一种天体引力场的测量装置及方法
专利汇可以提供一种天体引力场的测量装置及方法专利检索，专利查询，专利分析的服务。并且本 发明 公开了一种天体引 力 场的测量装置及其方法，包括两个相互垂直的光路，激光 光源 、分光镜、反光镜、光栅测量装置及垂直旋转装置，本发明利用 广义相对论 原理，通过 光子 在天体附近受引力作用使光线弯曲的引力透镜原理，把激光光源通过分光镜分为两束相互垂直的两路激光，经两个反射镜反射后在光栅测量装置处形成干涉条纹，通过旋转垂直旋转装置，使两个相互垂直的光路交替呈现 水 平或垂直状态，由相对论原理我们得出水平光路和垂直光路中运动的光子受引力影响的大小不同，使光子到达光栅测量装置处的时间随垂直旋转装置周期变化，造成光栅测量装置处干涉条纹的周期移动，计算移动光栅的 相位 差即可算出该处引力场的大小。，下面是一种天体引力场的测量装置及方法专利的具体信息内容。
1.一种天体引力场的测量装置，包括激光光源、分光镜、反光镜、光栅测量装置、MCU中央处理器及垂直旋转装置；所述激光光源、分光镜、反光镜、光栅测量装置、MCU中央处理器在同一个平面上，并安装固定到垂直旋转装置上；所述两路相互垂直光路分光镜至反光镜的距离相等，所述分光镜接收激光光源发出的激光信号，并将该激光信号分成两路光路射向反光镜，所述光栅测量装置用于检测经反光镜反射的光路的干涉条纹。
2.根据权利要求1所述的测量装置，其特征在于：所述分光镜射向反光镜的两路光路的夹角为90度。
3.一种天体引力场的测量方法，其特征在于：测量引力场时旋转垂直旋转装置，使分光镜射向反光镜的两路光路交替呈现水平或垂直状态，旋转垂直旋转装置可以正向旋转亦可逆向旋转。
一种天体引力场的测量装置及方法
技术领域
背景技术
发明内容
图中主要部分标记说明：
1--激光光源；
2--分光镜；
3--反光镜；
4--反光镜；
5--光栅测量装置；
6--MCU中央处理器；
7--垂直旋转装置；
8--光路；
9--光路。
具体实施方式
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