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综合功能膜、其制作方法及OLED显示面板

阅读:952发布:2022-12-22

专利汇可以提供综合功能膜、其制作方法及OLED显示面板专利检索,专利查询,专利分析的服务。并且本 发明 提供了一种综合功能膜、其制作方法及具有其的OLED 显示面板 。该综合功能膜包括:线偏光片,包括线偏光功能 片层 和 接触 设置在线偏光功能片层一侧表面上的硬化保护层,硬化保护层的硬化强度在铅笔硬度5H以上;1/4波片,设置在线偏光功能片层的远离硬化保护层的表面上;具有阻隔功能的触控膜组,接触设置在1/4波片的远离线偏光功能片层的表面上。线偏光片的硬化保护层的铅笔硬度在5H以上,因此可以作为保护盖,既省去了 现有技术 中的玻璃盖使得OLED显示面板的厚度减小,而且利用线偏光片实现了柔性封装。将 水 氧 阻隔功能、触控功能和偏光功能一体化,从而省去了粘附层,减小了封装结构的厚度,简化了工艺流程,保证了成品良率。,下面是综合功能膜、其制作方法及OLED显示面板专利的具体信息内容。

1.一种综合功能膜,其特征在于,包括:
线偏光片(1),包括线偏光功能片层(11)和接触设置在所述线偏光功能片层(11)一侧表面上的硬化保护层(12),所述硬化保护层(12)的硬化强度在铅笔硬度5H以上;
1/4波片(3),设置在所述线偏光功能片层(11)的远离所述硬化保护层(12)的表面上;
具有阻隔功能的触控膜组(4),接触设置在所述1/4波片(3)的远离所述线偏光功能片层(11)的表面上。
2.根据权利要求1所述的综合功能膜,其特征在于,所述硬化保护层(12)的厚度为1~
10μm,优选形成所述硬化保护层(12)的材料为聚酯类树脂,进一步优选为聚丙烯酸酯或聚酯丙烯酸酯。
3.根据权利要求1所述的综合功能膜,其特征在于,所述触控膜组(4)包括:
预处理层(41),接触设置在所述1/4波片(3)的远离所述线偏光功能片层(11)的表面上;
阻隔层(42),接触设置在所述预处理层(41)的远离所述1/4波片(3)的表面上;
保护层(43),接触设置在所述水氧阻隔层(42)的远离所述预处理层(41)的表面上;
第一触控功能层(44),接触设置在所述保护层(43)的远离所述水氧阻隔层(42)的表面上。
4.根据权利要求3所述的综合功能膜,其特征在于,所述触控膜组(4)还包括:
平坦层(45),接触设置在所述保护层(43)的远离所述水氧阻隔层(42)的表面上,并覆盖所述第一触控功能层(44);以及
第二触控功能层(46),接触设置在所述平坦层(45)的远离所述保护层(43)的表面上。
5.根据权利要求1所述的综合功能膜,其特征在于,所述触控膜组(4)包括:
第一触控功能层(44),接触设置在所述1/4波片(3)的远离所述线偏光功能片层(11)的表面上;
预处理层(41),接触设置在所述1/4波片(3)的远离所述线偏光功能片层(11)的表面上,并覆盖所述第一触控功能层(44);
水氧阻隔层(42),接触设置在所述预处理层(41)的远离所述线偏光功能片层(11)的表面上。
6.根据权利要求5所述的综合功能膜,其特征在于,所述触控膜组(4)还包括:
平坦层(45),接触设置在所述水氧阻隔层(42)的远离所述预处理层(41)的表面上;以及
第二触控功能层(46),接触设置在所述平坦层(45)的远离所述水氧阻隔层(42)的表面上。
7.根据权利要求3或5所述的综合功能膜,其特征在于,形成所述预处理层(41)的材料为SiNx、SiOx、HMDSO或聚酯,优选所述预处理层(41)的厚度为1~3μm;优选形成所述保护层(43)的材料为SiNX、SiOX、HMDSO或聚酯,进一步优选所述保护层(43)的厚度为1~3μm,优选形成所述水氧阻隔层(42)的材料为Al2O3、TiO2、SiN、SiO2、HMDSO或聚酯,进一步优选所述水氧阻隔层(42)的厚度为10nm~5μm。
