专利汇可以提供一种硅湿法腐蚀深度的监控结构及监控方法专利检索,专利查询,专利分析的服务。并且本 发明 公开了一种 硅 湿法 腐蚀 深度的监控结构及相关监控方法。该监控结构包括形成在 单晶硅 材料上的至少两个顶面为矩形的湿法腐蚀凹槽;且至少有两个湿法腐蚀凹槽的顶面宽度分别为Wu和Wl,Wu=du/0.71,Wl=dl/0.71,du为所要监控的湿法腐蚀深度最大值,dl为所要监控的湿法腐蚀深度最小值。所述监控方法根据具有监控图形的版图对单晶 硅片 进行 各向异性 的湿法腐蚀,形成所需监控的腐蚀槽以及用于监控该腐蚀槽深度的监控结构,然后对所得监控结构进行监视,从而实现对湿法腐蚀深度的监控。本发明可以直观、便捷地监控产品腐蚀槽的腐蚀深度,成本较低,并可达到较高的监控 精度 。,下面是一种硅湿法腐蚀深度的监控结构及监控方法专利的具体信息内容。
1.一种硅湿法腐蚀深度的监控结构,其特征在于,包括:形成在单晶硅材料上的至少两个湿法腐蚀凹槽;所述湿法腐蚀凹槽顶面为矩形,其中至少有两个湿法腐蚀凹槽的顶面宽度分别为Wu和Wl,Wu=du/0.71,Wl=dl/0.71,du为所要监控的湿法腐蚀深度最大值,dl为所要监控的湿法腐蚀深度最小值。
2.根据权利要求1所述的硅湿法腐蚀深度的监控结构,其特征在于:所述单晶硅材料的腐蚀面为(100)晶面。
3.根据权利要求1所述的硅湿法腐蚀深度的监控结构,其特征在于:所述湿法腐蚀凹槽数量为n个,n≥3。
4.根据权利要求3所述的硅湿法腐蚀深度的监控结构,其特征在于:n个所述湿法腐蚀凹槽的顶面宽度均在小于等于Wu并大于等于Wl的范围内。
5.根据权利要求4所述的硅湿法腐蚀深度的监控结构,其特征在于:n个所述湿法腐蚀凹槽按照顶面宽度由Wl到Wu依次递增的顺序排列。
6.根据权利要求3、4、5中任一项所述的硅湿法腐蚀深度的监控结构,其特征在于:n个所述湿法腐蚀凹槽相互紧密排列。
7.一种具有硅湿法腐蚀深度监控图形的掩模板,其特征在于:所述掩模板上包括监控图形,所述监控图形包括至少两个用于湿法腐蚀的矩形的窗口;其中至少有两个窗口的宽度分别为Wu和Wl,Wu=du/0.71,Wl=dl/0.71,du为所要监控的湿法腐蚀深度最大值,dl为所要监控的湿法腐蚀深度最小值。
8.根据权利要求7所述的具有硅湿法腐蚀深度监控图形的掩模板,其特征在于:所述窗口数量为n个,n≥3。
9.根据权利要求8所述的具有硅湿法腐蚀深度监控图形的掩模板,其特征在于:n个所述窗口的宽度均在小于等于Wu并大于等于Wl的范围内。
10.根据权利要求9所述的具有硅湿法腐蚀深度监控图形的掩模板,其特征在于:n个所述窗口按照宽度由Wl到Wu依次递增的顺序排列。
11.根据权利要求8、9、10中任一项所述的具有硅湿法腐蚀深度监控图形的掩模板,其特征在于:n个所述窗口相互紧密排列。
12.一种硅湿法腐蚀深度的监控方法,其特征在于,包括以下步骤:
步骤一、在版图中加入监控图形,所述监控图形包括:至少两个用于湿法腐蚀的矩形的窗口,其中至少有两个窗口的宽度分别为Wu和Wl,Wu=du/0.71,Wl=dl/0.71,du为所要监控的湿法腐蚀深度最大值,dl为所要监控的湿法腐蚀深度最小值;
步骤二、根据具有监控图形的版图对单晶硅片进行各向异性的湿法腐蚀,在单晶硅片上形成所需监控的腐蚀槽以及用于监控该腐蚀槽深度的监控结构;其中,所述监控结构是根据所述监控图形腐蚀而成,包括至少两个顶面宽度分别为Wu和Wl的湿法腐蚀凹槽;
步骤三、在步骤二所述湿法腐蚀过程中或过程后,对监控结构进行监视,根据监视结果确定所需监控的腐蚀槽的实际腐蚀深度范围,从而实现对湿法腐蚀深度的监控;
其中,根据监视结果确定所需监控的腐蚀槽的实际腐蚀深度范围的方法为:当顶面宽度为Wu和Wl的湿法腐蚀凹槽的底部均为平面结构时,则确定所需监控的腐蚀槽的实际腐蚀深度d实际<dl;当顶面宽度为Wu的湿法腐蚀凹槽的底部为平面结构,而顶面宽度为Wl的湿法腐蚀凹槽的底部为线型结构时,则确定所需监控的腐蚀槽的实际腐蚀深度d实际满足du>d实际≥dl;当顶面宽度为Wu和Wl的湿法腐蚀凹槽的底部均为线型结构时,则确定所需监控的腐蚀槽的实际腐蚀深度d实际≥du。
13.根据权利要求12所述的硅湿法腐蚀深度的监控方法,其特征在于:所述监控图形中的窗口数量为n个,n≥3。
14.根据权利要求13所述的硅湿法腐蚀深度的监控方法,其特征在于:n个所述窗口的宽度均在小于等于Wu并大于等于Wl的范围内。
15.根据权利要求14所述的硅湿法腐蚀深度的监控方法,其特征在于:n个所述窗口按照宽度由Wl到Wu依次递增的顺序排列。
16.根据权利要求13、14、15中任一项所述的硅湿法腐蚀深度的监控方法,其特征在于:n个所述窗口相互紧密排列。
17.根据权利要求13所述的硅湿法腐蚀深度的监控方法,其特征在于:当所述监控图形中的窗口数量为n个,n≥3时,若其中顶面宽度为Wx的湿法腐蚀凹槽的底部为平面结构,而顶面宽度为Wy的湿法腐蚀凹槽的底部为线型结构时,则确定所需监控的腐蚀槽的实际腐蚀深度d实际满足dx>d实际≥dy,dx=0.71Wx,dy=0.71Wy。
18.根据权利要求12所述的硅湿法腐蚀深度的监控方法,其特征在于:所述单晶硅片的腐蚀面为(100)晶面。
19.根据权利要求12所述的硅湿法腐蚀深度的监控方法,其特征在于:所述湿法腐蚀采用腐蚀速率在硅(100)晶面上快于在硅(111)晶面上的各向异性腐蚀剂。
20.根据权利要求12所述的硅湿法腐蚀深度的监控方法,其特征在于:步骤三采用显微镜对监控结构进行监视。
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