中,u至少等于0.25且不大于0.35。
[0030] 除了配置TBD、交换能量和成分,子层174”、176”、178’和179的厚度也可被选择。子层174”、176”和178’具有与174/174’、176/176’和178的厚度相似的厚度。除了上面所述的特征,期望被钉扎层172”具有低散射。因此,除了上面所述的TBD和交换能量,期望子层174”、176”、178’和179提供具有尽量低散射的被钉扎层172”。
[0031] 使用包括SAF 170”的被钉扎层172”的磁结构130”可改进变换器110”的性能。变换器110”和磁结构130”可具有上面关于变换器110/110’和磁结构130/130’描述的益处。
[0032] 图6示出了用于形成包括磁结构的示例性实施例的变换器的一部分的方法300的示例性实施例。为了清晰,一些步骤被省略和/或组合。方法300是以变换器110/110’/110”的情况被描述的。然而,方法300可被用于其它变换器。方法300也可在形成读取变换器和/或写入变换器的其它结构以后开始。方法300也以提供单个磁结构130/130’/130”的情况被描述。然而,方法300可被用于基本上同时制造多个结构。方法300和如变换器110/110’/110”的结构也以特定层的情况被描述。然而,在一些实施例中,这样的层可包括一个或多个子层。方法300在提供钉扎层160/160’/160”以后开始。
[0033] 通过步骤302,用于第一子层174/174’/174”的一种或多种材料被提供在钉扎层160/160’/160”上。通过步骤304,用于第二子层176/176’/176”的一种或多种材料被沉积在第一被钉扎层174/174’/174”上。通过步骤306,用于如子层178/178’和179等任意额外子层的一种或多种材料被提供。因此,在步骤302、304和306中,用于钉扎层172/172’/172”的材料被提供。通过步骤308,用于非磁性分隔层180/180’/180”的一种或多种材料被提供。通过步骤310,参考层182/182’/182”的一种或多种材料被提供。因此,在步骤302、
304、306、308和310中,用于SAF 170/170’/170”的材料被提供。通过步骤312,用于非磁性层190/190’/190”的一种或多种材料被提供。通过步骤314,用于传感器层192/192’/192”的材料被沉积。此外,覆盖层的一种或多种材料也可被提供。
[0034] 因此,通过步骤302至步骤314,提供了用于磁结构130/130’/130”的堆。通过步骤316,磁结构130被定义。步骤316可包括提供堆的掩模(mask)和铣削暴露(milling exposed)部分。通过步骤318,可完成变换器110/110’/110”的制造。因此,通过使用方法300,可实现变换器110、110’和110”的益处。
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