8.根据权利要求4或6所述的综合功能膜,其特征在于,形成所述第一触控功能层(44)和所述第二触控功能层(46)的材料各自独立地选自ITO、金属网格、纳米石墨烯和纳米管中的任意一种,优选所述第一触控功能层(44)的厚度为10nm~1μm,优选所述第二触控功能层(46)的厚度为10nm~1μm;优选形成所述平坦层(45)的材料为有机树脂材料,进一步优选所述平坦层(45)的厚度为5~50μm。
9.根据权利要求1所述的综合功能膜,其特征在于,所述1/4波片(3)通过第一粘附层(2)粘接在所述线偏光功能片层(11)上。
10.根据权利要求1所述的综合功能膜,其特征在于,所述综合功能膜还包括第二保护层,所述第二保护层设置在所述触控膜组(4)的远离所述1/4波片(3)的表面上。
11.一种权利要求1至9中任一项所述的综合功能膜的制作方法,其特征在于,所述制作方法包括:
步骤S1,制作所述综合功能膜的线偏光片(1),所述线偏光片(1)包括线偏光功能片层(11)和接触设置在所述线偏光功能片层(11)一侧表面上的硬化保护层(12),所述硬化保护层(12)的硬化强度在铅笔硬度5H以上;
步骤S2,在所述综合功能膜的1/4波片(3)的一侧表面上设置具有水氧阻隔功能的触控膜组(4);
步骤S3,将具有所述触控膜组(4)的所述1/4波片(3)设置在所述线偏光功能片层(11)的远离所述硬化保护层(12)的表面上,且所述触控膜组(4)远离所述线偏光功能片层(11)设置。
12.根据权利要求11所述的制作方法,其特征在于,所述制作综合功能膜的线偏光片(1)的步骤包括:在所述线偏光功能片层(11)的一侧表面上通过真空膜或涂布方法设置聚酯类树脂材料,形成所述硬化保护层(12)。
13.根据权利要求11所述的制作方法,其特征在于,所述步骤S2包括:
步骤S21,采用CVD、PVD、iCVD或涂布的方式在所述1/4波片(3)的所述一侧表面上形成预处理层(41);
步骤S22,在所述预处理层(41)的远离所述1/4波片(3)的表面上设置水氧阻隔材料,形成水氧阻隔层(42);
步骤S23,采用CVD、PVD、iCVD或涂布的方式在所述水氧阻隔层(42)上形成保护层(43);
步骤S24,在所述保护层(43)上设置第一触控功能材料;
步骤S25,对所述第一触控功能材料进行图形化处理,得到第一触控功能层(44);
优选地,步骤S26,在所述保护层(43)上采用CVD、iCVD或涂布的方式形成覆盖所述第一触控功能层(44)的平坦层(45);
优选地,步骤S27,在所述平坦层(45)上设置第二触控功能材料;以及
优选地,步骤S28,对所述第二触控功能材料进行图形化处理,得到第二触控功能层(46)。
14.根据权利要求11所述的制作方法,其特征在于,所述步骤S2包括:
步骤S21’,在所述1/4波片(3)的所述一侧表面上设置第一触控功能材料;
步骤S22’,对所述第一触控功能材料进行图形化处理,得到第一触控功能层(44);
步骤S23’,在所述1/4波片(3)的所述一侧表面上形成覆盖所述第一触控功能层(44)的预处理层(41);
步骤S24’,在所述预处理层(41)上设置水氧阻隔材料,形成水氧阻隔层(42);
优选地,步骤S25’,在所述水氧阻隔层(42)上采用CVD、iCVD或涂布的方式形成平坦层(45);
优选地,步骤S26’,在所述平坦层(45)上设置第二触控功能材料;以及
优选地,步骤S27’,对所述第二触控功能材料进行图形化处理,得到第二触控功能层(46)。
15.根据权利要求13或14所述的制作方法,其特征在于,所述水氧阻隔材料采用CVD、PVD、iCVD或ALD的方式设置。
