技术领域
本发明涉及一种软钎焊用的无铅焊料,特别是含有铜、镍、铈、铋、 镨或/和钕和余量为锡的无铅焊料,属锡焊料合金领域。
背景技术
电子工业的快速发展
对焊料性能的要求越来越高,而高集成度、高性 能电子电器设计的发展,使
焊接点越来越小,对可靠性的要求越来越高。 传统锡铅焊料,铅及其化合物属于有毒物质,给人类生活环境和安全带 来较大的危害,欧盟发布二个指令,从2006年7月1日起在电子产品 中不得含有包括铅等在内的6种有害物质,铅首当其冲,因此无铅焊料 的研究与应用正在迅速发展,已从
二元合金的Sn-Ag、Sn-Bi、Sn-Cu、 Sn-Zn发展到
三元合金的Sn-Ag-Cu、Sn-Cu-Bi、Sn-Cu-Ni,还有一些多 元合金,为无铅化提供多种产品,许多企业也进行了很多研究与开发工 作,使电子信息产品实现了无铅化。目前无铅焊料已经逐步在我国电子 信息产品制造业中大量应用,为了更好、更有效地推动我国电子信息产 品的无铅化的
进程,目前已制定了无铅焊料行业标准,对无铅化的发展 更加有
力,但有的无铅焊料贵重金属含量较高,成本高,有的熔点较高, 有的
润湿性欠佳等不足。
发明内容
本发明的目的正是为了克服上述已有技术的缺点与不足而提供一 种可改善焊料的抗
氧性能和机械性能的软钎焊用的无铅焊料,从而为电 子产品的加工制造提供优质的焊接材料,同时又能大大降底生产成本。
本发明的目的是通过下述技术方案实现的:
一种软钎焊用的无铅焊料,其特征在于它由下述重量百分比的原 料组成:
铜0.1~1.0%、铈0.01~0.10%、镍0.1~0.2%、
铋0.05~2.0%、镨或钕0.01~0.10%和余量为锡。
一种软钎焊用的无铅焊料,其特征在于它由下述重量百分比的原 料组成:
铜0.1~1.0%、镍0.1~0.2%、铈0.01~0.10%、
铋0.05~2.0%、镨和钕0.01~0.10%和余量为锡,镨和钕的重 量配比为1∶1。
上述的无铅焊料中原料的优选用量,铜为0.5~0.7%、镍为0.15~ 0.2%、铈为0.02~0.05%。
本发明的产品是在传统的SnCuNi无铅焊料的
基础上添加Ce、Bi、 Pr或/和Nd组分,其中Ce它可以细化合金晶粒、金相组织均匀,并可 提高抗折拉性能,加入Bi可适当降低熔点,加入Pr或/和Nd可提高抗 氧性能和机械性能和耐腐性,因此本发明的系列产品的性能均有较大的 提高。
本发明的无铅焊料为SnCuNiCeBiPr、SnCuNiCeBiNd和 SnCuNiCeBiPrNd系列产品。
本发明的无铅焊料的制造方法,是先将Cu、Ni、Ce、Bi、Pr或/和 Nd与锡制造中间合金再混合熔炼制成产品。
本发明的产品采用的原料是含锡99.95%的精锡,含铜99.5%的精 铜,含铈99.99%的金属铈,含镍99.9%的精镍,铋99.99%,镨和钕99.00 %,均为市场销售规范产品,在配料过程严格控制,在生产过程中严格 控制工艺参数,在熔炼中间合金采用自动监控,共熔炼时严格控制配比 以稳定化学成分平衡熔点。
本产品中加入的铈是稀土元素,熔点789℃,沸点3426℃,
密度 6.77g/cm3,它是灰色活泼金属,在空气中易氧化失去光译,加热燃烧, 易溶于酸,是合金材料,它可脱氧、
脱硫、均匀细化晶粒、提高机械性 能和抗氧化能力,可降低熔点,镨熔点935℃,密度6.769g/cm3,其抗 氧性能和机械性能明显提高,钕熔点1024℃,密度7.007g/cm3,可提 高合金的高温性能、气密性和耐
腐蚀性。
本产品经过检测与已有的SnAgNi无铅焊料进行了性能比较,其结 果见表1
表1性能比较
比较项目 SnAgNi无铅焊料 本发明无铅焊料 扩展率% 75.0 77.0-78.3 润湿性(mN) 61.0 65.6-66.0 熔点(℃) 227-230 215.0-220.0
金相(放大200倍) 金相组织不均匀、晶粒较粗 金相组织均匀、晶粒细化
电阻率(μ′Ω.cm) 1.495 1.30-1.32 QFP引线45°拉伸试 验(N) 23.30 24.00-24.25 片式元件焊点剪切试 验(N) 27.10 30.00-3 1.20
对比结果表明本发明的产品各项指标均有提高,为优质的焊接材 料。
