化学气相沉积腔室
专利汇可以提供化学气相沉积腔室专利检索，专利查询，专利分析的服务。并且本 发明 涉及一种 化学气相沉积 腔室。本发明的化学气相沉积腔室包括：腔室，设于腔室内上部的 扩散板 ，设于腔室内下部的加热板，以及与腔室连通以向腔室输送工艺气体的气体源；所述扩散板由多个呈阵列均匀分布的子扩散板组成，所述加热板由对应的多个呈阵列均匀分布的子加热板组成，所述腔室设有对应的多个气体及射频输送 位置 以在腔室内对应的位置输送工艺气体及射频，所述气体及射频输送位置的中心与对应的子扩散板和子加热板的中心对应。本发明的化学气相沉积腔室使成膜均一性更优，提高工艺可控性及 稳定性 ；化学气相沉积的关键部件更换以及检修更加方便；化学气相沉积的关键部件部分损坏后可进行更换，无需整体报废，降低运营成本。，下面是化学气相沉积腔室专利的具体信息内容。
1.一种化学气相沉积腔室，其特征在于，包括：腔室，设于腔室内上部的扩散板，设于腔室内下部的加热板，以及与腔室连通以向腔室输送工艺气体的气体源；所述扩散板由多个呈阵列均匀分布的子扩散板组成，所述加热板由对应的多个呈阵列均匀分布的子加热板组成，所述腔室设有对应的多个气体及射频输送位置以在腔室内对应的位置输送工艺气体及射频，所述气体及射频输送位置的中心与对应的子扩散板和子加热板的中心对应。
2.如权利要求1所述的化学气相沉积腔室，其特征在于，所述扩散板由四个子扩散板组成，所述加热板由四个子加热板组成，所述腔室设有四个气体及射频输送位置。
3.如权利要求1所述的化学气相沉积腔室，其特征在于，所述多个子加热板的表面大体保持在同一水平面。
4.如权利要求3所述的化学气相沉积腔室，其特征在于，所述多个子加热板的表面相互之间水平高度差异小于等于0.5毫米。
5.如权利要求3所述的化学气相沉积腔室，其特征在于，在所述多个子加热板上下作动时，所述多个子加热板的表面大体保持在同一水平面。
6.如权利要求5所述的化学气相沉积腔室，其特征在于，在所述多个子加热板上下作动时，所述多个子加热板的表面相互之间水平高度差异小于等于0.5毫米。
7.如权利要求1所述的化学气相沉积腔室，其特征在于，所述多个子扩散板的表面大体保持在同一水平面。
8.如权利要求7所述的化学气相沉积腔室，其特征在于，所述多个子扩散板的表面相互之间水平高度差异小于等于0.5毫米。
9.如权利要求1所述的化学气相沉积腔室，其特征在于，组成所述加热板的子加热板可分别单独拆卸更换；组成所述扩散板的子扩散板可分别单独拆卸更换。
10.如权利要求1所述的化学气相沉积腔室，其特征在于，进行化学气象沉积时，工艺气体按相同成分比例从所述多个气体及射频输送位置同时进入腔体，射频功率按相同大小从所述多个气体及射频输送位置同时进入腔体。
化学气相沉积腔室
技术领域
背景技术
5％～10％，G8.5世代一般为10％～15％)，等离子增强化学气相沉积腔室内部的关键部件(key parts)扩散板及加热板由于尺寸变大造成难以更换及检修(overhaul)，增加了检修的难度以及成本。
3所示的特定图案。利用现有的化学气相沉积腔室制备的膜层分布如图4所示，颜色深浅表示膜层的分布情况，由于面板制程产线由原来的G2世代逐渐提升至G10.5世代，现有的化学气相沉积腔室难以控制成膜的均一性。
发明内容
具体实施方式
| 标题 | 发布/更新时间 | 阅读量 |
|---|---|---|
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