专利汇可以提供自动曝光控制的实现方法专利检索,专利查询,专利分析的服务。并且本 发明 公开一种 自动曝光控制 的实现方法,其包括:将控制电离室曝光量的 输出 电压 依次经过模拟 开关 电路 、 采样 保持电路和A/D电路后输入 控制器 ;由控制器将输入电压与基准曝光电压经D/A电路输出并由比较电路进行比较,当两者数值相等时,中止曝光以实现AEC反馈回路的控制。其中,控制器采用FPGA芯片实现。本发明运用FPGA实现数字积分,控制曝光量的电压Vi转化的 数字量 与FPGA内部设置基准值经D/A芯片输出并进行比较,当两者数值相等时,截止逆变高压,中止曝光,实现AEC反馈回路的控制。,下面是自动曝光控制的实现方法专利的具体信息内容。
1.一种自动曝光控制的实现方法,其特征在于,包括:
将控制电离室曝光量的输出电压依次经过模拟开关电路、采样保持电路和A/D电路后输入控制器;
由控制器将输入电压与基准曝光电压经D/A电路输出并由比较电路进行比较,当两者数值相等时,中止曝光以实现AEC反馈回路的控制;
所述A/D电路使用过零点检测的方法对采样周期进行自适应调整;
所述过零点检测的方法为:首先采集100个数据,计算其平均值,作为输出电压的平均值的估计值;再采样100个数据,由比较电路与输出电压的平均值的估计值进行比较,计算过零点的数量并统计;根据此数量,调整采样周期,当此数量大于20个时,令采样周期为
1ms,当此数量不大于10时,令采样周期为5ms,其他令采样周期为2ms。
2.根据权利要求1所述自动曝光控制的实现方法,其特征在于,控制器采用FPGA芯片实现。
3.根据权利要求1所述自动曝光控制的实现方法,其特征在于,电离室的输出电压通过一个分离电路降压处理后传送至A/D电路。
4.根据权利要求1所述自动曝光控制的实现方法,其特征在于,当电离室有输出电压时,由控制器向A/D电路传送控制信号,使A/D电路将电离室的输出电压转化为8位的数字信号并送到控制器的输入端。
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