16.根据权利要求13或14所述的制作方法,其特征在于,所述触控功能材料采用溅射、涂布或印刷的方式进行设置,优选真空溅射。
17.根据权利要求11所述的制作方法,其特征在于,所述制作方法采用第一粘附层(2)将具有所述触控膜组(4)的所述1/4波片(3)与所述线偏光功能片层(11)粘接。
18.一种OLED显示面板,包括OLED组件(100)和保护结构(200),其特征在于,所述保护结构(200)为权利要求1至9中任一项所述的综合功能膜,且所述线偏光片(1)远离所述OLED组件(100)设置。
19.根据权利要求18所述的OLED显示面板,其特征在于,所述OLED组件(100)包括:
柔性衬底(101),具有第一表面和第二表面;
水氧阻隔膜(102),粘接在所述柔性衬底(101)的第一表面上;
OLED器件(103),设置在所述柔性衬底(101)的第二表面上;
OLED保护层(104),设置在所述柔性衬底(101)的第二表面上,并覆盖所述OLED器件(103)设置,所述综合功能膜通过第二粘附层(300)粘结在所述OLED保护层(104)上。

说明书全文

综合功能膜、其制作方法及OLED显示面板

技术领域

[0001] 本发明涉及显示设备领域,具体而言,涉及一种综合功能膜、其制作方法及具有其的OLED显示面板。

背景技术

[0002] OLED被视为最具有发展前景的下一代显示技术,而柔性OLED器件则更被认为是OLED显示的发展趋势。由于对汽与气十分敏感,OLED器件中使用的有机材料如果暴露在外部环境中很容易就被氧化或结晶化,从而严重影响OLED器件的性能。因此,需要对OLED器件进行有效的封装,使OLED的各功能层不接触大气中的水汽、氧气等成分。
[0003] 目前市面上的OLED显示产品均使用玻璃盖封装的方式防止水氧侵蚀,封装效果可以满足要求,但无法实现弯曲甚至弯折显示。同时,为消除环境光的影响、提高对比度,OLED显示器还使用了圆偏光片贴附在OLED器件的表面,再加上触控膜组,导致屏体的整体厚度较大,不能凸显OLED自发光薄型显示及可柔性弯曲使用的优势,比如由于圆偏光片、玻璃封盖和触控膜组的层叠设置,使工艺流程繁杂,且会导致OLED器件不在显示结构的中心位置,导致柔性弯折应较大,进而影响弯折柔性OLED的效果及寿命。另外,上述各层之间采用粘附层进行粘接,每次粘接时需要进行精密对位,否则容易带来对位偏差,导致成品良率下降。

发明内容

[0004] 本发明的主要目的在于提供一种综合功能膜、其制作方法及具有其的OLED显示面板,以解决现有技术中OLED显示面板的圆偏光片、水氧阻隔层、触控层以及保护盖分开设置导致其工艺流程繁杂和良率低的问题。
[0005] 为了实现上述目的,根据本发明的一个方面,提供了一种综合功能膜,包括:线偏光片,包括线偏光功能片层和接触设置在线偏光功能片层一侧表面上的硬化保护层,硬化保护层的硬化强度在铅笔硬度5H以上;1/4波片,设置在线偏光功能片层的远离硬化保护层的表面上;具有阻隔功能的触控膜组,接触设置在1/4波片的远离线偏光功能片层的表面上。
[0006] 进一步地,上述硬化保护层的厚度为1~10μm,优选形成硬化保护层的材料为聚酯类树脂,进一步优选为聚丙烯酸酯或聚酯丙烯酸酯。
[0007] 进一步地,上述触控膜组包括:预处理层,接触设置在1/4波片的远离线偏光功能片层的表面上;水氧阻隔层,接触设置在预处理层的远离1/4波片的表面上;保护层,接触设置在水氧阻隔层的远离预处理层的表面上;第一触控功能层,接触设置在保护层的远离水氧阻隔层的表面上。
[0008] 进一步地,上述触控膜组还包括:平坦层,接触设置在保护层的远离水氧阻隔层的表面上,并覆盖第一触控功能层;以及第二触控功能层,接触设置在平坦层的远离保护层的表面上。
