表面清洁装置
专利汇可以提供表面清洁装置专利检索，专利查询，专利分析的服务。并且本 发明 涉及一种包括清洁头的表面清洁装置，所述清洁头具有：与待清洁第一表面邻接的主体；和可拆卸地连接到所述主体的连接部分的头部结构；其中在第一配置中，头部结构被连接到主体，从而使得头部结构与待清洁的第一表面或第二表面邻接，并且清洁头限定了第一 覆盖 区域，在第二配置中，头部结构从主体分离并且清洁头限定了第二覆盖区域。，下面是表面清洁装置专利的具体信息内容。
1.一种表面清洁装置，其包括清洁头，所述清洁头具有：
主体，其与待清洁的第一表面邻接；以及
头部结构，其可拆卸地连接到所述主体的连接部分；
其中在第一配置中，所述头部结构被连接到所述主体，从而使得所述头部结构与待清洁的所述第一表面或第二表面邻接，并且所述清洁头限定了第一覆盖区域；以及在第二配置中，所述头部结构从所述主体分离并且所述清洁头限定了第二覆盖区域。
2.根据权利要求1所述的装置，其中在所述第一配置中，所述头部结构与所述第一表面邻接并且清洁头限定了与所述第一表面邻接的第一覆盖区域；以及在所述第二配置中，所述清洁头限定了与所述第一表面邻接的第二覆盖区域。
3.根据权利要求1所述的装置，其中在所述第一配置中，所述头部结构与第二表面邻接并且所述清洁头限定了与所述第一表面和第二表面邻接的第一覆盖区域；以及在所述第二配置中，所述清洁头限定了与所述第一表面邻接的第二覆盖区域。
4.根据前述权利要求中任一项所述的装置，包括多个头部结构，每一个所述头部结构能够由用户选择而被连接到所述主体的连接部分。
5.根据权利要求4所述的装置，其中当每一个单独的头部结构连接到所述主体时所形成的清洁头限定了与表面邻接的覆盖区域，所述覆盖区域不同于其它头部结构形成的相应的覆盖区域。
6.根据权利要求4或5所述的装置，其中所述主体包括多个连接部分，每一个所述连接部分都能够被连接到相应的头部结构。
7.根据前述权利要求中任一项所述的装置，其中所述第一覆盖区域大体上是三角形的。
8.根据前述权利要求中任一项所述的装置，其中所述头部结构的覆盖区域大体上是新月形的。
9.根据前述权利要求中任一项所述的装置，其中所述头部结构能够接合在所述主体的最前面位置。
10.一种表面清洁装置，其包括清洁头，所述清洁头具有：
主体，其与待清洁表面邻接；以及
头部结构，其连接到所述主体；
其中所述头部结构可在第一位置与第二位置之间相对于所述主体移动；在所述第一位置中，所述头部结构与待清洁表面邻接；在所述第二位置中，所述头部结构相对于待清洁表面倾斜或与待清洁表面隔开。
11.根据权利要求10所述的装置，其中在所述第二位置所述头部结构是大体直立的。
12.根据权利要求10或11所述的装置，包括固定机构，其能够操作以在所述第一位置和所述第二位置中的一个或两个相对于所述主体固定所述头部结构。
13.根据权利要求10至12中任一项所述的装置，其中所述头部结构通过枢转机构连接到所述主体。
14.根据权利要求13所述的装置，其中所述枢转机构能够由用户通过手或脚操作，并且被定位在所述清洁头的所述主体上。
15.根据权利要求13所述的装置，其中所述装置包括杆或手柄，并且其中所述枢转机构是用户能够通过位于所述手柄或杆上的控制器操作的。
16.根据前述权利要求中任一项所述的装置，其中所述清洁头包括材料垫，其覆盖所述主体的覆盖区域的一部分。
17.根据权利要求16所述的装置，其中所述垫或另一个垫覆盖所述头部结构的覆盖区域的一部分。
18.根据权利要求16或17所述的装置，其中所述垫包括吸收性材料。
19.根据前述权利要求中任一项所述的装置，还包括流体储存容器。
20.根据权利要求19所述的装置，其中所述流体存储容器是储水容器并且其中所述装置包括：
蒸汽发生器，其与所述储水容器连通，所述蒸汽发生器包括加热元件；以及流体通道，其用于从所述蒸汽发生器引导蒸汽到所述装置的清洁头。
21.根据权利要求20所述的装置，其中所述清洁头限定了用于从所述蒸汽发生器接收蒸汽的体积空间。
22.根据权利要求21所述的装置，其中所述头部结构限定了用于接收来自所述蒸汽发生器的蒸汽的第二体积空间，并且其中所述装置包括另一个流体通道，所述另一个流体通道将来自蒸汽发生器的蒸汽引导到所述第二体积空间。
23.根据权利要求20至22中任一项所述的装置，还包括将水从所述储水容器送到所述蒸汽发生器的泵。
24.根据权利要求4所述的装置，其中头部结构中的每一个都包括垫，其覆盖所述头部结构的覆盖区域的一部分，每个头部结构的所述垫具有与其它头部结构相应的垫不同的磨损性。
25.一种大体上如参照附图所述的并且如在附图中示出的装置。
26.本文和/或附图中说明的任何新颖特征或特征的新颖组合。
表面清洁装置
技术领域
背景技术
发明内容
具体实施方式
62。头部结构64在第二位置可以是大体直立的，以使得头部结构64在下降的位置和第二位置之间枢转。在下降的位置中，头部结构64面对与主体62邻接的第一表面(即地板)。在第二位置中，头部结构64可以被定位成面对相对于地板大体是直立的第二表面(例如墙壁)。
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