化学气相沉积的设备
专利汇可以提供化学气相沉积的设备专利检索，专利查询，专利分析的服务。并且该技术为 热处理 行业处理设备领域。该设备由反应器、加热系统、原料气供给及进气系统、抽 真空 系统四个主要部分组成。目前普通 化学气相沉积 是靠 热能 激活的化学反应，其主要缺点：反应 温度 高，限制了化学气相沉积的应用。为了降低反应温度降低，化学气相沉积有了新的进展。通过气态物质在 工件 表面的化学反应，获得 沉积物 粒子并成膜；可在常压或低于标准 大气压 下进行。采用等离子和激光辅助技术可以显著强化化学反应，使其在较低的温度下进行沉积；为使沉积层达到所要求的性能，对气相反应必须精确控制。，下面是化学气相沉积的设备专利的具体信息内容。
1.设备较简单，适于大批量生产，灵活性强；膜层的化学成分容易控制，膜 层纯度高、致密性好，可以获得梯度腹层或混合腹层；沉积温度高，通常在850～ 1100℃进行，膜层与基体的结合强度高。
技术领域：
该技术为热处理行业处理设备领域。
背景技术：
目前普通化学气相沉积是靠热能激活的化学反应，其主要缺点：反应温度 高，限制了化学气相沉积的应用。为了降低反应温度降低，化学气相沉积有了 新的进展。
技术内容：
通过气态物质在工件表面的化学反应，获得沉积物粒子并成膜；可在常压 或低于标准大气压下进行。设备较简单，适于大批量生产，灵活性强；膜层的 化学成分容易控制，膜层纯度高、致密性好，可以获得梯度腹层或混合腹层； 沉积温度高，通常在850～1100℃进行，膜层与基体的结合强度高。但温度高， 可能会导致工件发生变形和材料组织结构改变；绕镀性好，形状复杂工件的各 个面，能同时获得均匀的涂腹；由化学反应得到的可沉积的元素和化合物种类 很多，可获得许多种金属、合金、陶瓷或其他化合物腹层；采用等离子和激光 辅助技术可以显著强化化学反应，使其在较低的温度下进行沉积；为使沉积层 达到所要求的性能，对气相反应必须精确控制。
具体实施方法：
该设备由反应器、加热系统、原料气供给及进气系统、抽真空系统四个主 要部分组成。
①装炉将工件清洗、干燥后装入反应器内的夹具上。
②加热将反应室抽真空或通入H2(或Ar)保护加热。
③通入反应气、沉积沉积过程中真空泵运转，使反应器内压力保持在6.5 ×103～1.3×104Pa的低真空，同时抽气排气。
④降温、出炉 工件达到预定的腹层厚度后，随炉降温至150℃出炉。
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