专利汇可以提供电离辐射图像数据校正专利检索,专利查询,专利分析的服务。并且在一个示例中,图像数据校正装置被配置成 电离 辐射 探测装置,其中 电离辐射 探测装置被配置成对透射过物体的多个 能量 范围内的电离辐射进行探测,该辐射来自辐射源对物体的放射,辐射探测装置包括:第一探测器,用于对透射过物体的第一能量范围内的电离辐射进行探测以产生第一辐射图像数据;第二探测器,被布置成平行于第一探测器,第一探测器和第二探测器之间夹有预定区域,该第二探测器用于对透射过物体的第二能量范围内的电离辐射进行探测以产生第二辐射图像数据。第一探测器和第二探测器被配置成同时接收电离辐射,以使得同时产生第一图像数据和第二图像数据。图像数据校正装置包括;至少一个处理器,和存储有程序指令的至少一个 存储器 ,当通过至少一个处理器执行时,所述程序指令使得装置:基于预定区域的宽度计数地确定第二辐射图像数据的校正值。在其他示例中,结合图像数据校正装置的特征对方法和 计算机程序 产品进行了讨论。,下面是电离辐射图像数据校正专利的具体信息内容。
1.一种对电离辐射图像进行数据校正的装置,包括图像数据校正装置和电离辐射探测装置,其中,所述电离辐射探测装置被配置成对透射过物体的多个能量范围内的电离辐射进行探测,辐射从辐射源放射到所述物体,所述电离辐射探测装置包括:
第一探测器,用于对透射过所述物体的第一能量范围内的电离辐射进行探测以产生第一辐射图像数据;
至少一个第二探测器,被布置成平行于所述第一探测器并与所述第一探测器并排排列,所述第一探测器和所述第二探测器之间夹有间隙,所述第二探测器用于对透射过所述物体的第二能量范围内的电离辐射进行探测以产生第二辐射图像数据,其中,所述第一能量范围和所述第二能量范围是不同的;
所述第一探测器和所述第二探测器被配置成同时接收电离辐射,以使得所述第一辐射图像数据和所述第二辐射图像数据被同时产生和采样;
其特征在于,
所述图像数据校正装置包括:
至少一个处理器(1102),以及
存储有程序指令(1106、1108)的至少一个存储器(1104),当由所述至少一个处理器执行时,所述程序指令使得所述图像数据校正装置:基于所述间隙的宽度和像素间距数字地确定所述第二辐射图像数据的校正值以使得空间采样等于所述像素间距,其中,所述间隙的宽度小于所述像素间距并且所述校正值被配置成针对几何特性对图像进行校正。
2.根据权利要求1所述的装置,其中,所述校正值根据以下等式来确定:
Zcorr=Z_间隙_P/PW=Z_间隙/M*(1/PW),其中
Zcorr表示所述校正值,
Z_间隙_P表示投射间隙,
Z_间隙表示所述间隙的宽度,
PW表示像素间距,
M表示基于M=SDD/SOD的系统几何放大率,其中,SDD表示所述辐射源与探测器之间的距离,以及SOD表示所述辐射源与所述物体之间的距离。
3.根据权利要求1或2所述的装置,其中,用于所述第二探测器的经校正值根据以下等式来确定:
HECi,ch=(1-Zcorr)*HEi,ch+Zcorr*HEi+1,ch,其中i表示扫描方向上的线索引或采样索引,ch表示像素索引,Zcorr表示所述校正值,HE表示经采样的第二辐射图像数据,以及HEC表示HE的经校正值。
4.一种对电离辐射图像进行数据校正的装置,包括图像数据校正装置和电离辐射探测装置,其中,所述电离辐射探测装置被配置成对透射过物体的多个能量范围内的电离辐射进行探测,辐射从辐射源放射到所述物体,所述电离辐射探测装置包括:
第一探测器,用于对透射过所述物体的第一能量范围内的电离辐射进行探测以产生第一辐射图像数据;
至少一个第二探测器,被布置成平行于所述第一探测器并与所述第一探测器并排排列,所述第一探测器和所述第二探测器之间夹有间隙,所述第二探测器用于对透射过所述物体的第二能量范围内的电离辐射进行探测以产生第二辐射图像数据,其中,所述第一能量范围和所述第二能量范围是不同的;
所述第一探测器和所述第二探测器被配置成同时接收电离辐射,以使得所述第一辐射图像数据和所述第二辐射图像数据被同时产生和采样;
其特征在于,
所述图像数据校正装置包括:
至少一个处理器(1102),以及
存储有程序指令(1106、1108)的至少一个存储器(1104),当由所述至少一个处理器执行时,所述程序指令使得所述图像数据校正装置:基于所述间隙的宽度和像素间距数字地确定所述第二辐射图像数据的校正值以使得空间采样等于所述像素间距,其中,所述间隙的宽度大于所述像素间距并且所述校正值被配置成针对几何特性对图像进行校正。
5.根据权利要求4所述的装置,其中,间隙与所述像素间距之间的比例根据以下等式来确定:
RATIO=Z_间隙_P/PW=Z_间隙/M*(1/PW),其中
Z_间隙表示所述间隙的宽度,
Z_间隙_P表示投射间隙,
PW表示像素间距,
M表示基于M=SDD/SOD的系统几何放大率,其中,SDD表示所述辐射源与探测器之间的距离,以及SOD表示所述辐射源与所述物体之间的距离。