[0009] 进一步地,上述触控膜组包括:第一触控功能层,接触设置在1/4波片的远离线偏光功能片层的表面上;预处理层,接触设置在1/4波片的远离线偏光功能片层的表面上,并覆盖第一触控功能层;水氧阻隔层,接触设置在预处理层的远离线偏光功能片层的表面上。
[0010] 进一步地,上述触控膜组还包括:平坦层,接触设置在水氧阻隔层的远离预处理层的表面上;以及第二触控功能层,接触设置在平坦层的远离水氧阻隔层的表面上。
[0011] 进一步地,形成上述预处理层的材料为SiNx、SiOx、HMDSO或聚酯,优选预处理层的厚度为1~3μm;优选形成保护层的材料为SiNX、SiOX、HMDSO或聚酯,进一步优选保护层的厚度为1~3μm,优选形成水氧阻隔层的材料为Al2O3、TiO2、SiN、SiO2、HMDSO或聚酯,进一步优选水氧阻隔层的厚度为10nm~5μm。
[0012] 进一步地,形成上述第一触控功能层和第二触控功能层的材料各自独立地选自ITO、金属网格、纳米石墨烯和纳米管中的任意一种,优选第一触控功能层的厚度为10nm~1μm,优选第二触控功能层的厚度为10nm~1μm;优选形成平坦层的材料为有机树脂材料,进一步优选平坦层的厚度为5~50μm。
[0013] 进一步地,上述1/4波片通过第一粘附层粘接在线偏光功能片层上。
[0014] 进一步地,上述综合功能膜还包括第二保护层,第二保护层设置在触控膜组的远离1/4波片的表面上。
[0015] 为了实现上述目的,根据本发明的另一个方面,提供了一种上述的综合功能膜的制作方法,该制作方法包括:步骤S1,制作综合功能膜的线偏光片,线偏光片包括线偏光功能片层和接触设置在线偏光功能片层一侧表面上的硬化保护层,硬化保护层的硬化强度在铅笔硬度5H以上;步骤S2,在综合功能膜的1/4波片的一侧表面上设置具有水氧阻隔功能的触控膜组;步骤S3,将具有触控膜组的1/4波片设置在线偏光功能片层的远离硬化保护层的表面上,且触控膜组远离线偏光功能片层设置。
[0016] 进一步地,上述制作综合功能膜的线偏光片的步骤包括:在线偏光功能片层的一侧表面上通过真空膜或涂布方法设置聚酯类树脂材料,形成硬化保护层。
[0017] 进一步地,上述步骤S2包括:步骤S21,采用CVD、PVD、iCVD或涂布的方式在1/4波片的一侧表面上形成预处理层;步骤S22,在预处理层的远离1/4波片的表面上设置水氧阻隔材料,形成水氧阻隔层;步骤S23,采用CVD、PVD、iCVD或涂布的方式在水氧阻隔层上形成保护层;步骤S24,在保护层上设置第一触控功能材料;步骤S25,对第一触控功能材料进行图形化处理,得到第一触控功能层;优选地,步骤S26,在保护层上采用CVD、iCVD或涂布的方式形成覆盖第一触控功能层的平坦层;优选地,步骤S27,在平坦层上设置第二触控功能材料;以及优选地,步骤S28,对第二触控功能材料进行图形化处理,得到第二触控功能层。
[0018] 进一步地,上述步骤S2包括:步骤S21’,在1/4波片的一侧表面上设置第一触控功能材料;步骤S22’,对第一触控功能材料进行图形化处理,得到第一触控功能层;步骤S23’,在1/4波片的一侧表面上形成覆盖第一触控功能层的预处理层;步骤S24’,在预处理层上设置水氧阻隔材料,形成水氧阻隔层;优选地,步骤S25’,在水氧阻隔层上采用CVD、iCVD或涂布的方式形成平坦层;优选地,步骤S26’,在平坦层上设置第二触控功能材料;以及优选地,步骤S27’,对第二触控功能材料进行图形化处理,得到第二触控功能层。
[0019] 进一步地,上述水氧阻隔材料采用CVD、PVD、iCVD或ALD的方式设置。
[0020] 进一步地,上述触控功能材料采用溅射、涂布或印刷的方式进行设置,优选真空溅射。
[0021] 进一步地,上述制作方法采用第一粘附层将具有触控膜组的1/4波片与线偏光功能片层粘接。
