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一种中心驱动辐流式二沉池自动清洗装置

阅读:410发布:2023-01-19

专利汇可以提供一种中心驱动辐流式二沉池自动清洗装置专利检索,专利查询,专利分析的服务。并且本实用新型公开了一种中心驱动辐流式二沉池自动清洗装置,包括设置在二沉池上层清 水 区内的 离心 泵 ;设置于二沉池内容易产生藻类的区域上的喷头,安装在二沉池中心平台下部的圆形滑触线,固定于中心筒上的 集电器 ;所述集电器位于圆形滑触线的外侧,所述滑触线随二沉池桁架做圆周运动,其出线端与 离心泵 连接,所述离心泵安装在桁架中心转笼 位置 的清水区内,并通过管道连接喷头,所述集电器连接中心筒上部平台上的电源。本实用新型由于非直接 接触 ,冲洗效果好,不宜形成磨损和卡住刮泥机桁架,冲洗频次、时间可根据运行情况实时调节,一方面避免了因藻类的生长而导致的堵塞问题,并避免了 电缆 连接容易发生电缆与桁架缠绕卡死现象。,下面是一种中心驱动辐流式二沉池自动清洗装置专利的具体信息内容。

1.一种中心驱动辐流式二沉池自动清洗装置,包括设置在二沉池上层清区内的离心;设置于二沉池内容易产生藻类的区域上的喷头,采用高压水对容易产生藻类的区域进行冲洗,安装在二沉池中心平台下部的圆形滑触线,固定于中心筒上的集电器;所述集电器位于圆形滑触线的外侧,所述滑触线随二沉池桁架做圆周运动,其出线端与离心泵连接,所述离心泵安装在桁架中心转笼位置的清水区内,并通过管道连接喷头,所述集电器连接中心筒上部平台上的电源。
2.根据权利要求1所述的中心驱动辐流式二沉池自动清洗装置,其特征在于,所述离心泵设置于水面下0.3-0.5m处。
3.根据权利要求1所述的中心驱动辐流式二沉池自动清洗装置,其特征在于,所述喷头采用60-70度的扇形喷嘴,喷嘴孔径5-6mm。
4.根据权利要求1所述的中心驱动辐流式二沉池自动清洗装置,其特征在于,所述集电器采用时间控制集电器,间隔时间设置为0-24h,单次运行时间为30-60min。
5.根据权利要求1所述的中心驱动辐流式二沉池自动清洗装置,其特征在于,在所述电源与集电器的连接线路上设置剩余电流保护器。
6.根据权利要求1所述的中心驱动辐流式二沉池自动清洗装置,其特征在于,在所述滑触线区域上方安装挡雨板。