6.根据权利要求5所述的装置,其中,
第一校正值和第二校正值被限定如下:
所述第一校正值表示所述RATIO下舍入的整数部分加一;以及
所述第二校正值表示所述RATIO的小数部分。
7.根据权利要求6所述的装置,其中,用于所述第二探测器的经校正值HEC基于以下等式:
HECi,ch=(1-Zcorr)*HEi+zoff,ch+Zcorr*HEi+zoff+1,ch,其中i表示扫描方向上的线索引或采样索引,ch表示像素索引,Zoff表示所述第一校正值,Zcorr表示所述第二校正值,HE表示经采样的第二辐射图像数据,以及HEC表示HE的经校正值。
8.根据权利要求1或4所述的装置,其中,所述像素间距等于所述第一探测器的宽度。
9.根据权利要求1或4所述的装置,其中,在确定所述校正值之前对所述第一辐射图像数据和所述第二辐射图像数据进行采样,并且所述校正值被配置成在数字域中进行确定。
10.根据权利要求1或4所述的装置,其中,所述程序指令被进一步配置成使得所述图像数据校正装置:基于所述校正值来校正所述第二辐射图像数据。
11.根据权利要求1或4所述的装置,进一步地,其中,所述校正值被配置成手动接收。
12.根据权利要求1或4所述的装置,进一步地,其中,所述第一辐射图像数据被输入至蓝色通道和绿色通道,并且所述第二辐射图像数据被输入至红色通道。
13.根据权利要求1或4所述的装置,其中,所述第二探测器相比于所述第一探测器被配置到更高的能量。
14.一种计算机可读存储介质(1104),包括可执行指令(1106、1108),所述可执行指令用于使得计算设备的至少一个处理器(1102)执行操作,所述操作包括:
第一探测器对透射过物体的第一能量范围内的电离辐射进行探测以产生第一辐射图像数据;
第二探测器对透射过所述物体的第二能量范围内的电离辐射进行探测以产生第二辐射图像数据,所述第二探测器被布置成平行于所述第一探测器并与所述第一探测器并排排列,所述第一探测器和所述第二探测器之间夹有间隙,其中,所述第一能量范围和所述第二能量范围是不同的;
所述第一探测器和所述第二探测器同时接收电离辐射,以使得所述第一辐射图像数据和所述第二辐射图像数据被同时产生和采样;以及
其特征在于,基于所述间隙的宽度和像素间距来确定所述第二辐射图像数据的校正值以使得空间采样等于所述像素间距,其中,所述间隙的宽度小于所述像素间距或者所述间隙的宽度大于所述像素间距。
15.一种对电离辐射图像进行数据校正的方法,包括:
第一探测器对透射过物体的第一能量范围内的电离辐射进行探测以产生第一辐射图像数据;
第二探测器对透射过所述物体的第二能量范围内的电离辐射进行探测以产生第二辐射图像数据,所述第二探测器被布置成平行于所述第一探测器并与所述第一探测器并排排列,所述第一探测器和所述第二探测器之间夹有间隙,其中,所述第一能量范围和所述第二能量范围是不同的;
所述第一探测器和所述第二探测器同时接收电离辐射,以使得所述第一辐射图像数据和所述第二辐射图像数据被同时产生和采样;以及
其特征在于,基于所述间隙的宽度和像素间距来确定所述第二辐射图像数据的校正值以使得空间采样等于所述像素间距,其中,所述校正值被配置针对几何特性对图像进行校正,并且其中,所述间隙的宽度小于所述像素间距或者所述间隙的宽度大于所述像素间距。
标题 | 发布/更新时间 | 阅读量 |
---|---|---|
一种防电离辐射材料 | 2020-05-13 | 895 |
电离辐射防护剂 | 2020-05-11 | 611 |
致电离辐射转换器 | 2020-05-13 | 810 |
一种电离辐射检测方法和传感器 | 2020-05-14 | 596 |
一种电离辐射探测装置及方法 | 2020-05-14 | 164 |
一种电离辐射损伤防护剂 | 2020-05-14 | 860 |
冷电离辐射灭菌 | 2020-05-11 | 847 |
电离辐射的剂量测定法 | 2020-05-12 | 225 |
电离辐射图像数据校正 | 2020-05-13 | 988 |
防电离辐射门扇 | 2020-05-13 | 140 |
高效检索全球专利专利汇是专利免费检索,专利查询,专利分析-国家发明专利查询检索分析平台,是提供专利分析,专利查询,专利检索等数据服务功能的知识产权数据服务商。
我们的产品包含105个国家的1.26亿组数据,免费查、免费专利分析。
专利汇分析报告产品可以对行业情报数据进行梳理分析,涉及维度包括行业专利基本状况分析、地域分析、技术分析、发明人分析、申请人分析、专利权人分析、失效分析、核心专利分析、法律分析、研发重点分析、企业专利处境分析、技术处境分析、专利寿命分析、企业定位分析、引证分析等超过60个分析角度,系统通过AI智能系统对图表进行解读,只需1分钟,一键生成行业专利分析报告。