[0022] 根据本发明的又一个方面,提供了一种OLED显示面板,包括OLED组件和保护结构,该保护结构为上述的综合功能膜,且线偏光片远离OLED组件设置。
[0023] 进一步地,上述OLED组件包括:柔性衬底,具有第一表面和第二表面;水氧阻隔膜,粘接在柔性衬底的第一表面上;OLED器件,设置在柔性衬底的第二表面上;OLED保护层,设置在柔性衬底的第二表面上,并覆盖OLED器件设置,综合功能膜通过第二粘附层粘结在OLED保护层上。
[0024] 应用本发明的技术方案,线偏光片的硬化保护层的铅笔硬度在5H以上,因此可以作为封装用的保护盖(cover lens)。具有上述结构的综合功能膜,以线偏光片作为保护盖,既省去了现有技术中作为保护盖使用的玻璃盖使得OLED显示面板的厚度减小,而且线偏光片本身为柔性结构,因此利用其实现了对OLED显示面板的柔性封装。进一步地,将具有阻隔功能的触控膜组接触设置在1/4波片上,将水氧阻隔功能、触控功能和偏光功能一体化,从而省去了现有技术的粘附层,减小了封装结构的厚度,而且在制作OLED显示面板时只需将该综合功能膜设置在OLED组件上即可,简化了工艺流程,保证了成品良率。附图说明
[0025] 构成本申请的一部分的说明书附图用来提供对本发明的进一步理解,本发明的示意性实施例及其说明用于解释本发明,并不构成对本发明的不当限定。在附图中:
[0026] 图1示出了根据本发明一种典型实施方式提供的综合功能膜的结构示意图;
[0027] 图2示出了根据本发明一种优选实施例提供的综合功能膜的结构示意图;
[0028] 图3示出了根据本发明一种优选实施例提供的综合功能膜的结构示意图;
[0029] 图4示出了根据本发明一种优选实施例提供的综合功能膜的结构示意图;
[0030] 图5示出了根据本发明一种优选实施例提供的综合功能膜的结构示意图;以及[0031] 图6示出了根据本发明又一种典型实施方式提供的OLED显示面板的结构示意图。
[0032] 其中,上述附图包括以下附图标记:
[0033] 1、线偏光片;11、线偏光功能片层;12、硬化保护层;2、第一粘附层;3、1/4波片;4、触控膜组;41、预处理层;42、水氧阻隔层;43、保护层;44、第一触控功能层;45、平坦层;46、第二触控功能层;100、OLED组件;200、保护结构;101、柔性衬底;102、水氧阻隔膜;103、OLED器件;104、OLED保护层;300、第二粘附层。

具体实施方式

[0034] 需要说明的是,在不冲突的情况下,本申请中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。下面将参考附图并结合实施例来详细说明本发明。
[0035] 如背景技术所记载的,现有的圆偏光片、水氧阻隔层、触控层和保护盖分开设置,在制作OLED显示面板时需要逐层粘接,导致工艺繁杂且良率较低,为了解决上述问题,在本申请一种典型的实施方式中,提供了一种综合功能膜,如图1所示,该综合功能膜包括线偏光片1、1/4波片3和具有阻隔功能的触控膜组4,线偏光片1包括线偏光功能片层11和接触设置在线偏光功能片层11一侧表面上的硬化保护层12,该硬化保护层12的铅笔硬度在5H以上;1/4波片3设置在线偏光功能片层11的远离硬化保护层12的表面上;触控膜组4接触设置在1/4波片3的远离线偏光功能片层11的表面上。
[0036] 由于线偏光片1的硬化保护层的铅笔硬度在5H以上,因此可以作为封装用的保护盖(cover lens)。具有上述结构的综合功能膜,以线偏光片1作为保护盖,既省去了现有技术中作为保护盖使用的玻璃盖使得OLED显示面板的厚度减小,而且线偏光片1本身为柔性结构,因此利用其实现了对OLED显示面板的柔性封装。进一步地,将具有阻隔功能的触控膜组4接触设置在1/4波片3上,将水氧阻隔功能、触控功能和偏光功能一体化,从而省去了现有技术的粘附层,减小了封装结构的厚度,而且在制作OLED显示面板时只需将该综合功能膜设置在OLED组件上即可,简化了工艺流程,保证了成品良率。