由于采取上述技术方案使本发明技术与已有技术相比具有可改善 焊料的抗氧性能、机械性能和耐腐性,其金相组织更均匀、晶粒细化, 适当降低了熔点,产品
质量好,成本低,属环保产品的优点及效果。
具体实施方式
实施例实施例 原料组分用量(kg) Sn Cu Ni Ce Bi Pr Nd Pr+Nd 1∶1 1 97.78 0.1 0.10 0.01 2.0 0.01 2 97.78 0.5 0.15 0.02 1.5 0.05 3 98.47 0.7 0.20 0.05 0.50 0.08 4 98.57 1.0 0.18 0.1 0.05 0.1 5 96.70 1.0 0.1 0.1 2.0 0.1 6 97.52 0.7 0.15 0.05 1.5 0.08 7 98.73 0.5 0.20 0.02 0.5 0.05 8 99.65 0.1 0.18 0.01 0.05 0.01 9 99.04 0.7 0.1 0.01 0.05 0.1 10 97.60 0.1 0.2 0.05 2.0 0.05 11 97.74 1.0 0.15 0.1 1.0 0.01
上述表中产品检测结果:
实施例1的检测结果:扩展率:77.0%,润湿性:65.6mN,熔点: 215℃,金相(放大200倍):金相组织均匀、晶粒细化,电阻率:1.30μ′Ω.cm, QFP引线45°拉伸试验:24.25N,片式元件焊点剪切试验:30.00N。
实施例2的检测结果:扩展率:77.2%,润湿性:65.4mN、熔点: 217℃,金相(放大200倍):金相组织均匀、晶粒细化,电阻率:1.30μ′Ω.cm, QFP引线45°拉伸试验:24.23N,片式元件焊点剪切试验:31.20N。
实施例3的检测结果:扩展率:77.8%,润湿性:65.8mN,熔点: 218℃,金相(放大200倍):金相组织均匀、晶粒细化,电阻率:1.31μ′Ω.cm, QFP引线45°拉伸试验:24.00N,片式元件焊点剪切试验:31.10N。
实施例4的检测结果:扩展率:78.3%,润湿性:66.0mN、熔点: 220℃,金相(放大200倍):金相组织均匀、晶粒细化,电阻率:1.30μ′Ω.cm, QFP引线45°拉伸试验:24.22N,片式元件焊点剪切试验:31.05N,
实施例5的检测结果:扩展率:78.1%,润湿性:65.7mN,熔点: 220℃,金相(放大200倍):金相组织均匀、晶粒细化,电阻率:1.32μ′Ω.cm, QFP引线45°拉伸试验:24.10N,片式元件焊点剪切试验:31.10N。
实施例6的检测结果:扩展率:77.5%,润湿性:65.6mN,熔点: 218℃,金相(放大200倍):金相组织均匀、晶粒细化,电阻率:1.31μ′Ω.cm, QFP引线45°拉伸试验:24.00N,片式元件焊点剪切试验:30.50N。
实施例7的检测结果:扩展率:77.7%,润湿性:65.5mN,熔点: 217℃,金相(放大200倍):金相组织均匀、晶粒细化,电阻率:1.30μ′Ω.cm, QFP引线45°拉伸试验:24.22N,片式元件焊点剪切试验:30.20N。
实施例8的检测结果:扩展率:77.1%,润湿性:66.0mN,熔点: 216℃,金相(放大200倍):金相组织均匀、晶粒细化,电阻率:1.32μ′Ω.cm, QFP引线45°拉伸试验:24.23N,片式元件焊点剪切试验:31.10N,
实施例9的检测结果:扩展率:77.5%,润湿性:65.6mN,熔点: 218℃,金相(放大200倍):金相组织均匀、晶粒细化,电阻率:1.30μ′Ω.cm, QFP引线45°拉伸试验:24.00N,片式元件焊点剪切试验:30.40N。
实施例10的检测结果:扩展率:78.1%,润湿性:65.9mN,熔点: 217℃,金相(放大200倍):金相组织均匀、晶粒细化,电阻率:1.32μ′Ω.cm, QFP引线45°拉伸试验:24.25N,片式元件焊点剪切试验:30.7.00N。
实施例11的检测结果:扩展率:77.6%,润湿性:66.0mN,熔点: 220℃,金相(放大200倍):金相组织均匀、晶粒细化,电阻率:1.32μ′Ω.cm, QFP引线45°拉伸试验:24.21N,片式元件焊点剪切试验:31.10N。