说明书全文

一种中心驱动辐流式二沉池自动清洗装置

技术领域

[0001] 本实用新型涉及二沉池自动清洗技术领域,尤其涉及一种中心驱动辐流式二沉池自动清洗装置。

背景技术

[0002] 二沉池是污处理厂的重要构筑物,具有出水净化及向反应池提供回流污泥的双重功能,直接影响污水处理厂的效能。污水处理厂的二沉池出水三堰容易被堵塞,特别是夏季大量藻类等附着在三角堰上,长期不清理会影响出水水质。而目前传统的清理方式为人工清理,对于二沉池比较多的污水处理厂而言,需每周清理一次,每天清理2个,而且不停的依次清理。人工清理需时间长,耗费人工量大,单池清理至少3人,且为高温室外作业和高处作业、带水作业,危险性较大,整体费用较高,年费用约30万元。人工清理二沉池期间,藻类随着二沉池出水流出,不利于出水的稳定达标。
[0003] 中心驱动辐流式二沉池做为大中型污水处理厂最常用的池型,其主要特点是:克服了中心进水周边出水沉淀池由于异重流造成短路的弊病,池容的利用率显著提高,处理相同水量需池容较小,从而节省工程造价。
[0004] 中心驱动辐流式二沉池,根据直径一般分为单桥双臂、双桥双臂2种形式,其水下部分桁架、吸泥筒等以中心筒为中心做圆周运动,电源及驱动部分固定安装于中心筒上部平台上,由于整个设备中心固定不动及圆周运动2种结构。对比周边驱动式二沉池,在冲洗装置设计上供电方式存在瓶颈,难以安全地将中心固定的电源输送至随桁架圆周运动的清理装置,使用电缆连接容易发生电缆与桁架缠绕卡死现象,有产生生产事故的险。实用新型内容
[0005] 本实用新型的目的是为了解决现有技术中二沉池中冲洗装置设计上供电方式存在瓶颈,难以安全地将中心固定的电源输送至随桁架圆周运动的清理装置,使用电缆连接容易发生电缆与桁架缠绕卡死现象,容易造成安全事故的问题,从而提出一种中心驱动辐流式二沉池自动清洗装置。
[0006] 为了实现上述目的,本实用新型采用了如下技术方案:
[0007] 一种中心驱动辐流式二沉池自动清洗装置,包括设置在二沉池上层清水区内的离心,以抽取清水区内的清水;设置于二沉池内容易产生藻类的区域上的喷头,用于采用高压水对容易产生藻类的区域进行冲洗,安装在二沉池中心平台下部的圆形滑触线,固定于中心筒上的集电器;所述集电器位于圆形滑触线的外侧,所述滑触线随二沉池桁架做圆周运动,其出线端与离心泵连接,所述离心泵安装在桁架中心转笼位置的清水区内,并通过管道连接喷头,所述集电器连接中心筒上部平台上的电源。
[0008] 进一步,所述离心泵设置于水面下0.3-0.5m处,保证能够抽取二沉池最上层清水,减少杂质对后端的影响。
[0009] 进一步,所述管道采用DN63型号的管道,管道铺设于水下0.5m,降低阳光直晒对管道寿命的影响。
[0010] 进一步,所述喷头采用60-70度的扇形喷嘴,喷嘴孔径5-6mm。
[0011] 进一步,所述集电器采用时间控制集电器,间隔时间设置为0-24h,单次运行时间为30-60min。
[0012] 进一步,在所述电源与集电器的连接线路上设置剩余电流保护器,保证供电安全,当泄露电流达到30ma时切断线路,避免出现池内水、桥架带电的重大安全隐患。
[0013] 进一步,在所述滑触线区域上方安装挡雨板,避免异常天气造成的供电安全隐患。
[0014] 以上技术特征中,离心泵从上清液中抽取清水,通过管道输送至喷头处,通过喷头将清水喷砂到三角堰处,其中,滑触线随二沉池桁架做圆周运动;集电器固定与设置在中心筒上部平台上的电源连接,离心泵电机与滑触线出线端连接,实现滑触线圆周转动的任意角度,自“电源—集电器—滑触线—离心泵”始终形成电气通路。同时,将供电线路明确分为“固定部分”及“圆周转动部分”,避免电气线路与刮吸泥机桁架产生缠绕等问题,保证供电安全及设备运行安全。
[0015] 本实用新型的有益效果:本实用新型中心传动式二沉池刮泥机的自动清洗装置,利用潜水离心泵从二沉池上清液处抽取清水,通过DN63管道输送至末端喷头处,末端喷头采用可调角度的喷头,在需要冲洗区域(如挡渣板、三角堰、出水渠等)形成扇形高压水冲洗效果,并通过集电器进行电气控制,可连续或间歇冲洗二沉池三角堰,由于非直接接触,冲洗效果好,不宜形成磨损和卡住刮泥机桁架,冲洗频次、时间可根据运行情况实时调节,一方面避免了因藻类的生长而导致的堵塞问题,并且能够安全地将中心固定的电源输送至随桁架圆周运动的清理装置,避免了电缆连接容易发生电缆与桁架缠绕卡死现象。附图说明
[0016] 图1为本实用新型一种中心驱动辐流式二沉池自动清洗装置结构示意图。
[0017] 图2为一种中心驱动辐流式二沉池自动清洗装置滑触线部分结构示意图。
[0018] 图3为一种中心驱动辐流式二沉池自动清洗装置喷头部分结构示意图。
[0019] 图中:1为离心泵;2为喷头、3为滑触线、4为集电器、5为管道,6为二沉池,7为中心筒,8为中心平台,9为转笼,10为电磁,11为动电缆。

具体实施方式

[0020] 下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。
[0021] 实施例1:
[0022] 如图1、2、3所示,一种中心驱动辐流式二沉池自动清洗装置,包括设置在二沉池6清水区内的离心泵1,设置于二沉池容易产生藻类区域上的喷头2,安装在二沉池中心平台下部的圆形滑触线3,固定于中心筒上的集电器4;所述集电器4位于圆形滑触线3的外侧,所述滑触线3随二沉池桁架做圆周运动,其出线端与离心泵1连接,所述离心泵1安装在桁架中心转笼9位置的清水区内,并通过管道5连接喷头2,所述集电器4连接中心筒上部平台上的电源。
[0023] 在连接喷头、并邻近喷头的管道上设置有手动电磁阀10,用于控制喷头的管道流通,所述离心泵1通过动力电缆11连接滑触线3的出线端。
[0024] 所述喷头包括两组,其中一组位于三角堰的左侧,另一组位于三角堰的右侧,两侧喷头处均安装有转动装置,带动喷头水平方向上转动。
[0025] 更具体的,所述滑触线3安装在中心平台下部的转笼9上,随桁架做圆周运动,所述集电器与滑触线机械连接,但不随滑触线的转动而转动。
[0026] 图1中,在所述二沉池6的底部竖直设置有中心筒7,在中心筒7的上部设置有中心平台8,在中心平台8上安装有电源以及驱动设备,在中心筒7的外侧设置有转笼9,在转笼9上设置有滑触线3,滑触线3随位于水下的桁架圆周运动。
[0027] 所述离心泵1设置于水面下0.3-0.5m处,保证能够抽取二沉池最上层清水,减少杂质对后端的影响。
[0028] 所述管道5采用DN63型号的管道,管道5铺设于水下0.5m以下,降低阳光直晒对管道寿命的影响。
[0029] 所述喷头2采用60-70度的扇形喷嘴,喷嘴孔径5-6mm,保证出水压力;喷头采用万向可调设计,以解决土建施工池边圆度误差导致的冲洗效果不佳的问题。
[0030] 所述集电器4采用时间控制集电器,间隔时间设置为0-24h,单次运行时间为30-60min。
[0031] 在所述电源与集电器4的连接线路上设置剩余电流保护器,保证供电安全,当泄露电流达到30ma时切断线路,避免出现池内水、桥架带电的重大安全隐患。
[0032] 在所述滑触线3区域上方安装挡雨板,避免异常天气造成的供电安全隐患。
[0033] 以上所述,仅为本实用新型较佳的具体实施方式,但本实用新型的保护范围并不局限于此,任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内,根据本实用新型的技术方案及其实用新型构思加以等同替换或改变,都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。
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