[0037] 进一步地,为了提供使用寿命较长的保护盖,优选硬化保护层12的厚度为1~10μm。本申请优选形成硬化功能层的材料为聚酯类树脂,优选为聚氨酯丙烯酸酯或聚酯丙烯酸酯。
[0038] 为了使本申请的综合功能膜具有较好的水氧阻隔功能,在本申请一种优选的实施例中,如图2所示,上述触控膜组4包括预处理层41、水氧阻隔层42、保护层43和第一触控功能层44,如图1所示,预处理层41接触设置在1/4波片3的远离线偏光功能片层11的表面上;水氧阻隔层42接触设置在预处理层41的远离1/4波片3的表面上;保护层43接触设置在水氧阻隔层42的远离预处理层41的表面上;第一触控功能层44接触设置在保护层43的远离水氧阻隔层42的表面上。预处理层41的设置为水氧阻隔层42提供平整、具备亲和力和较为致密的接触表面,保护层43能够避免在制作第一触控功能层44的过程中水氧阻隔层42被破坏,从而能够优化水氧阻隔层42的水氧阻隔效果。且预处理层41和保护层43也能够起到一定的水氧阻隔功能,因此进一步改善了对OLED器件的水氧阻隔效果。本申请的触控膜组4可以包括两层触控功能层,优选如图3所示,上述触控膜组4还包括平坦层45和第二触控功能层46,平坦层45接触设置在保护层43的远离水氧阻隔层42的表面上,并覆盖第一触控功能层44;
第二触控功能层46接触设置在平坦层45的远离保护层43的表面上。
[0039] 为了使本申请的综合功能膜具有较好的水氧阻隔功能,在本申请另一种优选的实施例中,如图4所示,上述触控膜组4包括第一触控功能层44、预处理层41和水氧阻隔层42,第一触控功能层44接触设置在1/4波片3的远离线偏光功能片层11的表面上;预处理层41接触设置在1/4波片3的远离线偏光功能片层11的表面上,并覆盖第一触控功能层44;水氧阻隔层42接触设置在预处理层41的远离线偏光功能片层11的表面上。同样,预处理层41的设置为水氧阻隔层42提供平整、具备亲和力和较为致密的接触表面,且预处理层41也能够起到一定的水氧阻隔功能,因此进一步改善了对OLED器件的水氧阻隔效果。
[0040] 本申请的触控膜组4可以包括两层触控功能层,优选如图5所示,上述触控膜组4还包括平坦层45和第二触控功能层46,平坦层45接触设置在水氧阻隔层42的远离预处理层41的表面上;第二触控功能层46,接触设置在平坦层45的远离水氧阻隔层42的表面上。平坦层45不仅为第二触控功能层46提供了平坦表面,而且能够避免在制作第二触控功能层46的过程中水氧阻隔层42被破坏,从而能够优化水氧阻隔层42的水氧阻隔效果。
[0041] 本申请预处理层41的作用是为后续形成的水氧阻隔层42提供平整、具备亲和力且较为致密的表面,因此凡是能够起到上述作用且不会对原有功能产生负面影响的材料均可用于形成预处理层41,优选形成预处理层41的材料为SiNx、SiOx、HMDSO或聚酯。在保证起到上述作用的基础上,为了进一步减小该综合功能膜的厚度,优选预处理层41的厚度为1~3μm。
[0042] 形成本申请的水氧阻隔层42的材料均可采用本领域的常规应用材料,优选形成水氧阻隔层42的材料为Al2O3、TiO2、SiN、SiO2、HMDSO或聚酯。同样地,在保证水氧阻隔功能效果的前提下,为了进一步减小综合功能膜的厚度,优选水氧阻隔层42的厚度为10nm~5μm。
[0043] 形成第一触控功能层44和第二触控功能层46的材料各自独立地选自ITO、金属网格、纳米银、石墨烯碳纳米管中的任意一种。同样地,在保证触控效果的前提下,为了进一步减小触控膜组4的厚度,优选第一触控功能层44的厚度为10nm~1μm,第二触控功能层46的厚度为10nm~1μm。
[0044] 本申请保护层43的作用是为了保护水氧阻隔层42,因此只要能够实现该保护作用且不会对原有功能产生负面影响的材料均可作为保护层43的原料,优选形成保护层43的材料为SiNX、SiOX、HMDSO或聚酯。同样地,在保证保护效果的基础上,为了进一步减小该多功能膜的厚度,优选保护层43的厚度为1~3μm。同样地,本申请的平坦层45的作用是为第二触控功能层46提供平坦表面,因此只要能够实现该功能且不会对原有功能产生负面影响的材料均可作为平坦层45的原料,优选形成平坦层45的材料为有机树脂材料,进一步优选该平坦层45的厚度为5~50μm。
[0045] 在制作过程中,为了保护1/4波片3,优选上述1/4波片3的远离触控膜组4的表面上设置有第一保护层。
[0046] 在本申请一种优选的实施例中,上述1/4波片3通过第一粘附层2粘接在线偏光功能片层11上。该第一粘附层2采用本领域常规的聚丙烯酸类粘附材料制作即可。
[0047] 此外,为了避免本申请综合功能膜在储存、运输或安装时的损伤,优选综合功能膜还包括第二保护层,第二保护层设置在触控膜组4的远离1/4波片3的表面上。在组装之后该第二保护层可以去除。上述的第一保护层和第二保护层一般为PET或PE等材料。在组装之后该保护膜可以去除。
[0048] 在本申请另一种典型的实施方式中,提供了一种上述综合功能膜的制作方法,该制作方法包括:步骤S1,制作综合功能膜的线偏光片1,该线偏光片1包括线偏光功能片层11和接触设置在线偏光功能片层11一侧表面上的硬化保护层12,硬化保护层12的硬化强度在铅笔硬度5H以上;步骤S2,在综合功能膜的1/4波片3的一侧表面上设置具有水氧阻隔功能的触控膜组4;将具有触控膜组4的1/4波片3设置在线偏光功能片层11的远离硬化保护层12的表面上,且触控膜组4远离线偏光功能片层11设置。
[0049] 上述制作方法先将圆偏光功能、水氧阻隔功能、触控功能和保护盖的保护功能进行组合,实现三种功能一体化,进而在制作OLED显示面板时能够将其直接设置在已经组合好的OLED显示面板的触控膜上,简化了OLED显示面板的制作流程,且由于贴合工艺减少,从而保证了产品良率。
[0050] 如前所述,为了保证线偏光片1的线偏光效果不受硬化保护层12的影响,优选上述制作综合功能膜的线偏光片1的步骤包括在线偏光功能片层11的一侧表面上通过真空镀膜或涂布方法设置聚酯类树脂材料,形成硬化保护层12。利用单独在线偏光功能片层11上设置硬化保护层12的方式,既保证了线偏光效果,而且使得硬化保护层12的硬度可调,实现了产品性能的灵活性。
[0051] 当上述综合功能膜具有图2或图3所示结构时,优选上述步骤S2包括:步骤S21,采用CVD、PVD、iCVD或涂布的方式在1/4波片3的一侧表面上形成预处理层41;步骤S22,在预处理层41的远离1/4波片3的表面上设置水氧阻隔材料,形成水氧阻隔层42;步骤S23,采用CVD、PVD、iCVD或涂布的方式在水氧阻隔层42上形成保护层43;步骤S24,在保护层43上设置第一触控功能材料;步骤S25,对第一触控功能材料进行图形化处理,得到第一触控功能层44;优选地,步骤S26,在保护层43上采用CVD、iCVD或涂布的方式形成覆盖第一触控功能层
44的平坦层45;优选地,步骤S27,在平坦层45上设置第二触控功能材料;以及优选地,步骤S28,对第二触控功能材料进行图形化处理,得到第二触控功能层46。
[0052] 当上述综合功能膜具有图4或图5所示结构时,上述步骤S2包括:步骤S21’,在1/4波片3的一侧表面上设置第一触控功能材料;步骤S22’,对第一触控功能材料进行图形化处理,得到第一触控功能层44;步骤S23’,在1/4波片3的一侧表面上形成覆盖第一触控功能层44的预处理层41;步骤S24’,在预处理层41上设置水氧阻隔材料,形成水氧阻隔层42;优选地,步骤S25’,在水氧阻隔层42上采用CVD、iCVD或涂布的方式形成平坦层45;优选地,步骤S26’,在平坦层45上设置第二触控功能材料;以及优选地,步骤S27’,对第二触控功能材料进行图形化处理,得到第二触控功能层46。
[0053] 为了保证水氧阻隔效果,优选上述水氧阻隔材料采用CVD、PVD、iCVD或ALD的方式设置。
[0054] 进一步优选上述触控功能材料采用溅射、涂布或印刷的方式进行设置,最优选真空溅射。
[0055] 在综合功能膜的1/4波片3的一侧表面上设置水氧阻隔层42之前,为了保护1/4波片3,优选该制作方法还包括在1/4波片3的远离触控膜组4的表面上贴合第一保护层的过程。在将线偏光片1和1/4波片3组装之前去除该第一保护层。
[0056] 此外,为了避免本申请综合功能膜在储存、运输或安装时的损伤,优选在综合功能膜的1/4波片3上设置水氧阻隔层42之后,该制作方法还包括在触控膜组4的远离1/4波片3的表面上贴合第二保护层的过程。在组装之后该第二保护层可以去除。
[0057] 进一步地,本申请优选上述制作方法采用第一粘附层2将具有触控膜组4的1/4波片3与线偏光片1粘接。
[0058] 在本申请又一种典型的实施方式中,提供了一种显示面板,如图6所示,该显示面板包括OLED组件100和保护结构200,该保护结构200为本申请上述的综合功能膜,且线偏光片1远离OLED组件100设置。
[0059] 具有上述结构的综合功能膜,以线偏光片1作为保护盖,既省去了现有技术中作为保护盖使用的玻璃盖使得OLED显示面板的厚度减小,而且线偏光片1本身为柔性结构,因此利用其实现了对OLED显示面板的柔性封装。进一步地,将触控膜组4接触设置在1/4波片3上,将水氧阻隔功能、触控功能和偏光功能一体化,从而省去了现有技术的粘附层,减小了封装结构的厚度,进而使OLED器件靠近显示面板的中心,减小了柔性弯折应力,延长了显示面板的使用寿命。而且在制作OLED显示面板时只需将该综合功能膜设置在OLED组件上即可,简化了工艺流程,保证了成品良率。
[0060] 本申请的OLED组件100可以采用本领域的常规结构,如图6所示,优选OLED组件100包括柔性衬底101、水氧阻隔膜102、OLED器件103和OLED保护层104,柔性衬底101具有第一表面和第二表面;水氧阻隔膜102粘接在柔性衬底101的第一表面上;OLED器件103设置在柔性衬底101的第二表面上;OLED保护层104设置在柔性衬底101的第二表面上且覆盖OLED器件103设置,综合功能膜通过第二粘附层300粘结在OLED保护层104上。
[0061] 从以上的描述中,可以看出,本发明上述的实施例实现了如下技术效果:
[0062] 由于线偏光片的第一表面为硬化处理表面且其铅笔硬度在5H以上,因此可以作为封装用的保护盖(cover lens)。具有上述结构的综合功能膜,以线偏光片作为保护盖,既省去了现有技术中作为保护盖使用的玻璃盖使得OLED显示面板的厚度减小,而且线偏光片本身为柔性结构,因此利用其实现了对OLED显示面板的柔性封装。进一步地,将触控膜组接触设置在1/4波片上,将水氧阻隔功能、触控功能和偏光功能一体化,从而省去了现有技术的粘附层,减小了封装结构的厚度,而且在制作OLED显示面板时只需将该综合功能膜设置在OLED组件上即可,简化了工艺流程,保证了成品良率。
[0063] 以上所述仅为本发明的优选实施例而已,并不用于限制本发明,对于本领域的技术人员来说,本发明可以有各种更改和变化。凡在本发明的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本发明的保护范围之内。
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